ドープ酸化金属皮膜を作製する方法であり、ステップ：
（ａ）真空槽内に半導体基板を準備する；（ｂ）不活性キャリアガスの存在下で前記槽内に少なくとも金属（Ｍ）、酸素（Ｏ）およびドーパントイオンを含むプラズマを発生させる；（ｃ）前記プラズマから前記基板上にドープ酸化金属（ＭＯ）皮膜を形成する；および（ｄ）ステップ（ｃ）の間、前記基板上にｎ型ＭＯ皮膜およびｐ型ＭＯ皮膜の少なくとも１つを形成するために、前記プラズマ内の前記ドーパントイオンに対するＯイオンの量を制御する、を含む、前記方法。ドープ酸化金属皮膜を作製するシステムもまた開示する。
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【課題】非晶質透明導電膜のアンカー効果を高めて接着力を向上させ、耐久性に優れた透明導電膜を得、また、ＡＣＦや検査用プローブとの接触抵抗を低減可能な透明導電膜を得ることを目的とする。
【解決手段】表面粗さの最大値であるRmaxの値が、１０ｎｍ以上であることを特徴とする非晶質透明導電膜を提供する。この非晶質透明導電膜と異方導電フィルム（ＡＣＦ）との間、及びこの非晶質透明導電膜と検査用プローブとの間、等に生じる接触抵抗を小さな値にすることができる。また、この非晶質透明明導電膜は、アンカー効果を従来より大きくでき、その結果、従来より耐久性の向上を図ることができる。
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【課題】この発明は、高輝度であり、長寿命の無機薄膜EL素子を提供することにある。
【解決手段】 ガラス基板上に透明導電膜を備え、該透明導電膜の上に第一の絶縁層膜を備え、該第一の絶縁層膜の上に、無機発光物質を含む発光層膜を備え、該発光層膜表面を覆い形成された第二の絶縁層膜を備え、該第二の絶縁層膜の上に背面電極を備えた無機薄膜ＥＬ素子において、該発光層膜の膜組織がランダムに配向した平均結晶粒径１００ｎｍ以下の微小結晶からなっており、膜の密度が９５％以上であることを特徴とする無機薄膜ＥＬ素子とする。 （もっと読む）

【課題】 プラズマによる撥水処理層の成形手段に真空中の高密度プラズマ環境を形成することによって、効率よくかつ強固に撥水処理層を形成できるようにした、超撥水膜の製造方法および製造装置並びにその製品の提供。
【解決手段】 有機ケイ素モノマーをプラズマによって重合し基材２に膜形成させる方法において、高密度プラズマを用いる。 （もっと読む）

スピン塗布によりレジストの被膜を形成する場合、無駄となってしまうレジスト材料が存在し、さらに、必要に応じて端面洗浄の工程が増えてしまう。また、真空装置を用いて、基板上に薄膜を成膜する際には、チャンバー内を真空にする特別な装置や設備が必要で、製造コストが高くなってしまう。本発明は、絶縁表面を有する基板上に、ＣＶＤ法、蒸着法又はスパッタ法により選択的に導電層を形成するステップと、前記導電層に接するように、組成物を吐出してレジストマスクを形成するステップと、前記レジストマスクを用いて、大気圧又は大気圧近傍下で、プラズマ発生手段により前記導電層をエッチングするステップと、大気圧又は大気圧近傍下で、前記プラズマ発生手段により前記レジストマスクをアッシングするステップを有することを特徴とする。上記特徴により、材料の利用効率を向上させて、製造コストの低減を実現する。
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【課題】 ＯＬＥＤ表示パネルのダウンサイズ化を図れると共に高信頼性を確保でき、しかも装置の稼働率の向上を図れ、ランニングコストも削減できる極めて生産性・コスト性に秀れた有機ＥＬ素子の製造装置を提供ことである。
【解決手段】 基板11上に陽極12ａと、少なくとも一層以上の有機材料層を積層して成る有機発光層12ｂと、陰極12ｃとを順次積層して形成される発光部12上に、この発光部12を封止する封止膜13を形成して成る有機ＥＬ素子の製造装置であって、前記封止膜13を基板11の略全面に積層成膜する封止膜形成機構と、基板11上に積層された封止膜13若しくは有機材料層の一部にイオンビームを照射して、この基板11上の封止膜13若しくは有機材料層の一部を除去する薄膜除去機構とを備えたものである。 （もっと読む）

【課題】本発明は、有機エレクトロルミネッセンス素子の有機発光媒体層上に透明電極をプラズマ成膜する際に、有機発光媒体層にダメージを与えない透明電極成膜装置、製造方法を提供し、高発光効率の有機エレクトロルミネッセンス素子を提供することを課題とする。
【解決手段】本発明は、プラズマ成膜装置のプラズマ発生部５と積層基板２の間に開口部を有する導電体６ａと可動性遮蔽板６ｂからなる遮蔽部６を設けることで、プラズマ発生部から飛来するプラズマ粒子を遮蔽し積層基板をプラズマダメージから保護することができる有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法及び製造装置を提供する。 （もっと読む）

【課題】 薄膜を形成した後の基板の湾曲が少ない光学物品を提供することが可能な薄膜形成方法及び薄膜形成装置を提供する。
【解決手段】 薄膜形成装置１は、基板Ｓを保持する基板ホルダ１３と、基体ホルダ１３の片面側に配置された成膜プロセス領域２０，成膜プロセス領域３０，反応プロセス領域６０と、基板ホルダ１３を挟んで成膜プロセス領域２０、成膜プロセス領域４０，反応プロセス領域６０のそれぞれ反対側に形成された成膜プロセス領域３０，成膜プロセス領域５０，反応プロセス領域７０と、を備えている。成膜プロセス領域２０，成膜プロセス領域４０，反応プロセス領域６０において形成される薄膜による基板の湾曲を、成膜プロセス領域３０，成膜プロセス領域５０，反応プロセス領域７０において基板の反対側の面に同時に薄膜を形成することで、薄膜の内部応力による基板の湾曲を相殺しつつ、基板の両面に薄膜を形成する。 （もっと読む）

露光波長の短波長化に適した低反射フォトマスクブランクを提供する。透光性基板２上に、金属を主成分とする一層又は多層の遮光膜３を有するフォトマスクブランクであって、前記遮光膜３上に、シリコンと、酸素及び／又は窒素を少なくとも含む反射防止膜６を有することを特徴とするフォトマスクブランク１。
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【課題】薄膜形成用のシャドーマスクを基板に対して平行に保持する。装置の設置面積をできるだけ小さくし、薄膜の膜厚を均一にする。
【解決手段】真空チャンバー１１０の上部に回転軸１２１を配置する。該回転軸１２１の内部に蒸発器１４０を設けて原料物質を気化させる。該回転軸１２１の下端にはガス注入器１１３を連結して、一体的に回転させる。ガス注入器１１３の下方には基板Ｓを配置し、該基板Ｓの上面にはシャドーマスク１１２を吸着させる。回転軸１２１の上部に供給されるキャリアガスは、気化された原料物質を運搬して基板Ｓの上面に付着させる。これにより、薄膜が形成される。本発明によれば、シャドーマスク１１２は基板Ｓに載置されるので、基板Ｓに対して平行に保持されることとなる。ガス注入器１１３は回転式であるため、装置の設置面積を小さくでき、かつ、薄膜の膜厚を均一にできる。 （もっと読む）

【課題】 ターゲット面上への不純物の混入、及び最終的には成膜基板への不純物の混入を防ぎ、外観特性の優れた成膜基板を提供する。
【解決手段】 プラズマ中の荷電粒子等からダメージを受けやすいシャッター機構の形状を従来の平面上の形状から、屏風型形状で、しかも板の折りたたんだ部分の角度が、ターゲット面から飛来する物質の突入角度に対して、２０度以下の入射角度となるように細かな折り込み構造手段をもったシャッター機構である。 （もっと読む）

【課題】接着力の向上された銀合金を利用して画素電極を製作することによって、画素電極の生産性を向上させ、反射率の改善も可能な有機発光素子を提供する。【解決手段】 基板上に形成される有機発光素子に関する。有機発光素子は基板上に金属酸化物を含む第１電極と、第１電極上にランタン系列とアクチニウム系列の元素からなるグループから選ばれた一つ以上の金属を添加して合金化した銀を含む第２電極と、第２電極上に金属酸化物を含む第３電極を備える画素電極を含む。 （もっと読む）

スパッタリング成膜時に基板を低温で加熱することにより結晶性ＩＴＯ透明導電薄膜が成膜される。Ｉｎ_２Ｏ_３とＳｎＯ_２との合計に対するＳｎＯ_２の重量割合が６％以下のＩＴＯターゲットを用い、スパッタリング成膜時に基板を９０〜１７０℃に加熱することにより結晶性ＩＴＯ透明導電薄膜を成膜する。基板の耐熱性に見合う低温加熱で、高強度で機械的耐久性に優れた結晶性ＩＴＯ膜を成膜することができ、成膜後のアニールが不要となる。高分子フィルム４上にこのＩＴＯ透明導電薄膜５が成膜された透明導電性フィルム及びこの透明導電性フィルムを備えるタッチパネルが提供される。
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【課題】光記録媒体（ＣＤ−ＲＷ，ＤＶＤ−ＲＡＭなど）のＡｇ合金反射膜およびそのＡｇ合金反射膜を形成するためのＡｇ合金スパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】Ｇａ：０．０５〜２．０質量％を含有し、さらにＣａ、ＢｅおよびＳｉの内の１種または２種以上を合計で０．００１〜０．１質量％を含有し、さらに必要に応じてＣｕ：０．１〜３．０質量％を含有し、残部がＡｇおよび不可避不純物からなる組成のＡｇ合金からなる光記録媒体の反射膜、並びにその反射膜を形成するためのＡｇ合金スパッタリングターゲット。 （もっと読む）

【課題】 電気的絶縁性物質を成膜する場合にも対応でき、対象とする基材上に充分安定的に成膜することができ、且つ、連続的に成膜ができ、安定的に、成膜された基材を得ることができる、圧力勾配型イオンプレーティング方法を用いた真空成膜装置、真空成膜方法を提供する。
【解決手段】 蒸着材料とこれを載置するハースとを一体的に搬送する蒸着材料搬送部を備えたもので、該蒸着材料搬送部は、蒸着材料とこれを載置するハースとを一体的に搬送することにより、蒸着材料へのプラズマビームの照射位置を変化させるものである。 （もっと読む）

【課題】電圧降下による消費電力の増大および表示性能の低下を抑制できるとともに高い発光効率を確保できる有機ＥＬ素子を提供する。
【解決手段】透明電極１０および対向電極２０の間に有機発光層を含む有機物層３０が挟持された有機ＥＬ素子１において、透明電極１０を、半導体薄膜および絶縁体薄膜の少なくともいずれか一方と金属薄膜との積層体により構成し、半導体薄膜および絶縁体薄膜を、キャリア濃度が１０²⁰ｃｍ^-3未満でありかつエネルギーギャップが２．７ｅＶ以上のものとし、半導体薄膜または絶縁体薄膜を有機物層３０と隣接させる。これにより、透明電極１０の面抵抗を小さくできるとともに、高い発光効率を確保できる。 （もっと読む）

【課題】有機ＬＥＤの製造において蒸着処理を精度よく行う。
【解決手段】蒸着のための貫通孔５４，６０，．．．を備えた蒸着マスク１０の上面には、嵌合部として台形上の凸部１５０，１５２が設けられている。また、基板１００の下面には、対応する凹部１６０，１６２が設けられている。蒸着は両者を嵌合した状態で行う。これにより、熱膨張にともなう位置ずれを防止することができる。嵌合部は、基板１０に製作されるパネルの周囲に設置してもよいし、複数の有機発光素子からなるピクセルの周囲に設置してもよい。 （もっと読む）

【課題】 熱放射線を反射する層を厚くしないで、可視光線をよく透過する基板コーティングの断熱性を改善すること。
【解決手段】 本発明は、ガラス・コーティングおよびガラス・コーティングを形成するための方法に関する。ガラス・コーティングは、ＺｎＯの第１の層と、その上に堆積されたＡｇの第２の層からなる。ＺｎＯ層上にＡｇ層を塗布する前に、ＺｎＯがイオンにより照射される。 （もっと読む）

【課題】 ガラス材のような絶縁性材料の場合は、イオンの衝撃の効果が得られないため膜と型母材の密着性が低下したり、型母材がチャージアップして異常放電が発生して表面の荒れが発生する問題点があった。
【解決手段】 ハイブリッド型、及びその製造方法で、ガラス面より、ＳｉＯ_ＸＣ_Ｙ（０＜Ｘ＜２、０＜Ｙ＜１）層、ＳｉＣ層、硬質炭素膜を順次積層した構成とする。
硬質炭素膜とハイブリッド型母材との密着力を改善する。 （もっと読む）

【課題】垂直磁気記録媒体のグラニュラー記録層において磁性粒子と非磁性粒界を適切に分離し、磁性粒子の磁気異方性を損なうことなく粒子間の磁気的相互作用を低減し、媒体ノイズを低減する。
【解決手段】ＣｏとＰｔとＣｒとを含む合金結晶粒子と、ＳｉとＯとを含む非磁性粒界を含み、記録層中のＳｉ原子数に対するＯ原子数の比率が２．５以上５以下、記録層中のＳｉ原子含有率が３〜６原子％、Ｏ原子含有率が１２〜２０原子％である垂直磁気記録媒体を用いる。また、記録層の形成時、基板中心に対し同心円状に並ぶ気体導入口より酸素を含むプロセスガスを導入することにより、記録層の媒体面内の任意の点における垂直保磁力の分布を、平均値の±１０％以下とする。 （もっと読む）