【課題】耐摩耗性と耐熱性とに優れたγ−アルミナベースの硬質皮膜を１０００℃以下で形成することができる耐摩耗性部材を提供する。
【解決手段】アルミニウム酸化物を基とする硬質皮膜を基材に被覆した硬質皮膜形成部材であって、硬質皮膜は、窒素を含有し、組成が次式（１）で示され、Ａｌ_１−ｘＭ_ｘ（Ｏ_１−ｙＮ_ｙ）_ｚ（０≦ｘ≦０．５、０＜ｙ≦０．５、ｚ＞０）…式（１）式（１）におけるＭは、第４族、第５族、第６族（Ｃｒを除く）、Ｙ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｂからなる群から選択される少なくとも１種の元素であり、硬質皮膜は基材の温度が４００〜６００℃において形成されることを特微とする。 （もっと読む）

【課題】最表面の硬度が高く耐磨耗性に優れると共に、反射率が低い反射防止膜、及び透光部材、並びに反射防止膜の形成方法を提供する。
【解決手段】反射防止膜は、可視光が透過可能な部材の表面に形成された反射防止膜であって、反射防止膜の最表面を構成する膜が、Ｓｉ又はＦを添加したＡｌ₂Ｏ₃であるＳｉ−Ａｌ₂Ｏ₃膜又はＦ−Ａｌ₂Ｏ₃膜である。反射防止膜の形成方法は、可視光が透過する部材の表面に反射防止膜を形成する反射防止膜の形成方法であって、反射防止膜の最表面を構成する膜として、Ｓｉ又はＦを添加したＡｌ₂Ｏ₃であるＳｉ−Ａｌ₂Ｏ₃膜又はＦ−Ａｌ₂Ｏ₃膜を形成する最表面形成工程を有し、当該最表面形成工程において、Ｓｉ−Ａｌ₂Ｏ₃膜又はＦ−Ａｌ₂Ｏ₃膜を、ＥＣＲプラズマ励起方式を用いたＥＣＲプラズマスパッタ装置によって形成する。 （もっと読む）

【課題】基板上に光吸収特性を有する金属膜を蒸着によって成膜する際に光学特性が安定した光学フィルタ及びその成膜方法を提供する。
【解決手段】基板上に金属膜層と誘電体膜層を積層状に形成する光学フィルタにおいて、その金属膜層を蒸着で形成する際に膜厚さが不安定となる蒸着初期及び／又は蒸着終期に蒸着皮膜に反応性ガス（活性ガス；酸素、窒素、フッ素など）を照射して化合物に変化させることを特徴としている。これによって酸化、窒化などで化合物に変化した被膜は透明となり光の透過率に影響を及ぼすことがない。 （もっと読む）

本発明は、アークソースを作動させる方法に関するものであり、電気火花放電がターゲット（５）の表面で点火または作動し、火花放電には、直流電圧ＤＶが割り当てられた直流電流と、周期的に印加される電圧信号によって生成されるパルス電流とが同時に供給される。このときアークソースの電圧は数マイクロ秒のうちに上昇し、または、電圧信号の信号形状は実質的に自由に調整可能である。
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【課題】低温で成膜でき、膜形成材料と繊維材料の反応を抑制することができる繊維強化複合材料膜の製造方法を提供する。
【解決手段】表面に繊維材料が固定された基板３３を成膜チャンバー３０に配置し、一方、不活性ガス雰囲気で、膜形成材料の蒸発源１５の加熱により膜形成材料粒子を生成し、次に、膜形成材料粒子を移送し、超音速フリージェットＪの気流に乗せて真空チャンバー(３０)中に噴出して、繊維材料が固定された基板３３上に物理蒸着させて、膜形成材料からなる膜中に繊維材料が内包された繊維強化複合材料膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】液晶を用いた画像表示装置において、光学的異方性を避けるためと、高速応答のために、液晶を基板に対して垂直若しくはそれに近い配向にする必要がある。液晶には強い光、波長の短い光があたることが多いので、従来のポリイミドの配向膜では劣化が生じ寿命が短くなる。配向膜を無機化したいが、ＳｉＯ_２斜方蒸着を液晶配向膜とした場合、液晶として特性の優れる誘電率異方性が正のものを使うと水平配向になってしまう。金属アルコラートを用いて垂直配向にする技術はあるが工程が複雑になっている。
【解決手段】液晶を挟む２枚の基板の内、少なくとも一方の基板側の液晶配向膜を金属にすることにより、基板の間に封入する液晶は、誘電率異方性（Δε）が正のものを用いていながら、基板に対して垂直若しくはほぼ垂直に配向させることができる。 （もっと読む）

【課題】応力によって破壊されにくい金属酸化膜を、速い成膜速度で成膜できる金属酸化膜の形成方法と、それを実現する物理蒸着装置を提供する。
【解決手段】酸素を含むガス雰囲気で、金属蒸発源１５の加熱により金属粒子を生成し、得られた金属粒子を酸化して金属酸化物粒子を生成し、金属酸化物粒子を移送し、超音速フリージェットの気流に乗せて真空チャンバー（３０）中に噴出して、真空チャンバー（３０）中に配置された基板３３上に物理蒸着させ、金属酸化物粒子からなる金属酸化膜を形成する。あるいは、金属粒子を生成して物理蒸着させて金属膜を形成し、これに酸素を吹き付けて金属酸化膜を形成する。あるいは、蒸発源に金属酸化物を用い、金属酸化物粒子を生成して物理蒸着させて金属酸化膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】水蒸気透過率が低くて、層間の密着性が良好な有機無機積層型のガスバリアフィルムを提供する。
【解決手段】プラスチックフィルムの少なくとも一方の面に有機層と無機層を含むバリア層を有するガスバリアフィルムであって、前記バリア層が、有機層、膜密度が１．７以上である第一無機層、および第一無機層よりも膜密度が０．５〜１．５高い第二無機層から構成されていることを特徴とするガスバリアフィルム。 （もっと読む）

【課題】 放電初期状態のバッチ間差を保証して、所定の組成の膜を効率よく形成することができる成膜装置および成膜方法を提供する。
【解決手段】 本発明の成膜方法は、チャンバ内にスパッタリングガスおよび反応ガスを供給して所定の真空度に保ち、チャンバ内に設けられ、ターゲット保持部により基板に対向して保持された金属ターゲットに電圧を印加してスパッタリングを行い基板に所定の膜を形成するものである。ターゲット保持部には、金属ターゲットが基板と対向する側の反対側にマグネットが移動可能に設けられている。マグネットは基板と金属ターゲットとが対向する方向に移動手段により移動される。チャンバ内にスパッタリングガスだけを供給し、この状態で、金属ターゲットに所定の電流または電力を印加させたとき、金属ターゲットの電圧を測定し、かつ放電の検出を開始し、その電圧が所定の電圧で放電が生じるようにマグネットを移動させる。 （もっと読む）

【課題】現在使用されているタービン要素を回復する方法の欠点を克服する。
【解決手段】本発明は、要素の本体を形成する基材と、基材に接着した保護コーティングとから構成されたタービン要素を回復する方法に関する。方法は、保護コーティングと基材との間の接着不良を有するゾーンを特定するためのタービン要素の制御と、保護コーティングと基材との間の接着不良の除去とを備える。接着不良は、保護コーティングと下にある基材との局所的な溶融を引き起こし、レーザビームの停止後に保護コーティングと基材との間の上記ゾーンの高さにおける適切な接着を可能とするために、接着不良を有する各ゾーン上に向けられたレーザビームを用いて除去される。 （もっと読む）

【課題】被膜内部および被膜表面のマクロ粒子を減少させて、被膜の穴、ボイド、ポアの量を低減することで、クレーター摩耗、逃げ面摩耗、フリッティングを低減し、かつ、フリッティングやスポーリングを生じないで厚いＰＶＤ被膜を堆積させることができる、被膜付き切削工具の製造方法を提供する。
【解決手段】基材を用意する工程と、該基材上に陰極アーク蒸発ＰＶＤ堆積法で被膜を堆積させる工程とを含み、該被膜は窒化物、酸化物、硼化物、炭化物、炭窒化物、炭酸窒化物またはこれらの組合せである、被膜付き切削工具を製造する方法において、
上記堆積工程において、該被膜に別個の中間イオンエッチングを１回以上施す。 （もっと読む）

【課題】 被蒸着フィルムの幅方向における反応物質の吹出し量を均一にすると共に蒸着材料蒸気の流れの乱れを抑制して、高品質の蒸着を可能とする。
【解決手段】 蒸着材料蒸気の流れの中に酸素を吹き込むための吹出し孔２８を多数備えた酸素吹出し管２７の内部を複数の仕切り２９ａ、２９ｂ、２９ｃによって複数の吹出し領域２７ａ〜２７ｄに分割し、各吹出し領域の長さを短くすることで、各吹出し孔２８からの酸素吹出し量の均一化を図り、しかも各吹出し領域には、管端に配置した酸素給送具３１ａ、３１ｄ及び管内に挿入した酸素給送用内管３２ｂ、３２ｃを介して酸素を給送する構成とすることで、酸素給送用の配管を有効蒸着領域の外に配置し、蒸発した蒸着材料の流れを乱さないようにする。 （もっと読む）

【課題】高速ミーリング切削加工において、硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性と耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具およびその製造方法を提供する。
【解決手段】工具基体表面に、Ｔｉ化合物層あるいは（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ層を下部層として形成し、その上に、ダイナミックオーロラＰＬＤ法により、（００１）面配向のＹＳＺからなる密着層、（０００１）面配向の（Ｃｒ，Ａｌ）_２Ｏ_３あるいはＣｒ_２Ｏ_３からなる中間層、（０００１）面配向の（Ｃｒ，Ａｌ）_２Ｏ_３あるいはα−Ａｌ_２Ｏ_３からなる上部層、をそれぞれ形成した表面被覆切削工具。
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【課題】成膜元素が半導体デバイスの反成膜源側端面に回り込むことを確実に防止する半導体デバイスの成膜用ホルダを提供する。
【解決手段】半導体デバイスの被成膜面を露出させ、半導体デバイスを保持するホルダ本体と、半導体デバイスの被成膜面を露出させた状態で、半導体デバイス及びホルダ本体の間に形成される間隙を半導体デバイスの被成膜源側から遮蔽する遮蔽体１７とを備えた。これにより、成膜源３から間隙に向かう成膜元素１６は、遮蔽体１７に進行を遮断される。 （もっと読む）

【課題】基材内部の細孔の直径を維持したまま細孔の入口の直径を容易に狭小化することができ、ガス分離性能が十分に高い狭小化多孔質アルミナ基材を製造することが可能な狭小化多孔質アルミナ基材の製造方法を提供すること。
【解決手段】多孔質アルミナ基材１にアルミナを物理蒸着させて、該多孔質アルミナ基材の細孔の入口を０．２〜１．５ｎｍと狭小化し、狭小化多孔質アルミナ基材を得ることを特徴とする狭小化多孔質アルミナ基材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】密着性の良い被膜を堆積させる方法を提供する。
【解決手段】本発明の方法は、
アーク蒸発による前記被膜の堆積工程、および
デュアルマグネトロンスパッタリングによる前記被膜の堆積工程
を含んでなり、前記堆積が順次または同時に実施される。 （もっと読む）

【課題】プラズマ処理時における異常放電の発生を防止した、プラズマ処理装置、スパッタ装置、及び液晶装置の製造装置を提供する。
【解決手段】チャンバ３ａ内に対向配置された電極９ａ，９ｂ間に高周波電力を印加してプラズマを発生させるプラズマ処理装置３である。チャンバ３ａの内壁面への処理生成物の付着を防止する防着板３０を備え、防着板３０には少なくともプラスの電圧が印加される。 （もっと読む）

【課題】原子層堆積法によるガスバリア性に優れたガスバリア膜の作製を効率的で安価に行うことができるガスバリア膜の作製方法及び作製装置を提供する。
【解決手段】例えば図１の装置１０を用い、長尺の基材フィルム２を連続して移動させながら、その基材フィルム２上に原子層堆積法による単原子層積層体からなるガスバリア膜１を作製する。この方法は、基材フィルム２の移動方向に、単原子層形成用の第１原料ガスを供給する第１原料ガス供給ステップ（第１原料ガス供給室６２）と、単原子層形成用の第２原料ガスを供給する第２原料ガス供給ステップ（第２原料ガス供給室６３）と、第１原料ガス及び第２原料ガスが混入するのを防ぐために第１原料ガス供給ステップと第２原料ガス供給ステップとの間に設けられた緩衝ステップ（緩衝室６４）と、を有する少なくとも３種のステップ（処理室）を連続して多数配置してなる原子層堆積工程（原子層堆積装置５３）を有する。 （もっと読む）

【課題】ナノサイズの酸化物微粒子からなる膜あるいは層を高精度に形成することができる微粒子膜の形成方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る微粒子膜の形成方法は、筒状のアノード電極２１と、アノード電極２１内に配置された蒸着材料２２Ａを有するカソード電極２２と、カソード電極２２から離間してアノード電極２１内に配置されたトリガ電極２３とを備えた同軸型真空アーク蒸着源１３を用い、真空槽１０内に、反応性ガス（酸素）を導入した雰囲気下で、蒸着材料２２Ａの微粒子を被着体１５の表面へ蒸着させる。真空アーク蒸着源１３で形成されたナノサイズの微粒子は、酸素と反応して酸化物を形成する。これを被着体１５へ蒸着させることにより、ナノサイズの酸化物微粒子膜を高精度に形成することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】ターゲット間のクロスコンタミネーションを防止する。
【解決手段】シャッタ機構は、下記（ａ）〜（ｃ）を同時に満たす様に動作するスパッタ装置。
（ａ）第１シャッタ板６１の第１孔６１ａと第２シャッタ板６２の第３孔６２ａとの重ね合わせ部が第１ターゲット３８下に位置する。
（ｂ）第１シャッタ板６１の第２孔６１ｂが第２ターゲット３５下に位置し、第２シャッタ板６２が第２ターゲット３５を覆う。
（ｃ）第１シャッタ板６１と第２シャッタ板６２とが第３ターゲット（３６，３７）を覆う。 （もっと読む）