【課題】基材上に樹脂膜を設け、その樹脂膜上に気相成膜により得られる膜を設ける積層体の製造方法おいて、気相成膜により得られる膜の被覆率の良い積層体の製造方法を提供する。
【解決手段】（ａ）：基材上に有機溶剤を塗布する工程と、（ｂ）：塗布液を塗布して塗布膜を設け、該塗布膜を硬化させて樹脂膜を成膜する工程と、（ｃ）：前記樹脂膜上に気相成膜により得られる膜を形成する工程と、（ｄ）：工程（ｂ）と工程（ｃ）を繰り返すことで、前記樹脂膜と前記気相成膜により得られる膜との組合せを繰り返し単位とする積層膜を２層以上積層する工程により積層体を製造する。 （もっと読む）

【課題】生産性の高い、高品質の機能性フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】有機膜成膜装置２２により裏面側に第１のラミネートフィルムが付与され自己支持性を有する長尺の支持体１２を送り出し、支持体１２を搬送しながら、その表面側に有機膜を形成し、有機膜の表面に第２のラミネートフィルム８２を付与し、支持体１２をフィルムロール４２にして巻き取る。 フィルムロール４２を真空成膜装置２４内に装填し、フィルムロール４２から連続的に第１のラミネートフィルムと第２のラミネートフィルム８２が付与された支持体１２を送り出す。支持体１２を搬送しながら、第２のラミネートフィルム８２を剥離し、支持体１２の有機膜上に無機膜を形成し、支持体１２をフィルムロール４８に巻き取る。 （もっと読む）

【課題】多くの製造工程を経ることなく低コストで製造可能であって、薄層で高レベルの防湿性能を発揮でき、かつ、吸湿量の制御が容易である防湿性積層体を提供する。
【解決手段】少なくとも２層の蒸着フィルム１を有し、その層間に少なくとも１層の吸湿層２が挟持されてなる防湿性積層体１０である。吸湿層２が、含水率が１％以下のバインダ樹脂と、水分吸着性物質とからなる。蒸着フィルム１が、基材の一方の面に、物理気相成長法による無機酸化物の蒸着膜と、ガスバリア性組成物による第１のガスバリア性塗布膜と、物理気相成長法または化学気相成長法による無機酸化物の蒸着膜と、ガスバリア性組成物による第２のガスバリア性塗布膜と、が順次形成されてなる。 （もっと読む）

【課題】後工程のダメージがなく、優れた特性を有する強誘電体キャパシタを提供する。
【解決手段】実施形態に係わる半導体装置の製造方法は、半導体基板の上方に、誘電体膜を下部電極と上部電極とで挟んでなるキャパシタ（２００，３００，４００）を形成する第１の工程と、Ｏ_３とＴＥＯＳを原料としたＣＶＤ法により、キャパシタ（２００，３００，４００）を覆う酸化膜（１２２，１２５，１２８）を形成する第２の工程と、ＡＬＤ法により、酸化膜（１２２，１２５，１２８）上に保護膜としてのＡｌ_２Ｏ_３（１２３，１２６，１２９）膜を形成する第３の工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】高温高湿の環境下に長期間曝された際や、レトルト処理後であっても、ガスバリア性の低下が少なく層間剥離が起こらない、優れたガスバリア性及び層間密着性を有するガスバリア性積層フィルムを提供する。
【解決手段】プラスチックフィルムの少なくとも一方の表面に、（Ａ）第１無機薄膜層、（Ｃ）ガスバリア性樹脂組成物層及び（Ｄ）第２無機薄膜層が、他の層を介して又は介さずにこの順に積層されており、（Ｃ）ガスバリア性樹脂組成物層が、エチレン−ビニルアルコール系共重合体からなるガスバリア性樹脂（ａ）と無機層状化合物（ｂ）とカップリング剤及び架橋剤から選ばれる少なくとも１種の添加剤(ｃ)とを含んでなるガスバリア性樹脂組成物から形成され、無機層状化合物（ｂ）の含有量が、ガスバリア性樹脂（ａ）、無機層状化合物（ｂ）及び前記添加剤(ｃ)の合計１００質量％中０．１質量％〜２０質量％である。 （もっと読む）

−プロセス空間雰囲気圧のプロセス空間雰囲気を用意することと、−プロセス空間雰囲気圧とは異なる外部雰囲気圧の外部雰囲気を用意することと、−外部雰囲気がプロセス空間雰囲気に開口連通する通路であって、外部雰囲気とプロセス空間雰囲気との間での基板の交換が可能である通路を設けることと、−この通路の少なくとも一部を通って延在する交換用流体の流れを生じさせるように、少なくとも１つの交換用流体注入点において交換用流体を通路に注入することと、を含む方法であって、この流れの方向は、−外部雰囲気圧がプロセス空間雰囲気圧より大きい場合は、外部に向かい、−外部雰囲気圧がプロセス空間雰囲気圧より小さい場合は、プロセス空間に向かう、方法。 （もっと読む）

【課題】 支持体上に無機膜を成膜する際に、性能を劣化させることなく安定的に搬送し、無機膜の割れ／抜け等の欠陥が少なく、生産性の高い、高品質の機能性フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】
裏面側にラミネートフィルムが付与され自己支持性を有する長尺の支持体１２を送出し機５６から成膜室５２に送り出し、真空下の成膜室５２内で支持体１２を搬送しながら、支持体１２の表面側に無機材料を成膜し、支持体１２を巻取り機５８によりフィルムロール４８に巻き取り、機能性フィルム１０を製造する。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、ガスバリア性に優れ、異なるポリエステルを積層しているにも関わらず平面性及び層間接着力に優れるポリエステル系積層フィルム、及びそれを用いた蒸着フィルムを提供することである。
【解決手段】 化学式１に示す構造を７０モル％以上有するポリグリコール酸からなる樹脂層（Ａ）と、ジカルボン酸成分とグリコール成分からなるポリエステルを主体とする樹脂層（Ｂ）を少なくとも有する積層フィルムであって、カール量が１０ｍｍ以下であることを特徴とする積層フィルムによって達成される。
【化１】
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【課題】
優れた酸素遮断性能、水蒸気遮断性能、耐水密着性を有する蒸着用二軸配向ポリエステルフィルムおよびガスバリアフィルムを提供する。
【解決手段】
上記課題は、ポリエステルフィルムの少なくとも片面に、ポリウレタン系樹脂（Ａ）を用いてなるアンカーコート層を有してなる蒸着用二軸配向ポリエステルフィルムであって、
該蒸着用二軸配向ポリエステルフィルムの示差走査熱量計測定で得られる結晶融解前の微小吸熱ピークが１８０℃以上２２０℃以下にあり、該ポリウレタン系樹脂（Ａ）がポリイソシアネート成分（Ａ１）と、ポリオール成分（Ａ２）を用いてなる樹脂であり、該ポリイソシアネート成分（Ａ１）が、芳香脂肪族ジイソシアネート（Ａ１Ａ）および／または脂環族ジイソシアネート（Ａ１Ｂ）を含み、該ポリオール成分（Ａ２）が、少なくともポリヒドロキシアルカン酸（Ａ２Ｃ）を含み、さらに、炭素数２〜６のアルカンポリオール（Ａ２Ａ）および／または炭素数２〜６のポリオキシアルキレングリコール（Ａ２Ｂ）含む蒸着用二軸配向ポリエステルフィルム、によって達成される。 （もっと読む）

【課題】低反射性を確保しながら、反射防止膜のレーザー耐性を向上させる。
【解決手段】光ファイバー等、ＳｉＯ_２を主成分とする光学基材２ａ（３２ｂ）の上に形成される３層構造の反射防止膜である。上記光学基材２ａ（３２ｂ）の上に形成される下層４１と、上記下層４１の上に形成される中間層４２と、上記中間層４２の上に形成される上層４３と、を有し、上記中間層４２はＡｌ_２Ｏ_３を用いて形成されている。上記下層４１はＴａ_２Ｏ_５を用いて形成し、上記上層４３はＳｉＯ_２を用いて形成することができる。 （もっと読む）

【課題】照明器具において、変色原因のガスを確実に遮断することで、銀反射膜が変色し難くなり、高い反射率を維持する。
【解決手段】照明器具１は、基材３と、基材３に収容される反射鏡２と光源と、を備える。反射鏡２は、基材３上に設けられ、銀を有する銀反射膜８と、銀反射膜８の片面又は両面上に設けられる酸化物膜７、９と、酸化物膜７、９の銀反射膜８が配置されている側と反対側の面上に設けられる金属膜６、１０と、を備える。酸化物膜７、９は、酸化物膜７、９とそれぞれ接している金属膜６、１０が有する金属元素と同じ金属元素の酸化物を有する。反射鏡２は、高い密着性で銀反射膜８と第１酸化物膜７と第１金属膜６が順に接し、かつ、高い密着性で銀反射膜８と第２酸化物膜９と第２金属膜１０が順に接しているので、酸化物膜７、９と、酸化物膜７、９よりも緻密な金属膜６、１０の２種類の膜で変色原因のガスを確実に遮断することができる。 （もっと読む）

【課題】高温環境下での耐摩耗性および耐溶着性に優れた被膜、その被膜を含む切削工具およびその被膜の製造方法を提供する。
【解決手段】切削工具の基材上に形成される被膜であって、第１酸化物層と第１酸化物層上に形成された第２酸化物層との積層体を含み、第１酸化物層は第２酸化物層よりも基材側に位置しており、第１酸化物層はα−アルミナ型の結晶構造を有し、第２酸化物層の組成は、以下の式（１）で表わされ、
（Ａｌ_１−ｘＺｒ_ｘ）_２Ｏ_{３（１＋ｙ）} …（１）
式（１）において、ｘは０．００１≦ｘ≦０．０７を満たす実数であり、ｙは−０．１≦ｙ≦０．２を満たす実数であって、第２酸化物層はα−アルミナ型の結晶構造およびγ−アルミナ型の結晶構造を有する被膜である。また、その被膜を含む切削工具と、その被膜の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】雨および砂の浸蝕の全期間で耐えることができ、必要な波長帯において透過性であり、かつ高速航空機における使用に耐えうる、２０μｍを超える厚いアルミナコーティングを硫化亜鉛およびセレン化亜鉛物品上に堆積させる方法を提供する。
【解決手段】ａ）硫化亜鉛またはセレン化亜鉛を含む物品を提供し；並びに、ｂ）マイクロ波アシストマグネトロンスパッタリングによって、２０μｍを超える厚みのアルミナの層を硫化亜鉛またはセレン化亜鉛上に、６０Å／分以上の堆積速度で堆積させる；ことを含む方法。 （もっと読む）

前面、前面上の硬質コーティング、反射層、および硬質コーティングと反射層の間の中間帯を有するプラスチック基材を包含するプラスチックミラーであって、該中間帯が、金属および半金属、金属および半金属の酸化物および窒化物、ならびに炭素からなる群より選択される材料から形成される少なくとも１つの層を包含する、前記プラスチックミラー。 （もっと読む）

【課題】 屈曲しても優れたガスバリア性を維持することで長寿命を達成できる有機デバイスを提供すること。
【解決手段】 プラスチックフィルム基材上に、無機バリア層とポリマー層とが互いに隣接して配置された２層からなるユニットを１単位として、３〜５回繰り返し積層されてなるガスバリア性積層体を少なくとも１つ有するガスバリアフィルムにおいて、前記無機バリア層の少なくとも１層がＳｉ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ｔｉ、Ｃｕ、ＣｅおよびＴａから選択される酸化物の２種以上より構成され、前記２種以上の金属酸化物から構成される無機バリア層が、複数の金属ターゲットと酸素ガスを原料とし、プラズマを用いた反応性スパッタ方式で形成され、且つ前記ガスバリアフィルムの３８℃・相対湿度９０％における水蒸気透過率が０．００５ ｇ／ｍ²／ｄａｙ以下であり、かつ、２５℃でＩＰＣ規格での５０回繰り返し屈曲試験後のバリア性が０．００４ｇ／ｍ²ｄａｙ以下であることを特徴とするガスバリアフィルム。 （もっと読む）

２つの直線部、および前記直線部を接続する、少なくとも１つの末端転回部を有するレーストラック型プラズマ源を含む、基材にコーティングする装置が提供される。コーティングの構成要素を形成する、ターゲット材料で形成されたチューブ状ターゲットは、終端部を有する。ターゲットは、ターゲット材料のスパッタリングのためにプラズマ源の近位にある。ターゲットはチューブ状の裏当てカソードに固定され、両者は中心軸を中心として回転可能である。ターゲットがコーティングを基材上に堆積するために利用されるのにともない、磁石の組が、カソードの内側に、ターゲットの終端部に向かう末端転回に整列された侵食ゾーンを移動するために配設される。ターゲットの初期重量の最高８７重量％の、ターゲットの利用が達成される。
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【課題】高い耐久力を有し、湿分、酸およびアルカリに対して不感性であり、放射能が低く、広スペクトル範囲において透明かつ非吸収性であり、溶融および蒸発中に最初の組成を変化させず、低い焼結温度しか必要とせず、それを利用して１．７〜１．８の範囲にその屈折率を特定して設定することができる前記特性を有する中程度屈折率の層を得ることができる、中程度屈折率の光学層の製造のための蒸着材料を提供する。
【解決手段】酸化アルミニウム、ならびに、酸化ガドリニウム、酸化ジスプロシウムおよび酸化イッテルビウムからなる群より選択される少なくとも一つの化合物を含む、中程度の屈折率の光学層を製造するための蒸着材料。 （もっと読む）

【課題】 特に水蒸気透過量を従来技術のものと比較して少なくでき、電子デバイスのバリア層として最適なガスバリア層構造体を提供する。
【解決手段】 電子デバイス構造にてガスバリア性能を発揮する本発明のガスバリア層構造体６は、不動態化金属の層６１と、この不動態化金属の酸化物層６２とを順次積層して構成される。不動態化金属は、Ａｌ、Ｃｒ、Ｔｉ、Ｎｉ、Ｆｅ、Ｚｒ及びＴａの中から選択されたもの、または、これらの二種以上の合金である。 （もっと読む）

【課題】真空成膜法によりコーティング膜上に無機膜を形成するときに、無機膜の割れ／抜け等の欠陥が発生するのを抑制でき、さらに生産性の高い機能性フィルム及びその製造方法を提供する。
【解決手段】コーティング膜１２を塗布・乾燥し硬膜した後に、コーティング膜層表面にラミネートフィルム８２を挟みながら巻き取りフィルムロール４２とし、このフィルムロール４２を真空成膜装置２２にセットして、無機膜の製膜前にラミネートフィルム８２を剥離する。ここで、ラミネートフィルム８２には、コーティング膜に対して０．０１Ｎ／２５ｍｍ以上０．０６Ｎ／２５ｍｍ以下の剥離力である粘着層を有する粘着フィルムを用いる。 （もっと読む）

【課題】基材上に多層膜を形成する際に、より高精度な膜厚制御が可能な成膜装置および成膜方法を提供する。
【解決手段】基材上に多層膜を形成する成膜方法であって、前記多層膜の膜原料源を備える真空槽の内部に、基材と、基材上に形成される多層膜をモニタリングするためのモニタ基板とを配置する配置ステップと、真空中で膜原料源にエネルギーを付与して、基材上に膜原料を堆積させて多層膜のうちの３層以上の層を形成するとともに、モニタ基板上に、単層膜および、複数の互い異なる層構成の多層膜を同時に形成する形成ステップと、形成ステップにおいて、単層膜の光学膜厚を測定する光学膜厚測定ステップと、モニタ基板上の多層膜の分光光学特性を測定する分光光学測定ステップ、および測定された光学膜厚および／または分光光学特性から、基材上に形成される多層膜の残りの各層の厚みを再設定する再設定ステップを含む成膜方法を提供する。 （もっと読む）