真空チェンバーの中でOLEDデバイスの基板に有機層をコーティングするのに用いる蒸着源であって、有機材料を収容するチェンバーを画定する側壁及び底部壁並びに該側壁間に配置された開口プレート（40）を含み、該開口プレートが、気化した有機材料を放出させるための互いに離れた複数の開口部（90）を有するマニホールド（60）を含み；上記開口プレートは、電流に応答して熱を発生させる導電性材料を含み；上記有機材料をその気化温度に加熱するとともに、上記マニホールドの側壁を加熱する手段を含み；上記開口プレートを上記側壁にカップリングさせて、上記開口プレートの該開口部に隣接する支持されていない領域に熱を集める電気的絶縁体（120）を含むことにより、上記開口プレートと上記基板との間の距離を小さくして基板上のコーティングの厚さの均一性を高くすることができる蒸着源。
（もっと読む）

シリコンスパッタターゲット（２）と被成膜基板（Ｓ）を設置した成膜室（１０）内に水素ガスを導入し、該ガスに高周波電力を印加することで該成膜室内にＨα／ＳｉＨ^＊が０．３〜１．３であるプラズマを発生させ、該プラズマにてシリコンスパッタターゲット（２）をケミカルスパッタリングして基板（Ｓ）上に結晶性シリコン薄膜を形成する。比較的低温下で、安価に、安全に、良質の結晶性シリコン薄膜を形成できる。 （もっと読む）

有機材料を気化させて表面に膜を形成する方法であって、所定量の流動化した粉末形態の有機材料を供給し；その粉末化した有機材料を計量し、流動化した粉末流として第1の部材の上に誘導し；その第1の部材を加熱して流動化した上記粉末流を気化させ；気化した有機材料をマニホールド内に回収し；そのマニホールドに通じている少なくとも1つの開口部が形成された第2の部材を用意し、気化した有機材料をその第2の部材によって上記表面に誘導して膜を形成する操作を含む方法。
（もっと読む）

同時蒸発蒸着プロセスによって製造される銅インジウムガリウムジセレン化物（ＣＩＧＳ）太陽電池の組成制御のためのインライン製造装置および方法について述べる。蒸着条件は、蒸着されたＣｕ過剰全体組成が、最終ＣＩＧＳ膜であるＣｕ不足全体組成に変換されるようになっている。モリブデン層を備えた基材（２１）は、ＣＩＧＳプロセスチャンバ（７）内を一定の速度で移動する。基材上での銅豊富組成から銅不足組成への転移は、転移に関する物理パラメータ、たとえば放射を検知するセンサを使用することによって検知される。本発明の代わりの好ましい実施形態において、蒸着層中の元素の組成を検知するセンサ（２０）が提供される。センサに接続されたコントローラ（１７）は、基材の幅に渡って均一な組成および均一な厚さのＣＩＧＳ層を提供するために、蒸発物源（１１、１２、１３）からの流量を調整する。２列の蒸発物源の使用は、基材の幅に渡るＣＩＧＳ層の元素組成および厚さの調整を可能にする。 （もっと読む）

金属間バリウムアルミニウム化合物、バリウムアルミニウム合金、又は保護されたバリウム金属を含む、１又は２以上の供給源材料を提供すること、活性剤種を提供すること、硫黄含有雰囲気中で、１又は２以上の供給源材料及び前記活性剤種を、選択された基板上の発光体組成物として作用させること、を含む、チオアルミネート発光体組成物の堆積に対する物理的気相成長法である。この方法は、ＴＶの応用で要求されている高輝度及び色とともに青色薄膜エレクトロルミネセント発光体の堆積を可能にする。 （もっと読む）

本発明は、特性の異なる炭素をデバイスに適用しやすい形態で複合化した新たな炭素系材料を提供する。この炭素系薄膜は、非晶質炭素を含み、膜厚方向に伸長する複数の第１相１と、グラファイト構造を含み、上記複数の第１相１の間に介在する第２相２と、を含み、以下のａ）〜ｅ）から選ばれる少なくとも１つが成立する炭素系薄膜１０を提供する。第２相２が第１相よりも、ａ）単位体積あたり多くのグラファイト構造を含む、ｂ）密度が大きい、ｃ）電気抵抗率が低い、ｄ）第２相２の弾性率が第１相１の弾性率以上、ｅ）第２相２においてグラファイト構造の基底面が膜厚方向に沿って配向している。 （もっと読む）

【課題】 レンズの表面を傷つきにくくしつつかつ極力コストアップを避けつつ防曇防止膜をプラズマ重合により形成した車両用ランプの内面防曇用レンズを提供する。
【解決手段】 本発明の車両用ランプの内面防曇用レンズは、車両用ランプのレンズ３の内面３ｂにイオン化ガスを衝突させてプラズマ処理を施すことにより内面３ｂを活性化して活性化層を形成し、活性化層にモノマーガス６を衝突させてプラズマ重合により撥水性のプラズマ重合層７を形成し、プラズマ重合層７にイオン化ガス８を衝突させてプラズマ処理を施すことにより親水層を形成した。 （もっと読む）

容易にパターニングが可能で、かつ低コストで実現可能な低抵抗で透明性に優れた酸化スズ膜からなる透明電極の製造方法の提供。
基板上にパターニングされた酸化スズ膜を形成した透明電極の製造方法であって、基板上に光吸収性を有する酸化スズ膜を形成する工程、光吸収性を有する酸化スズ膜の一部をエッチング液で溶解してパターニングする工程、パターニングされた光吸収性を有する酸化スズ膜を加熱処理し酸化スズ膜とする工程とを含むことを特徴とする透明電極の製造方法。 （もっと読む）

【課題】 改善された光学的および電気的膜特性を有する透明で導電性の酸化物膜（ＴＣＯ膜）であり、薄膜太陽電池において使用するのに適する表面構造を有する該膜の提供。
【解決手段】 この課題は、反応性スパッタリングによって基板上に導電性で透明な酸化亜鉛膜を生成し、プロセスにヒステリシス領域を有している方法において、ドーピング剤を含有する金属Ｚｎターゲットを使用し、該ターゲットのドーピング剤含有量が２．３原子％より少なく； 基板のための加熱器を、２００℃より高い該基板温度に調整される様に調整し；
１９０ｎｍ／分より早い静的溶着速度に相当する５０ｎｍ*ｍ／分より早い動的溶着速度に調整し；そして安定な金属プロセスと不安定なプロセスとの間の転換点と安定化されたプロセス曲線の屈曲点との間に位置する、不安定なプロセス領域内で安定化した作業点を選択する各段階を含むことを特徴とする、上記方法によって解決される。 （もっと読む）

【課題】光学コーティングの腐食・傷耐性バリアを提供すること。
【解決手段】酸化可能な金属珪素化合物又は金属アルミニウム化合物を、光学コーティングの外層の１つとして使用する。この層は、未酸化又は一部酸化状態で付着され、この化学状態で、下の層を腐食から保護する。該金属化合物又は合金の層は、大多数の金属を超える硬さを有し、それにより傷からの保護を提供する。
（もっと読む）

本発明は、少なくとも１つの基板（３）、特にガラス基板をコーティングするために用いられる少なくとも１つのプロセスチャンバー（７）をクリーニングする方法および装置に関する。この発明によれば、少なくとも１つのプロセスチャンバー（７）は、コーティングプロセスの前に、調整パージガス（１５）によって洗い流される。 （もっと読む）

【課題】 ブローホールのような内部欠陥を極力減少し、反りのない大面積のアルミニウム系ターゲットを提供することを目的とする。
【解決手段】 複数のアルミニウム合金ターゲット部材からなるアルミニウム系ターゲットにおいて、摩擦撹拌接合法によりアルミニウム合金ターゲット部材を接合した接合部を備えるものとした。また、この接合部は、アルミニウム母材中に径１０μｍ以下の金属間化合物析出物が分散した組織であり、径５００μｍ以下のブローホールが０．０１〜０．１個／ｃｍ^２存在するものである。 （もっと読む）

有機、または無機ガラスからなる透明基質を含み、主要前面、および裏面を有し、少なくともひとつの前記主要面が多層抗反射コーティングを有し、前記抗反射コーティングが不足当量酸化チタンを含む少なくとも二つの可視光吸収層を有し、その可視光吸収層において可視光吸収層を含まない同様のもの（光学体）と比較して可視光の相対透過特性Ｔｖが１０％以上減少している光学体に関する発明。 （もっと読む）

本発明は、銀を主成分とし、第１の添加元素として銀より高融点の元素を少なくとも１種含んでなる反射率維持特性に優れる銀合金である。本発明において、第１の添加元素は、銅、マンガン、シリコン、ニッケル、コバルト、イットリウム、鉄、スカンジウム、ジルコニウム、ニオブ、モリブデン、タンタル、タングステンが好ましい。また、本発明では、第２の添加元素として、白金、金、ロジウム、イリジウム、ルテニウム、パラジウム、クロム、ゲルマニウム、インジウム、錫、鉛、アルミニウム、カルシウム、ガリウム、ビスマス、アンチモン、ストロンチウム，ハフニウム、ガドリニウム、サマリウム、ネオジウム、ランタン、セリウム、イッテルビウム、ユーロピウムの少なくとも１種を含むものが好ましい。 （もっと読む）

親水性、防曇性を有し、透明性に優れ、かつＵＶ光によるガス分解性を有する、可視光応答性を有するＴｉ酸化物膜およびその製造方法並びにＴｉ酸化物膜付き基体を提供する。 ガラス基板上に形成されたＴｉ酸化物膜であって、１００ｍＷ／ｃｍ^２の輝度を有するキセノンランプの光を、４００ｎｍ未満の紫外光をカットして前記Ｔｉ酸化物膜に照射しながら前記Ｔｉ酸化物膜に電圧を印加したときの電流値が、暗所における前記Ｔｉ酸化物膜に該電圧と同じ電圧を印加したときの電流値に対して１０００倍以上であるＴｉ酸化物膜。 （もっと読む）

本発明は、銀を主成分とし、第１の添加元素として銀より低融点の金属元素を少なくとも１種含んでなる光記録媒体の反射膜用の銀合金である。本発明において、第１の添加元素は、アルミニウム、インジウム、錫、ビスマス、ガリウム、亜鉛、ストロンチウム、カルシウム、ゲルマニウムが好ましい。また、本発明では、更に、第２の添加元素として、白金、金、ロジウム、イリジウム、ルテニウム、パラジウム、鉛、銅、マンガン、シリコン、ニッケル、クロム、コバルト、イットリウム、鉄、スカンジウム、ジルコニウム、チタン、ニオブ、モリブデン、タンタル、タングステン、ハフニウム、ランタン、セリウム、プラセオジム、ネオジウム、サマリウム、ユーロピウム、ガドリニウム、テルビウム、ジスプロシウム、ホルミウム、ツリウム、イッテルビウム、マグネシウム、ホウ素の少なくとも１種を含むものが好ましい。 （もっと読む）

効果的に有機ＥＬ素子を保護できるバリア膜、そのバリア膜の効率的な製造方法、及びダークスポット等の非発光部分の発生の少ない耐久性に優れた発光表示装置を提供する。
気相成長法により製造する、３成分以上からなるガラス材料を含む発光表示装置用バリア膜の製造方法。支持基板１、発光体２、及びこの製造方法により得られたバリア膜３を含んでなる発光表示装置。バリア膜は、ケイ素酸化物５０〜９０ｗｔ％、ホウ素酸化物５〜２０ｗｔ％、アルミニウム酸化物１〜１０ｗｔ％を含むガラス材料からなるターゲットを用いて、スパッタ法により製造できる。 （もっと読む）

本発明は、ターゲットの背後の長方形ターゲット(32)の短側面(32c,32d)に沿って配置される操縦導体(62,64,66,68)を含む操縦磁場源と、ターゲット(32)の対向する長側面(32a,32b)に生成された磁場間のプラズマ流を閉じ込めるターゲット(32)の長側面(32a,32b)に沿って配置された磁気焦点合わせシステムとを提供する。プラズマ焦点合わせシステムは、カソードの作用軸からプラズマ流を偏向させるのに用いられ得る。各操縦導体(62,64,66,68)は、独立して制御され得る。さらなる実施形態において、電気的に独立している操縦導体(62,64,66,68)は、カソード板(32)の対向する長側面(32a,32b)に沿って配置され、一つの導体を流れる電流を変化させることにより、アークスポットの経路を浸食溝を広げるようにシフトする。本発明は、複数の内部アノードも提供し、プラズマ流を偏向するための取り囲みアノードを任意的に提供する。 （もっと読む）

この発明は、真空成膜設備を通して搬送方向に移動可能な基板に成膜するための真空成膜設備用ゲートシステム（１）であって、入力側と出力側に、それぞれ一次真空ゲートチェンバー（２）と成膜チェンバー（４）に隣接した搬送チェンバー（３）とを備えており、その場合に、搬送方向に対して入力側の搬送チェンバーの前と、搬送方向に対して出力側の搬送チェンバーの後で精密真空に設定可能であるゲートシステムに関する。一次真空ゲートチェンバー（２）が、搬送チェンバー（３）に直接隣接しており、一次真空ゲートチェンバー（２）内で精密真空に設定可能である。
（もっと読む）

真空下で、光学ガラス基板の表面上のインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）などの透過性電極を持つ光学ガラス基板上のポリマー分散型液晶（ＰＤＬＣ）などの揮発性のゼラチン状層全体に、任意のコーティングを施すことを可能にするために、中間の応力吸収ポリマー材料の層が、先ず揮発性物質の蒸発および漏れ防止のために、揮発性のゼラチン状層を覆うように施されて、その後、超高真空下で、例えば物理的気相成長（ＰＶＤ）またはスパッタリングと呼ばれる技術を使用して、コーティングが施される。
（もっと読む）