【課題】 輝度が高く、かつ作業性に優れた放射線像変換パネル及びその製造方法を提供することである。
【解決手段】 内部に少なくとも２以上のセルを有する蒸発源ルツボに、温度特性の異なる２種以上の蒸着材料を充填し、加熱することにより溶解、蒸発させて、支持体上に蛍光体層を形成することを特徴とする放射線像変換パネルの製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明は、化学蒸着（ＣＶＤ）システムまたは物理蒸着（ＰＶＤ）システムなどの蒸着システムの真空チャンバ内で、コーティング源の上につり下げられた遊星式回転プラットホームに基板を固定する磁気ラッチで使用する部分的に使い捨ての基板ホルダに関する。
【解決手段】この基板ホルダは、磁気ラッチに引きつけられる強磁性材料で少なくとも部分的にできている再利用可能なベースと、比較的安価で、強磁性で、容易に成形可能な材料でできており、コーティング材料の付着を促進し、コーティング温度での蒸気圧が低い使い捨てカバーとを含む。 （もっと読む）

【課題】本発明は、化学蒸着（ＣＶＤ）システムまたは物理蒸着（ＰＶＤ）システムなどの蒸着システムの真空チャンバ内で、コーティング源の上につり下げられた遊星式回転プラットホームに基板を固定する磁気ラッチに関する。
【解決手段】この磁気ラッチは永久磁石を含み、この永久磁石は、基板ホルダを引きつけるために永久磁石がラッチを磁化するラッチ位置と、永久磁石がバイパス回路内で接続されてラッチの磁化が解除され、そのため、基板ホルダが解放される非ラッチ位置との間で移動可能である。 （もっと読む）

【課題】 成膜材料の混合を行うに際して成分割合の調整を容易に行うことができ、成膜領域のずれを防ぐ。
【解決手段】 真空成膜装置の成膜源１０が、複数の成膜材料をそれぞれ収容する複数の材料収容部１１Ａ，１１Ｂと、各材料収容部１１Ａ，１１Ｂ内の成膜材料を加熱する加熱手段１２Ａ，１２Ｂと、成膜材料の原子流又は分子流を成膜材料毎に放出する放出口１３Ａ，１３Ｂと、材料収容部１１Ａ，１１Ｂと放出口１３Ａ，１３Ｂとを気密に連通する放出流路１４_１Ａ，１４_２Ａ，１４_３Ａ，１４_１Ｂ，１４_２Ｂ，１４_３Ｂとを備え、同一成膜材料を放出する単数又は複数の放出口１３Ａ，１３Ｂを一方向に延設し、該一方向に延設された放出口１３Ａ，１３Ｂの外縁を直線で結んで形成される帯状の放出領域Ｓ_１Ａ，Ｓ_１Ｂが平面的に少なくとも一部で互いに重なり合うように、放出口１３Ａ，１３Ｂを配置している。 （もっと読む）

【課題】膜厚均一性を±１％程度の範囲内に抑えるとともに、２００ｍｍ×２００ｍｍ以上の大サイズにも対応可能な、蛍光体シートの製造方法を提供すること。
【解決手段】複数の原料蒸発源を有し、前記複数の原料蒸発源のそれぞれに予め必要に応じた量の原料を充填し、前記蒸発源のそれぞれについて、前記原料が蒸発し切った時点で、当該原料蒸発源への加熱エネルギー供給を絶つことを特徴とする方法。前記複数の原料蒸発源のそれぞれが、母体構成材料を充填されるものと、これと対をなす付活剤材料を充填されるものとの互いに対をなす構成を有するものである二元蒸着の場合は、前記互いに対をなす構成を有する複数の原料蒸発源のそれぞれについて、前記母体構成材料が蒸発し切った原料蒸発源と、この母体構成材料の蒸発源と対をなす付活剤材料の蒸発源への加熱エネルギー供給を絶つことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】本発明は、マグネトロン・スパッタリング・デバイスおよび高い生産レートで基板上に材料を堆積する技法に関し、堆積した膜は予想された厚み分布を有し、装置は、非常に長期間にわたって連続して、かつ、反復して動作することが可能である。
【解決手段】本発明は、サイクル時間を減らすことによって生産の増加を実現する。コーティング・レートの増加は、遊星駆動システムを大きな陰極と結合することによって達成される。陰極直径は、遊星の直径より大きく、かつ、遊星の直径の２倍未満である。アーク放電を抑制する、陰極における低い電力密度によって低い欠陥率が得られ、一方、マスクを使用することなく、遊星に対する陰極の幾何形状によってランオフが最小になる。 （もっと読む）

【課題】 基板、特にガラス基板をコーティングするための装置のコーティングチャンバ２に少なくとも１つのスクリーン９を装着するための保持装置１２を提供する。
【解決手段】 保持装置１２は、当該保持装置１２によって保持されるスクリーン９が、当該保持装置１２の動きにより少なくともコーティングチャンバ２内における第１の位置から第２の位置に動かされ得るように構成される。保持装置１２は、スクリーン９が第１の位置から第２の位置に移動する途中に障害物を避けることを可能にするような手段１３を有する。特に、第１の位置から第２の位置への移動中に、スクリーン９は保持装置１２上に回転可能に装着される。 （もっと読む）

処理チャンバ内の基板に対面するスパッタ・ターゲットの表面上に仕事関数還元剤を導入し、酸素ガスとインサート・ガスとを処理チャンバ内に供給し、酸素ガスと不活性ガスとをイオン化することによって複数の電子を生成し、スパッタ・ターゲットから複数の陰荷電イオンを解離させ、イオン化された酸素ガスで反応した陰荷電イオンから酸化物薄膜を基板上に形成する、酸化物薄膜の形成方法。本発明は、広い範囲での応用に適しているが、特に、高充填密度、高屈折率、低応力性、低表面粗度に関して、望ましい特質を持った酸化物薄膜を形成するのに適している。 （もっと読む）

【課題】 遮蔽板の移動速度制御や位置調整に要求される精度をやみくもに高くすることなく、高い成膜速度を確保することができる成膜装置等を提供すること。
【解決手段】 基板ホルダ２１によって基板Ｗを適当な速度で自転させつつ、ターゲットユニット３３〜３６のうちいずれかを動作させて成膜処理をおこなう。その際にマスク保持装置４６により速度を制御しながら透過性を有する遮蔽マスク４１を動作させる。以上のような、処理は、例えばＭｏ用のターゲットユニット３３と、例えばＳｉ用のターゲットユニット３４とを交互に切り替えて繰り返して行われる。これにより、基板Ｗ上に多層膜ＭＬを形成することができる。 （もっと読む）

【課題】誘電体保護膜の製造方法の工夫により、ＰＤＰとしての寿命、閾値電圧、書き込み速度等を良好に維持しながら、ＰＤＰの生産性の向上を実現する。
【解決手段】ガラス基板上に電極と誘電体層とが形成された基板１０１を搬送しながら基板１０１の誘電体層上に誘電体保護膜を形成する方法において、誘電体保護膜製造装置２００を構成する成膜室２０２内に基板１０１の搬送方向に沿って誘電体保護膜を成膜するための上流側蒸着ハース２０５、下流側蒸着ハース２０６を配置し、上流側蒸着ハース２０５、下流側蒸着ハース２０６の蒸発レートを基板１０１の搬送方向の入り口側から出口側にかけて段階的に変化させて誘電体保護膜を成膜する方法からなる。 （もっと読む）

導電性スパッタリング材を用いて、スパッタリング法により、金属酸化物膜と酸化ケイ素膜との多層膜を基板の上に高速成膜して、膜の応力が緩和された多層膜付き基板とそのような低応力の多層膜付き基板を製造する方法の提供。基板上に、少なくとも金属酸化物膜と酸化ケイ素膜とを１回以上繰返し積層してなる多層膜付き基板であって、該金属酸化物膜の少なくとも１層が化学量論的組成より酸素が不足している金属酸化物ＭＯ_Ｘをターゲット材に用いてスパッタリングを行うことにより成膜されてなる酸素不足が解消された金属酸化物膜であり、かつ該多層膜の応力が−１００ＭＰａ〜＋１００ＭＰａであることを特徴とする多層膜付き基板。
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多段階基板真空処理を簡素化し、柔軟性を改善するために、ロードロックおよび処理タワーＬＬＰＴ１はロードロック装置ＬＬＡならびに処理装置ＰＭＡを含む。運搬装置ＴＡにおいて、ロードロック装置ＬＬＡは一方では外部雰囲気ＡＴと、他方では真空雰囲気Ｖと連通する。プロセスモジュール装置ＰＭＡおよび運搬装置ＴＡ間の基板のハンドリングは開放部を介して行われる。
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本発明は、シート状基板の概ね対向する主面上に薄膜を堆積させるためのコーター及びコーターの使用方法を提供する。コーターは、基板が、完全に鉛直な位置にあるのではなく、むしろ鉛直から鋭角度分だけオフセットされた鉛直オフセット構成で基板を支持するよう適合させた基板移送システムを有する。移送システムは、コーターを通って延びる基板進行路を規定する。移送システムは、基板を基板進行路に沿って搬送するよう適合されている。好ましくは、移送システムは、基板のうら主面を支持するためのサイドサポートを含む。好ましいサイドサポートは、コーティング材料が基板のうら主面上に堆積される場合に、そのようなコーティング材料が通過する少なくとも１つのパッセージを画定する。好ましくは、コーターは、基板進行路の両側のそれぞれに（例えば、コーティング材料を供給するよう適合させた）少なくとも１つのコーティング装置を含む。コーティング装置は、好ましくは、基板を基板進行路に沿って一度だけ通過させて、基板の概ね対向する両主面上にコーティングを堆積させるよう適合されている。 （もっと読む）

【課題】トップエミッション型有機ＥＬ発光素子の上面側の電極に適する低抵抗性の透明導電膜を室温で製膜する。
【解決手段】基板１の上に第１の電極２を形成し、その上に発光層３を形成し、その後、ガリウム添加酸化亜鉛を主成分とするターゲット材１１を用い、酸素ガスを含有しない雰囲気とし、スパッタ装置内空間１０にＡｒガスのフローのみを流入し、かつ基板１に対して加熱することなく、通常レベルの磁場１２を備えるスパッタ法によりガリウム添加酸化亜鉛膜をマスク１５越しに基板１の上に製膜する製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、少なくとも一つの一定の方向へ曲がる炭素ナノチューブのマトリックス構造及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明の炭素ナノチューブのマトリックス構造は基板、該基板の表面に形成された少なくとも一つの触媒塊、及び該触媒塊に成長された炭素ナノチューブのマトリックスを含み、該触媒塊の厚さは第一端部から第二端部へ漸進的に減らし、該第一端部から該第二端部への範囲中で、ある位置の厚さが好ましい厚さに寄って、該炭素ナノチューブのマトリックスは該好ましい厚さの位置から離れた方向へ曲がる。本発明は前記炭素ナノチューブのマトリックス構造の製造方法も提供する。 （もっと読む）

【課題】 金属と炭素とを含む膜における金属と炭素との組成比率の制御性を高めた成膜方法及び成膜装置を提供すること。
【解決手段】 回転体２の外周面２ａに保持され、導電性を有する板状または箔状の被成膜体１を、成膜室５ａ内の第１領域に移動させて、その第１領域に配置された少なくとも１種類の金属を含む第１ターゲット４ａから放出された金属原子を被成膜体１に付着させるステップと、被成膜体１を、成膜室５ａ内の第２領域に移動させて、その第２領域に配置された炭素を含む第２ターゲット４ｂから放出された炭素原子を被成膜体１に付着させるステップと、を交互に行うことにより金属と炭素とを含む膜を被成膜体１に形成する。 （もっと読む）

【課題】 光学ガラス系の光学部品の反射防止膜に使用されるフッ化マグネシウムの払拭による表面粒子の崩壊を阻止して微小散乱を抑えることにより、顕微鏡観察等、極微弱光を扱う観察においてＳ／Ｎ比の向上を図る
【解決手段】 ガラスからなる基板１０上に形成される反射防止膜において、２００℃以上の環境下で、前記基板上に加熱蒸着された柱状構造を有する薄膜３０と、前記薄膜上に形成された非晶質膜４０とを具備する。 （もっと読む）

【課題】 簡易な構成で、熱負荷によるガラス基板の割れなどを誘発することなく、複数枚のガラス基板から複数枚のパネルを省エネルギーのもとに調製することを可能にする、複数枚の基板への蒸着被膜の同時形成方法および当該方法を実施するための搬送トレイを提供すること。
【解決手段】 搬送トレイを、四角形状の枠体と、枠体の対向する枠辺と枠辺の間に、その両端を枠体の各枠辺と弾性部材を介して連結することでテンションを付加して架設した薄体状部材とから構成し、複数本の薄体状部材を、複数枚の基板が搬送トレイに載置されている状態を形成することができる保持部材として機能させるとともに、基板における蒸着被膜形成領域を画定するためのマスク部材として機能させ、所定の薄体状部材の所定の位置に、複数枚の基板を載置した際、隣接する基板同士を仕切るための仕切り部材を設ける。 （もっと読む）

【課題】 生産性を向上させるとともに、省スペース化した真空処理装置を提供する。
【解決手段】 基板を真空処理する真空処理室１３０と、基板を載置して搬送する基板キャリア１２と、基板を大気側と真空側間とで搬入、搬出する予備室１２０Ａ、１２０Ｂとを具備した真空処理装置において、予備室１２０Ａ、１２０Ｂと真空処理室１３０間に、基板キャリア１２を搬出入させる基板キャリアスライド室３０を設けるとともに、この基板キャリアスライド室３０は、基板キャリア１２を滞在させる最小限の２対のレール３２Ａ、３２Ｂを有し、これらのレール３２Ａ、３２Ｂを予備室１２０Ａ、１２０Ｂ、又は、真空処理室１３０に基板キャリア１２を搬出入する位置に制御する位置制御機構を備える構成とした。
この場合位置制御機構は、ボールネジ３４Ａ、３４Ｂと直動ガイド４０とで構成すると良い。 （もっと読む）

【課題】 無機酸化物の斜方蒸着膜からなる垂直配向膜を備えた液晶表示素子に好適で、配向膜の表面処理により配向の経時安定性、焼き付き現象の緩和及び耐光性を向上させることが可能な表面処理剤及びその処理方法を提供する。
【解決手段】 無機酸化物の斜方蒸着膜からなる垂直配向膜を用いた液晶表示素子に適用され、前記斜方蒸着膜の表面水酸基が、金属アルコラートで化学反応処理されていることを特徴とする。 （もっと読む）