【課題】 各種光学部材などの被処理基材の表面を前処理を行うことによって、耐防汚性、耐擦傷性、耐溶剤性等に優れた防汚層を短時間に形成することが叫ばれており、この課題の解決を目的とする。
【解決手段】 被処理基材上の少なくとも片面に、防汚剤を用いて防汚層を形成する方法であって、前記防汚層を形成する前に、前記被処理基材上の少なくとも片面を前処理し、この前処理した表面に防汚層を成膜する方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】インライン形態の薄膜蒸着システムにおいて、基板を固定及び支持して鉛直蒸着を具現し、移送中微細粒子の影響を最小化してマスクの平坦度を充分に確保することができる整列システム、垂直型トレイ移送装置及びこれを具備した蒸着装置を提供すること。
【解決手段】鉛直に基板１０が固着された基板トレイ１００と、前記基板トレイ１００と整列されるように鉛直にマスク３０が固着されたマスクトレイ３００と、前記基板トレイ１００とマスクトレイ３００が締結部によって締結されるトレイホルダーと、を備える。 （もっと読む）

【課題】 電気接点材料等に要求される種々の特性を向上させ得る分散強化合金をスポット的に形成することを可能にして、高性能の電気接点材料等を低コストで提供する。
【解決手段】 本発明は、基材2の表面に、第１の金属よりなるマトリックス中に第２の金属の酸化物の粒子が分散した分散強化合金の膜3を形成する方法であって、基材2の表面に第１の金属の膜と第２の金属の膜とを少なくとも１層ずつ形成する工程と、熱処理によって第１の金属の膜と第２の金属の膜との間で相互拡散を起こさせる工程と、酸化雰囲気中での熱処理によって第２の金属を内部酸化させる工程とを含んでいる。 （もっと読む）

【課題】剥離がなく耐スパッタ性の高い保護膜を実現し高輝度で長寿命なＰＤＰを提供する。
【解決手段】前面ガラス基板１１上に表示電極１２と誘電体層１３と第一の保護膜１４と第二の保護膜１５とを備えた前面板１０と、背面ガラス基板２１上にアドレス電極２２と下地誘電体層２３と隔壁２４と蛍光体層２５とを備えた背面板２０とが、放電空間３０を介して対向配置され、第一の保護膜１４の膜密度と第二の保護膜１５の膜密度とを異ならせている。 （もっと読む）

【課題】蒸気発生源から基板への物質の流れを中断する問題、および同時に気化物質を節約する問題を解決することにある。
【解決手段】本発明は、蒸気発生源および該蒸気発生源と基板との間の蒸気バリヤを備えた基板のコーティング装置に関する。蒸気バリヤは、少なくとも気化すべき物質の気化温度以上の温度に維持される。蒸気バリヤは、可動ロッドに連結された球状閉鎖部分を備えた石英弁として実施される。この球状閉鎖部分は、第１の位置において、蒸気発生源に連結された蒸気導入チューブを閉じ、かつ第２の位置において、石英チューブをシールしている球状キャップに当接する。 （もっと読む）

【課題】 本来の形状寸法を維持しつつ、できるだけ多数回、蒸着マスクの使用を可能にすることのできる蒸着マスクのクリーニング方法を実現する。
【解決手段】 堆積物が付着した蒸着マスク１に対し、蒸着マスク１における堆積物が付着した面の振動を誘起するレーザービーム１５を照射し、蒸着マスク１から堆積物を剥離する。 （もっと読む）

【目的】 表面保護膜を複数面に備えた光学要素において、表面保護膜の成膜工数を低減できる光学要素の製造方法を提供すること。
【構成】 光学レンズの両面（光学面）に表面保護膜（撥水／防汚処理膜）を備えた光学レンズの製造方法。反射防止膜成膜室（真空室）２２内での反射防止膜成膜に続いて、表面保護膜成膜室（真空室）２４内に保持されたワーク（レンズ基材）ｗの両面に対面させた各加熱蒸発源３２、３２Ａを用いて各表面保護膜を同時的に成膜する。 （もっと読む）

【課題】プラズマガンを用いたイオンプレーティング法によるＩＴＯの成膜において、０．７ｍｍ以下の厚さの基板に成膜する際の基板温度の上昇を低減し、電気的・光学的・機械的な特性が均一なＩＴＯ透明導電膜付き基板を得る
【解決手段】プラズマガンを用いるイオンプレーティング法によりＩＴＯ透明導電膜の成膜方法において、基板が補助基板に接触されて保持され、基板がプラズマからの受ける輻射熱を補助基板に伝熱させながら基板にＩＴＯ透明導電膜を成膜する。基板が有機高分子を主とする基板の場合、厚み０．２〜１０ｍｍの補助基板を用い、基板がガラスを主とする基板の場合、厚み０．２〜５ｍｍの補助基板を用いる。 （もっと読む）

【課題】 歩留まり良く製造し、広い温度範囲にわたって、特に低温域で良好な放電応答性が得られ、更にパネル輝度の低下なしに大幅なアドレスＩＣ数を削減する。
【解決手段】 プラズマディスプレイパネルの保護膜２２を成膜するために用いられるＭｇＯ蒸着材のＭｇＯ純度が９８％以上かつ相対密度が９０％以上のＭｇＯのペレットからなる。このペレットはＧａ又はＩｎのいずれか一方又はその双方の元素を含む。またＧａを含むときＧａの濃度は５〜１００００ｐｐｍであり、Ｉｎを含むときＩｎの濃度が５〜１００００ｐｐｍである。 （もっと読む）

【課題】 構成が簡単で、小型であり、光量損失、光学ノイズ、解像度低下が少なく、低コスト化を図ることができ、耐久性が高く安定して動作する光偏向素子、該素子を備えた光偏向装置及び画像表示装置を提供する。
【解決手段】 透明な一対の基板２、３と、両基板の間隔を規制する複数のスペーサ４と、少なくとも一方の基板面に設けた無機材料から成る透明抵抗体層５と、両基板の間隔内でキラルスメクチックＣ相を形成可能な液晶層７と、キラルスメクチックＣ相の層法線方向が基板面に対して略垂直となるように液晶層７を配向させる配向膜６と、透明抵抗体層５の少なくとも二個所以上に接続した複数の電極８、９と、を備えた光偏向素子１とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、酸化物間の粒界がなく、連続した構造を有する金属酸化物膜の製造方法、及びこの金属酸化物膜を用いた、光電変換効率の高い色素増感太陽電池の製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】基材１上に、真空蒸着法により樹枝状構造を有する金属酸化物膜３を形成する金属酸化物膜３の製造方法であって、該真空蒸着法が、複数の蒸着源９を用いて、複数の方向から蒸着粒子を入射させることを特徴とする金属酸化物膜の製造方法。また、少なくとも、基材上１に透明導電層２、色素４が吸着した金属酸化物膜３及び電解質層５、透明導電層２が順次形成されてなる色素増感太陽電池１０の製造方法であって、該金属酸化物膜３が樹枝状構造を有してなり、複数の方向から蒸着粒子を入射させる、真空蒸着法により形成されてなることを特徴とする色素増感太陽電池の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】別途の電子注入層を必要とせず，且つ電子注入特性の向上したカソードを備えることが可能な有機電界発光素子及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】本発明の有機電界発光素子は，アノード１１０と，マグネシウム−カルシウム膜のカソード１８０と，アノード１１０と上記カソード１８０との間に介在し，少なくとも有機発光層１４０を備える有機機能膜Ａとを含む。 （もっと読む）

抗微生物性を持つ基板。その表面の少なくとも一つを真空下のスパッタリングの磁気的に増強された方法により付着された少なくとも一つの混合層で被覆された抗微生物性基板（ガラス、セラミックまたは金属）が記載されている。この層は金属酸化物、オキシナイトライド、オキシカーバイドまたは窒化物の中から選ばれた結合剤材料に混合された少なくとも一つの抗微生物剤を含む。この基板は熱処理が適用されなかった時でさえ抗微生物性、特に殺細菌活性を与える。もし焼戻しされた抗微生物性ガラスが必要であるなら、同じコスパッタリング法が使用されることができ、任意にアンダー層が付加されることができる。抗微生物性は焼戻し工程後でさえ維持される。 （もっと読む）

【課題】 窓枠形状のフレームにテンションを付加した状態のメタルマスクを固定した構造のメタルマスクユニットにおいて、フレームの厚さを増大させて剛性を高めることなくメタルマスクユニットに生じる反りを抑制して平面度を高める。
【解決手段】 窓枠形状のフレーム１３の表面に、縦方向及び横方向にテンションを付加したメタルマスク１１を取り付けたメタルマスクユニット１０において、フレーム１３の４辺の裏面に、テンションを付加した状態の金属テープ１７、１８を取り付けて、フレーム１３の反りを抑制する構造とする。 （もっと読む）

【課題】
ディスプレイ技術の進展に伴う高負荷の処理条件に対応できる耐候性を備え、しかも、優れた低反射特牲、優れた遮光性、及び優れた加工性を有し、且つ、環境負荷の低いブランクス又はブラックマトリックスを提供する。
【解決手段】
透明基板の表面上に直接若しくは間接に付着させて形成した遮光膜又は遮光膜と反射防止膜から成るブランクス又はブラックマトリックスにおいて、遮光膜は、遮光膜の金属成分をＮｉとＭｏとＴｉを主成分とし、Ｔｉの含有量が１０〜２５原子％である薄膜でを構成される。 （もっと読む）

【課題】非晶質酸化物を用いたセンサおよＸ線非平面イメージャ。
【解決手段】センサは透明基板上に下部電極、非晶質酸化物半導体層、上部電極で構成される。イメージャは前期センサとＴＦＴを組み合わせて構成する。Ｘ線検出にはシンチレータと組み合わせてもよい。上記膜によりＴＦＴを作製することもできる。非晶質酸化物層の作製にはパルスレーザ蒸着法を用いた。上記膜の電子キャリア濃度は１０＾１８／ｃｍ３未満であることを特徴とする。上記膜は伝導電子数の増加に伴い電子移動度が増大することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 高い発光効率を示し、かつ耐久性にも優れた有機電界発光素子を長時間、安定的に製造することができる有機電界発光素子の製造方法，及びそれを用いて製造される、高発光効率を示し、かつ耐久性にも優れた有機電界発光素子を提供する。
【解決手段】 一対の電極間に少なくとも一層の有機層を有する有機電界発光素子の有機層の製造方法であって、３座以上の配位子を有する金属錯体を少なくとも一種含有する蒸着材料を蒸着される基板に蒸着する工程を有し、該蒸着材料を交換することなく、２回以上連続して該蒸着する工程に用いることを特徴とする有機電界発光素子の有機層の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 優れた抗菌作用を有すると共に、耐変色性に優れたＡｇ−Ｃｕ合金抗菌薄膜を提供することを目的とする。
【解決手段】 Ｃｕを必須成分として含有するＡｇ−Ｃｕ合金薄膜であって、Ｃｕの組成比が、２原子％超であり、かつ、θ−２θ法を用いたＸ線回折分析におけるＡｇの（１１１）面、（２００）面、（２２０）面および（３１１）面のピーク強度の合計をＩＡｇ、Ｃｕの（１１１）面、（２００）面、（２２０）面および（３１１）面のピーク強度の合計をＩＣｕと表すとき、前記Ａｇのピーク強度合計（ＩＡｇ）に対する前記Ｃｕのピーク強度合計（ＩＣｕ）の比率（ＩＣｕ／ＩＡｇ）が０．２以下であることを特徴とするＡｇ−Ｃｕ合金抗菌薄膜。 （もっと読む）

本発明によれば、パルスｄｃ物理気相堆積プロセスによるＬｉＣｏＯ_２層の堆積が提供される。そのような堆積により、所望の＜１０１＞配向または＜００３＞配向を有するＬｉＣｏＯ_２の結晶性層の低温高堆積速度堆積を提供することが可能である。堆積のいくつかの実施形態は、固体再充電可能Ｌｉ電池のカソード層として利用しうるＬｉＣｏＯ_２膜の高速度堆積の必要性に対処するものである。本発明に係るプロセスの実施形態によれば、ＬｉＣｏＯ_２層を結晶化させるために慣例的に必要とされる高温（＞７００℃）アニール工程を省略することが可能である。本プロセスのいくつかの実施形態によれば、短時間のランプ速度の急速熱アニールプロセスを利用することにより、ＬｉＣｏＯ_２層を利用する電池を改良することが可能である。
（もっと読む）

【課題】
可視光線反射率、反射膜のガラスへの密着性、反射膜の硬度、耐高温・高湿性に関し、リアプロジェクションテレビに用いることのできる性能を有する表面鏡を提供する。
【解決手段】
ガラス基板にＣｒ膜、Ａｌ膜、ＳｎＯｘ(ただし０＜ｘ≦２)膜、ＴｉＯｙ（ただし０＜ｙ≦２）膜を、この順にスパッタリング法を用いて積層し、可視光線反射率が９０％以上で、Ａｌ膜が、Ｍｎ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｎｄの１種以上を５重量％以下でＡｌに含まれてなる表面鏡。 （もっと読む）