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Fターム[4K029BA44]の内容

物理蒸着 (93,067) | 被膜材質 (15,503) | 無機質材 (9,098) | 化合物 (8,330) | 酸化物 (4,989) | AlO系 (505)

Fターム[4K029BA44]に分類される特許

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【課題】 真空成膜装置によりコーティング膜上に無機膜を成膜する際に、無機膜の割れ/抜け等の欠陥を引き起こすコーティング膜の平滑性悪化を防止する機能性フィルムの製造方法、及び製造装置を提供する。
【解決手段】
コーティング膜成膜装置20内で、フィルムロール40から連続的に支持体Bを送り出し、支持体B上にコーティング膜を成膜し、支持体Bを大気圧より減圧下でフィルムロール42に巻き取る。次いで、フィルムロール42を真空成膜装置22内に装填し、フィルムロール42から連続的に支持体Bを送り出し、コーティング膜上に無機膜を成膜し、支持体Bをフィルムロール48に巻き取る。 (もっと読む)


【課題】近赤外線から遠赤外線までの広帯域における赤外線遮断機能を有し、且つ、所望の選択波長の赤外線を選択的に透過させることが可能な低コストの赤外線光学フィルタおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】Si基板からなる基板1の一表面側に形成された各フィルタ部21,22は、屈折率が異なり且つ光学膜厚が等しい複数種類の薄膜21a,21bが積層された第1のλ/4多層膜21と、上記複数種類の薄膜21a,21bが積層された第2のλ/4多層膜22と、第1のλ/4多層膜21と第2のλ/4多層膜22との間に介在し上記選択波長に応じて光学膜厚を各薄膜21a,21bの光学膜厚とは異ならせた波長選択層23,23とを備え、薄膜21bが第1のλ/4多層膜21および第2のλ/4多層膜22により設定される赤外線の反射帯域よりも長波長域の遠赤外線を吸収する遠赤外線吸収材料により形成されている。 (もっと読む)


【課題】低コストで、基板フィルムと蒸着ドラムの密着性を高め、蒸着熱による基板フィルムのダメージも防止できる蒸着方法及び蒸着装置を提供する。
【解決手段】ホローカソード型プラズマガン3を使用して、蒸着ドラム5上を搬送させているフィルム基板9にプラズマアシスト蒸着を行う方法は、フィルム基板9に蒸着材料を蒸着させる前段に電子加速電極2によりプラズマ中から電子を取出し、該電子でフィルム基板9を帯電させることを特徴とする。装置としては、プラズマアシスト蒸着を行うためのホローカソード型プラズマガン3と、フィルム基板9を搬送する蒸着ドラム5と、フィルム基板9に蒸着材料を蒸着させる前段にプラズマ中から電子を取出し該電子でフィルム基板9を帯電させるための電子加速電極2を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】近赤外線から遠赤外線までの広帯域における赤外線遮断機能を有する低コストの赤外線光学フィルタを提供する。
【解決手段】800nm〜20000nmの波長域の赤外線を制御する赤外線光学フィルタであって、半導体基板1と、当該半導体基板1の一表面側に形成された広帯域遮断フィルタ部2と、当該半導体基板2の他表面側に形成された狭帯域透過フィルタ部3とを備えている。広帯域遮断フィルタ部2は、屈折率が異なる複数種類の薄膜2a,2bが積層された多層膜からなり、当該複数種類の薄膜2a,2bのうち1種類の薄膜2aが遠赤外線を吸収する遠赤外線吸収材料(例えば、Alなど)により形成され、残りの1種類の薄膜2bが上記遠赤外線吸収材料よりも屈折率の高い高屈折率材料(例えば、Geなど)により形成されている。 (もっと読む)


【課題】本発明は基材の両面に加工を行う場合に、電子ペーパーや有機ELなどのFPD向けとして好適に用いることができる透明なガスバリア性積層フィルムの製造方法を提供すること。
【解決手段】透明なプラスチックフィルムからなる基材層1−1の両面上に、一方の面上にアンカーコート層2−1とガスバリア層3−1を順次積層し、もう一方の面上にアンカーコート層2−2とガスバリア層3−2を順次積層してなるガスバリア性積層フィルムにおいて、前記アンカーコート層を、フラッシュ蒸着法を用いて重合可能なアクリル系のモノマーまたはモノマーとオリゴマーとの混合物を前記基材層上に成膜し、紫外線または電子線を照射して硬化させて形成することを特徴とするガスバリア性積層フィルムの製造方法とする。 (もっと読む)


【課題】分光透過率が可視域において均一で、ゴースト等の画像に対する悪影響を低減することが可能となるNDフィルタの膜構成並びにこのようなNDフィルタを有する光量絞り装置や該光量絞り装置を有するカメラを提供する。
【解決手段】透明基板上の1面に光の吸収膜と誘電体膜を交互に積層することによって透過光量を変えるようにした多層膜に、屈折率の異なる2種類以上の膜からなる多層反射防止層を積層し、2面に屈折率の異なる2種類以上の膜からなる多層反射防止層を積層し、総体としての応力によって、1面側を凸にすることで、画像に対する悪影響を低減することが可能となり、分光特性がフラットで低反射率のNDフィルタ、並びにこれらのNDフィルタを有する光量絞り装置及びカメラを実現することができる。 (もっと読む)


【課題】 被覆層のすくい面および逃げ面における特性の微調整が可能であり、強い衝撃がかかるような切削加工においても耐欠損性が高い切削工具を提供する。
【解決手段】 基体2の表面に2層以上の被覆層3が形成され、複数の被覆層3のうちの厚みが厚い2層について、基体2側に形成された被覆層3を下層3L、基体2から遠ざかる側に形成された被覆層3を上層3Uと特定し、下層3Lのすくい面5における厚みをtrL、逃げ面6における厚みをtfL、上層3Uのすくい面5における厚みをtrU、逃げ面6における厚みをtfUとしたとき、trL>tfL、かつtrU<tfUであるスローアウェイチップ1等の切削工具である。 (もっと読む)


【課題】ホローカソード型プラズマガン3を使用してプラズマアシスト蒸着を行う装置において、蒸着プロセス室の圧力上昇による蒸着膜の膜質劣化等の問題を解消し、透明で緻密な酸化物膜等が得られる蒸着装置を提供する。
【解決手段】ホローカソード型プラズマガン3のプラズマ放出部103と蒸着室101との間を圧力的に仕切りかつプラズマが蒸着室101へ通過可能な孔21を有する隔壁2を有する。プラズマアシスト蒸着を行うためのホローカソード型プラズマガン3と、蒸着室101と、プラズマガン3のプラズマ放出部103と蒸着室101との間を圧力的に仕切りかつプラズマが蒸着室101へ通過可能な孔21を有する隔壁2とを有する。 (もっと読む)


【課題】断熱性能が高く、かつ、耐熱サイクル性に優れ高信頼性の遮熱セラミックスコーティング及びこれを用いた高温部品搭載システムを提供する。
【解決手段】遮熱セラミックスコーティング3は、中央部に設けられた熱伝導抑制用酸化物セラミックス部30と、熱伝導抑制用酸化物セラミックス部30の表面側に形成され、熱伝導抑制用酸化物セラミックス部30より融点の高い酸化物層を含む積層構造を有する表面側積層構造部31と、熱伝導抑制用酸化物セラミックス部30より基材1側に形成され、熱伝導抑制用酸化物セラミックス部30より融点の低い酸化物層を含む積層構造を有する基材側積層構造部32とを具備している。 (もっと読む)


【課題】 薄型化が図られた誘電積層体を提供する。
【解決手段】 本発明に係る誘電積層体52は、基板12上に形成された第1の電極膜50A、誘電体膜50B及び第2の電極膜50Cで構成されるものである。つまり、グリーンシートを用いた製法では困難であった誘電積層体の薄型化は、例えば、スパッタリング等の成膜技術を利用することによって実現される。ここで、第1の電極膜50A、誘電体膜50B及び第2の電極膜50Cは、一方向にずれた状態で順次積層されているため、この誘電積層体52は、第1の電極膜50Aの表面の一部が十分に露出しており、第1の電極膜50Aと外部電極との接続を容易に行うことができる。 (もっと読む)


【課題】発光膜中のO含有量を十分に低減することができるEL素子製造用スパッタリングターゲットの製造方法を提供する。
【解決手段】EL素子製造用スパッタリングターゲットの製造方法が、少なくとも、2価金属の硫化物と、3価金属と、発光中心元素の硫化物とを混合して混合物を得る混合工程と、該混合物を成形して成形物を得る成形工程と、該成形物を焼結してEL素子製造用スパッタリングターゲットを得る焼結工程とを含むと、上記課題を解決することができる。 (もっと読む)


【課題】
優れた酸素及び水蒸気遮断性能およびボイル・レトルト処理などの加熱殺菌処理に対する耐性および耐酸性をも併せて有するガスバリア性フィルムを提供する。
【解決手段】
プラスチックフィルムの少なくとも一面に、無機酸化物もしくは無機窒化物で構成される蒸着層と、樹脂層を積層したガスバリア性フィルムであって、その樹脂層は、20〜70重量%の水酸基を有する不飽和化合物と、不飽和カルボン酸エステル、スチレン、不飽和カルボン酸、不飽和炭化水素及びビニルエステルからなる群から選択される1つ以上の不飽和化合物との共重合体で構成される主剤と、イソシアネート基を有する化合物で構成される硬化剤とで構成されるアクリル系樹脂と、0.0010〜0.10g/mの酸無水物から構成される。 (もっと読む)


【課題】蒸発源で形成した超微粒子を効率的にノズルへと搬送することができる構造物形成装置を提供する。
【解決手段】金属材料またはセラミックス材料を含む蒸発源となるターゲット107と、前記ターゲット表面から放出粒子を放出させるためのレーザー光線112と、前記放出粒子にガスを導入するためのガス噴射手段と、前記ターゲットの前記表面近傍において、前記放出粒子と前記ガスとを混合し冷却して混合相を形成するナノ粒子発生室103と、室内を大気圧未満に減圧するための減圧手段117と、構造物形成用の基板115が配置される成膜室105と、前記混合相を前記基板に向けて噴射するノズル10と、を備え、前記ナノ粒子発生室103と前記成膜室105との圧力差により、前記ナノ粒子を前記ノズル10より前記基板115に向けて高速で噴射して前記基板115上に構造物を形成する構造物形成装置。 (もっと読む)


【課題】NDフィルタの切断部の反射によるゴースト、フレアの発生を防止する。
【解決手段】透明樹脂フィルム35上にND膜を形成したNDフィルタ21の外周切断部のうち、撮像機器の開口内に露出する切断面21aの切断方向が透明樹脂フィルム35の主延伸方向と略直交方向になるように、NDフィルタ21を切断加工する。 (もっと読む)


【課題】平滑かつ緻密な無機膜を生産性を維持しつつ、しかも膜質を長時間安定して形成することができる成膜装置および成膜方法、ならびにバリアフィルムを提供する。
【解決手段】本発明の成膜装置は、真空の成膜室内で、有機膜を含む長尺の基板を搬送方向に搬送しつつ、スパッタリングを行い、その表面に無機膜を形成するものであって、基板に対向して配置された第1のターゲット、第1のターゲットの周囲近傍に設けられたアノード部および第1のターゲットに一定周期で電圧を印加する第1の電源部を備える第1の成膜ユニットと、第1の成膜ユニットよりも搬送方向の下流側に設けられ、基板に対向して配置された2つ以上のターゲットおよび各ターゲットに交互に電圧を印加する第2の電源部を備える第2の成膜ユニットと、基板と第1のターゲットとの間および基板と各ターゲットとの間にスパッタガスを供給するスパッタガス供給部とを有する。 (もっと読む)


【課題】 高速断続重切削において、硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性、耐欠損性、耐剥離性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】工具基体の表面に、硬質被覆層を蒸着形成してなる表面被覆切削工具において、下部層はTi化合物層で構成され、また、上部層は、化学蒸着により形成された一層平均層厚0.5〜1.0μmの酸化アルミニウム層と物理蒸着により形成された一層平均層厚0.3〜0.5μmの酸化アルミニウム層との交互積層構造として構成され、さらに、上部層内に連続して存在するクラックの層厚方向最大長さは0.5μm以上1.0μm以下である。 (もっと読む)


【課題】本発明は、ナノメーターサイズの三次元連結孔を有する多孔質アルミニウム酸化物膜を有する積層体を提供することを主目的とする。
【解決手段】本発明は、基材と、上記基材上に形成され、平均細孔径500nm以下の三次元連結孔を有する多孔質アルミニウム酸化物膜と、を有することを特徴とする積層体を提供することにより、上記課題を解決する。 (もっと読む)


【課題】極性分子ガス透過性、無極性分子ガスバリア性を有する選択ガス透過性フィルムを提供する。
【解決手段】基材フィルム10に、有機珪素化合物、金属または金属酸化物を供給してなる厚さ5〜50nmの蒸着膜層20を設けたガスバリア性フィルムを伸長させてなる。水蒸気透過度を維持したまま酸素透過度が向上した、選択ガス透過性フィルムである。 (もっと読む)


【課題】帯電防止性、反射防止性および耐久性に優れ、むくみの発生しない光学物品およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】眼鏡レンズは、レンズ基材110と、このレンズ基材110の表面に設けられたハードコート層120と、このハードコート層120の上に設けられた反射防止層130とを備えて構成されている。反射防止層130は、屈折率が1.3〜1.5である低屈折率層と、屈折率が1.8〜2.45である高屈折率層とを順に積層したものである。この反射防止層130は、レンズ基材110側から外側に向けて順に配置された第1層131、第2層132、第3層133、第4層134、第5層135、第6層136、第7層である透明導電層137及び第8層138から構成される。 (もっと読む)


【課題】皺等の発生が少なく、かつ低濃度の際も光の散乱も少ない光学フィルタを得る。
【解決手段】ポリエーテルサルホンから成る透明樹脂基板31上に、反射率を低下させるための反射防止層であるAl23層41aと、透過率を低下させるための光吸収層であるTiOx層41bを交互に積層している。最上層には反射防止膜として低屈折材料のMgF2層41cを成膜することによりND膜41を形成している。NDフィルタ10は高濃度化のため必要な膜厚が厚くなり、その分蒸着時間が長くなり、透明樹脂基板31の温度が部分的に170℃にまで達することがある。この場合でも、ポリエーテルサルホンから成る透明樹脂基板31はガラス転移温度は200℃以上であることから、皺やうねりの発生を回避することができる。 (もっと読む)


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