【課題】 ターゲットの周縁領域に形成される絶縁膜の影響を受けずに、高いスパッタレートを維持したまま薄膜形成ができる反応性スパッタリング方法を提供する。
【解決手段】 スパッタ室１１内に反応ガスを導入しつつ、このスパッタ室内で処理基板Ｓに対向させて配置した導電性のターゲット４１に電力投入し、スパッタ室内にプラズマ雰囲気を形成して各ターゲットをスパッタリングし、反応性スパッタリングにより前記処理基板表面に所定の薄膜を形成するスパッタリング方法において、前記ターゲットに電力投入するスパッタ電源Ｅにより積算投入電力をモニターし、この積算値が所定値に達すると、反応ガスの導入を停止し、スパッタガスのみを導入して所定時間ターゲットをスパッタリングする。 （もっと読む）

【課題】 所望する光学的機能を有しつつ、簡便な方法で耐衝撃性を向上することのできる機能性膜付基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 物理的気相成長法を用い略真空雰囲気中にて透明樹脂からなる基板上に金属酸化物を蒸着させることによってなる光学薄膜が形成された機能性膜付基板を製造する方法において、金属酸化物を基板上に蒸着する際に、酸素，窒素，希ガスの何れかから選ばれる少なくとも１種のガスを真空度１．０×１０^-2Ｐａ〜９．０×１０^-1Ｐａの範囲内で過剰なガス導入をして蒸着させる。 （もっと読む）

反応性スパッタリングによって基板（１４）を被覆するための装置（１）は、軸（８）と、前記軸（８）に対して対称的に配置される少なくとも２つのターゲット（１１、１２）と、ターゲット（１１、１２）に接続される電源とを備え、ターゲットはカソードおよびアノードとして代替的に動作可能である。方法は、軸（８）を備える装置（１）において、反応性スパッタリングによって基板（１４）を被覆することにより、被覆された基板（１４）を製造するための方法である。本方法は、ａ）被覆する基板（１４）を設け；ｂ）前記軸（８）に対して対称的な配置で少なくとも２つのターゲット（１１、１２）を設け；ｃ）被覆の際に前記ターゲット（１１、１２）を代替的にカソードおよびアノードとして動作させることを含む。好ましくは、ターゲット（１１、１２）はスパッタリングの際回転させられる、および／またはターゲットは同心円的に配置され、最も内側の円形ターゲットは少なくとも１つのリング状外側ターゲットによって囲まれる。
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【課題】透明な樹脂基板の耐摩耗性を改善する積層膜、又は混合硬質膜を形成する技術を提供する。
【解決手段】図１の符号１は、窓ガラス代替物を形成する混合硬質膜を形成する混合硬質膜形成装置であって、蒸着室１２内に、ＴｉＯから成る第一蒸着源２１とＳｉＯ₂から成る第二蒸着源２２が成膜対象物の移動方向の真下に離間して並べて配置されている。この混合硬質膜形成装置１を用いて、蒸着室１２内に酸素ガスを導入し、ＴｉＯから成る第一蒸着源２１とＳｉＯ₂から成る第二蒸着源２２を加熱して蒸発させながら、ＳｉＯ₂よりＴｉＯ₂が多い位置から、ＴｉＯ₂が徐々に少なくなり、ＳｉＯ₂が増加する位置までの領域を形成し、その領域内で透明な樹脂基板を通過させて混合硬質膜を形成させる。 （もっと読む）

【課題】シートの一方に第１の薄膜を形成した後、他方の面にも第２の薄膜を形成する場合に、５０［ｎｍ］以上の比較的厚い金属薄膜や金属酸化物薄膜であっても高速で熱負けなく、製造できる薄膜付シートの製造装置ならびに薄膜付シートの製造方法の提供。
【解決手段】減圧雰囲気下において、一方の表面に第１の薄膜１３が形成されているシート１を円筒状ロールの表面３に接触させ、前記円筒状ロールの回転運動に伴って搬送されている前記シート上に、蒸発源７から前記シートに向けて金属蒸気１０を飛来させ、前記シート上に連続的に第２の薄膜１４を形成する薄膜付シートの製造方法であって、該円筒状ロールの表面に体積抵抗が１０^８〜１０^１１Ωｃｍの範囲内である絶縁体層２０を被覆したものを用い、前記第１の薄膜が形成されている面と前記円筒状ロールとの間に１００〜４００Ｖの範囲内の電圧を印加して、前記シートの他方の表面に第２の薄膜を形成。 （もっと読む）

【課題】電子ビーム物理蒸着を用いて、各皮膜間の界面の組成が連続的に変化する傾斜組成組織が形成され、遮熱特性、熱サイクル寿命に優れたセラミックス被覆部材を提供することを目的とする。
【解決手段】セラミックス被覆部材は、金属またはセラミックスからなる基材２０に、少なくとも熱応力緩和層２２、遮熱層２３をこの順に積層して構成される。また、熱応力緩和層２２と遮熱層２３との境界部２４とその近傍において、熱応力緩和層２２から遮熱層２３に向かって、熱応力緩和層２２を形成する酸化ジルコニウムの濃度が連続的に減少するとともに、遮熱層２３を形成する酸化ハフニウムの濃度が連続的に増加する。 （もっと読む）

【課題】ＣＶＤ法を用いる場合に問題となる電極やチャンバー壁面の汚染によるアーキング等のロングランの安定性、大面積化、ロール・ツー・ロール化の困難さを解決し、酸素バリア性および水蒸気バリア性に優れた、ガスバリア性積層体を生産する成膜装置を提供する。
【解決手段】減圧下の成膜チャンバー内に、基材を搬送する機構と、電極に電圧を印加することでプラズマ化した成膜ガスを該基材表面に噴出させる成膜手段とを少なくとも具備する成膜装置で、該電極は、成膜ガスをプラズマ化する内部空間１８と、該内部空間１８へ成膜ガスを導入するガス導入路１７と、該内部空間１８から該基材表面へプラズマ化した成膜ガスを噴出させる穴部１５とを少なくとも具備し、該電極は、一対で成膜チャンバー内に設置され、該一対の電極は、電気的に接続され、カソード又はアノードに交互に切り替わる。 （もっと読む）

【課題】光学薄膜積層体及び電子機器用ケースにおいて、基板の色調に依存することなく十分な金属光沢を有する光学薄膜積層体及び該光学薄膜積層体を有する電子機器用ケースを提供する。
【解決手段】基板１の表面上に金属光沢付与層２ａ、２ｂ、２ｃと、誘電体層３ａ、３ｂ、３ｃが積層されてなる光学薄膜積層体であって、金属光沢付与層２ａ、２ｂ、２ｃは、電気的に非導通金属層を少なくとも１層含む層から構成される。光学薄膜積層体のうち、積層された金属光沢付与層２ａ、２ｂ、２ｃと、積層された誘電体層３ａ、３ｂ、３ｃの可視光領域の光の透過率は３０％以下であり、目視側から入射する光の反射率が２０％以上である。 （もっと読む）

【課題】耐摩耗性と耐熱性とに優れたγ−アルミナベースの硬質皮膜を１０００℃以下で形成でき、その皮膜を備えた耐摩耗性部材を提供する。
【解決手段】アルミニウム酸化物を基とする硬質皮膜を基材に被覆した硬質皮膜形成部材であって、硬質皮膜は、Ａｌ_1-xＭ_x(Ｏ_1-yＮ_y)_z（０≦ｘ≦０．５、０＜ｙ≦０．４、ｚ＞０）で表される組成を有し、この組成におけるＭは、Ｔｉ，Ｚｒ，Ｖ，Ｎｂ，Ｍｏ，Ｗ，Ｙ，Ｍｇ，Ｓｉ，Ｂから選択される少なくとも１種の元素であることを特微とする。このような硬質皮膜は、基材の温度を４００〜６００℃として形成できる。 （もっと読む）

【課題】真空成膜法によりコーティング膜上に無機膜を形成するときに、無機膜の割れ／抜け等の欠陥が発生するのを抑制でき、生産性の高い機能性フィルム及びその製造方法を提供する。
【解決手段】フィルムロール４０から連続的に支持体Ｂを送り出し、支持体Ｂの表面にコーティング膜１２を成膜し、フィルムロール４２にして巻き取る第１の工程と、巻き取られたフィルムロール４２を真空成膜装置２２内に装填し、フィルムロール４０から連続的に支持体Ｂｏを送り出し、支持体Ｂｏのコーティング膜１２上に無機膜１４を成膜し、フィルムロール４２にして巻き取る第２の工程と、を備え、第１の工程における支持体Ｂｏがフィルムロール４２にして巻き取られる前に、支持体Ｂｏの裏面に塗布膜又はラミネートフィルム８２を設けて、フィルムロール４２にして巻き取るようにする。 （もっと読む）

【課題】 真空成膜装置によりコーティング膜上に無機膜を成膜する際に、無機膜の割れ／抜け等の欠陥を引き起こすコーティング膜の平滑性悪化を防止し、生産性の高い機能性フィルムの製造方法、及び製造装置を提供する。
【解決手段】
フィルムロール４０から連続的に支持体Ｂを送り出し、支持体Ｂ上にコーティング膜を成膜し、支持体Ｂをフィルムロール４２に巻き取る。次いで、フィルムロール４２を真空成膜装置２２の供給室５０にセットし、常圧から１００Ｐａまでの減圧時間が７分以上となる減圧速度で減圧し、さらに所定の真空度まで減圧する。フィルムロール４２から支持体Ｂを、供給室５０の減圧速度より速い減圧速度で所定の真空度まで減圧された真空成膜装置２２の成膜室５２に供給し、コーティング膜上に無機膜を成膜し、無機膜が成膜された支持体Ｂを、真空成膜装置２２の巻取り室５４でフィルムロール４８に巻き取る。 （もっと読む）

【課題】
密着性とガスバリア性とをバランスよく兼ね備える蒸着用フィルムを提供すること。
【解決手段】
上記課題は、熱可塑性樹脂からなるフィルムの少なくとも片面にウレタン樹脂からなるアンカーコート層を形成してなる蒸着用フィルムであって、前記ポリウレタン樹脂が、イソシアネート基末端ウレタンプレポリマーと鎖伸長剤との反応により得られる水性ポリウレタン樹脂が水分散されてなるポリウレタンディスパージョンであって、 前記イソシアネート基末端ウレタンプレポリマーが、密着性を付与するための密着性ウレタンプレポリマーと、ガスバリア性を付与するためのガスバリア性ウレタンプレポリマーとを含むことを特長とする蒸着用フィルムによって達成することができる。 （もっと読む）

【課題】制御が複雑となる反復計算を用いることなく、また、真空蒸着にありがちな成膜速度変動等の影響を受けることなく、光学膜厚を制御しながら屈折率を高精度に制御し、厳しい仕様が求められる光学素子を安定して製造する。
【解決手段】まず、成膜しようとする薄膜の物理膜厚に対するモニタ光の目標光量変化を予め設定する（Ｓ１）。次に、薄膜の成膜を開始し（Ｓ２）、成膜途中で薄膜の物理膜厚を検知する（Ｓ３）。同時に、Ｓ３で検知した物理膜厚でのモニタ光の光量を検知する（Ｓ４）。そして、Ｓ３で検知した物理膜厚におけるＳ４でのモニタ光の検知光量と、Ｓ１で予め設定されたその物理膜厚における目標光量との差に基づき、その後の物理膜厚に対するモニタ光の光量変化が予め設定された目標光量変化に追従するように、成膜条件を変更しながら薄膜を成膜する（Ｓ５）。 （もっと読む）

【課題】
フィルムロール状に巻き取った際に、シワやクラックになりにくい金属蒸着ポリエステルフィルムを提供する。
【解決手段】
ポリエステルフィルム層（Ｆ層）の少なくとも片面に金属酸化物を含む層（Ｍ層）を設けた金属蒸着ポリエステルフィルムであって、Ｍ層の光学濃度ＯＤが０．７〜８．０であり、幅方向の蒸着厚みムラが２０％以下である金属蒸着ポリエステルフィルムとする。 （もっと読む）

【課題】フィルム基材の帯電現象による問題を回避しながら、電子ビーム加熱による蒸発物質の蒸着を可能にし、巻取り走行されるフィルム基材に損傷のないバリア性薄膜を安定に成膜できるようにした巻取り式蒸着装置及び巻取り式蒸着方法並びにバリアフィルムを提供する。
【解決手段】電子ビーム１９により加熱されて蒸発する蒸発物質を、巻取り走行されるフィルム基材１２に蒸着してガスバリア性の薄膜を形成する巻取り蒸着装置において、表面にガスバリア性薄膜を蒸着させたフィルム基材１２を、成膜ロール１５から剥離直前に加熱する加熱手段と、成膜ロール１５に正の電位を印加して、巻出し・巻取り室２０内でフィルム基材１２が成膜ロール１５から剥離された後の、フィルム基材１２と成膜ロール１５との間にプラズマ２７を発生させる電位印加手段とを備える。 （もっと読む）

【課題】快削鋼等の切削工具として好適な、耐熱性、耐久性に優れる耐摩耗性工具部材を提供する。
【解決手段】工具基体上に、工具基体表面側から順に、ＴｉＮ硬質膜、Ａｌ含有ダイヤモンドライクカーボン膜およびＡｌ_２Ｏ_３膜を形成した耐摩耗性工具部材において、Ａｌ含有ダイヤモンドライクカーボン膜におけるＡｌ含有割合は、５〜３０原子％であって、望ましくは、Ａｌ含有ダイヤモンドライクカーボン膜が、ＴｉＮ硬質膜との界面部分では５〜１５原子％、Ａｌ_２Ｏ_３膜との界面部分では２０〜３０原子％のＡｌを含有し、さらに、該Ａｌ含有ダイヤモンドライクカーボン膜中におけるＡｌ含有割合は、ＴｉＮ硬質膜側からＡｌ_２Ｏ_３膜側へ向かうにしたがって次第に増加する傾斜組成を有する。 （もっと読む）

本発明は、基板本体とそれに付着された単層または多層コーティングを有する切削工具に関する。コーティングの少なくとも１つの層はＰＶＤ法またはＣＶＤ法において作製された金属酸化物層であり、その金属酸化物層は粒子構造を有し、多数の存在する粒子構造の無秩序内に存在し、その粒子構造の無秩序は、点形状反射が最大格子面間隔ｄ_Grenzまで粒子の電子線回折画像において生じ、そしてｄ_Grenzより大きい格子面間隔では点形状反射は生じないが、アモルファス構造の代表的な強度分布を生じることを特徴とする。
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【課題】水分等による腐食を防ぐことにより、耐久性を向上させて銀系光反射鏡の高反射率という利点を長期間維持できる光反射鏡及びその製造方法を提供する。
【解決手段】水分に対する耐腐食性が銀より優れる、所定の銀合金を使用し、さらに、形成される各構成膜の密着性および緻密性を高めることによって、高反射率と高耐久性を両立させ得る多層膜構造の銀合金光反射鏡及びその製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】 酸素ガスや水蒸気に対するガスバリア性に優れたガスバリア性被膜と無機酸化物の蒸着膜との反応性を向上させることにより、優れたガスバリア性を有する、透明で柔軟なガスバリア性積層フィルム及びその製造方法の提供。
【解決手段】 基材フィルムの一方の面に、無機酸化物の蒸着膜を形成し、該蒸着膜の表面に、酸素ガスを含む混合ガスによるグロー放電プラズマ処理を行うことにより、表面自由エネルギーが７０ｄｙｎｅ以上のプラズマ処理面を形成し、該プラズマ処理面に、アルコキシドとポリビニルアルコール系水溶性樹脂の混合溶液から得られるガスバリア性組成物を加熱乾燥処理して、ガスバリア性塗膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】シート表面に比較的厚い金属化合物薄膜であっても高速でかつシート幅方向の膜厚を均一に形成できる金属化合物薄膜付シートの製造装置ならびに金属化合物薄膜付きシートの製造方法を提供する。
【解決手段】シート案内面３の運動に伴ってシートを搬送する搬送手段と、シート案内面上のシートに向かって金属蒸気を飛散させる蒸発源７と、金属蒸気と反応させるためにガスを導入する反応ガス導入手段１５と、金属蒸気がシートに到来する領域を制限するマスク１１ａとを備え、搬送されるシートに連続的に金属化合物薄膜を形成する製造装置であって、蒸発源とシート案内面とを結ぶ直線方向に関し、反応ガス導入手段により導入されたガスと蒸発源から飛来した金属蒸気とが混在する位置に、金属蒸気がシート幅方向の外部に拡散することを防止する拡散防止手段２０を設けてなることを特徴とする金属化合物薄膜付シートの製造装置。 （もっと読む）