【課題】基板、基材に対し、安定して長時間、かつ高速でのスパッタ成膜が可能であるスパッタリング装置を提供することであり、また、これを用いて成膜した積層体及び、この積層体を有する光学機能性フィルタおよび光学表示装置を提供する。
【解決手段】基材上に薄膜層を成膜するために、少なくとも１つ以上のマグネトロン電極を有することを特徴とするスパッタリング装置において、前記マグネトロン電極におけるアノード電極５，６が回転式電極であるスパッタリング装置。 （もっと読む）

【課題】波長板を構成する圧電基板に開口フィルタを成膜しても反りが生じないようにすることを目的とする。
【解決手段】波長板を形成する第１の水晶基板３の一方の表面上には、位相調整膜６と波長選択膜７とからなる開口フィルタ５が成膜されている。また、第１の水晶基板３の他方の面には、第１の水晶基板３の一方の面に成膜された開口フィルタ５により生ずる圧縮応力を打ち消すために所定の材質の矯正用光学薄膜８を成膜するようにした。 （もっと読む）

【課題】耐凝集性および耐硫化性に優れると共に、保護膜が略無色透明である反射膜を提供する。
【解決手段】Ａｇ薄膜、または、Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｂｉ、及び希土類元素から選ばれる１種類以上の元素を含有するＡｇ合金薄膜で形成された膜厚７０ｎｍ以上の第１層と、Ｓｉ、Ａｌ、Ｔｉから選ばれる１種以上の金属の酸化膜或いは酸窒化膜で形成され、その膜厚が、５ｎｍ以上、５０ｎｍ以下の第２層と、プラズマ重合膜で形成され、その膜厚が、１０ｎｍ以上、１００ｎｍ以下の第３層を積層して成る。 （もっと読む）

【課題】蛍光体層と基板とを隔離するパリレン層を有することにより、蛍光体による基板の腐食を防止すると共に、パリレン層と蛍光体層との密着性が高く、耐久性に優れた放射線画像変換パネルを提供する。
【解決手段】パリレン層と蛍光体層との間に、酸化硅素や酸化ジルコニウム等の所定の酸化物からなる酸化物層を有することにより、前記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】特にプラスチック等の熱変形温度の低い材料で形成された基板に対して変形等を生じさせにくい薄膜形成装置及び薄膜形成方法を提供する。
【解決手段】基板Ｓに蒸着物質Ｐを蒸着させるイオンアシスト蒸着装置１であって、真空チャンバ２内に配設され基板Ｓを保持するための基板ホルダ３と、基板ホルダ３を回転させる基板ホルダ回転モータ５と、基板ホルダ３に保持された基板Ｓに蒸着物質Ｐを供給して表面に蒸着させる蒸発源６と、基板Ｓからの熱輻射により基板Ｓを冷却するための近接冷却面１３ａが形成された冷却板１３、冷媒管１２及び冷凍機１１とを備え、近接冷却面１３ａは、真空チャンバ２内の基板ホルダ３近傍であって基板Ｓとは非接触となる位置に設けられ、かつ基板Ｓや基板ホルダ３からの輻射熱を吸収可能な温度とされている。基板Ｓの全体を均一に冷却することができるため、基板Ｓが局所的に冷却されることによる変形等が生じにくい。 （もっと読む）

本発明の主題の一つは、基材の第１の側上に堆積された少なくとも１層の薄い連続的な膜の処理のための方法であって、薄膜を連続に保ちながら、そしてこの薄膜を溶融するステップ無しで該薄膜の結晶化度を高めるように、この少なくとも１つの薄膜が少なくとも３００℃に昇温され、該第１の側とは反対側上の温度が１５０℃以下ように保ちたれることを特徴とする、方法。
発明の別の主題は、この方法によって得ることができる材料である。 （もっと読む）

【課題】大電力によるスパッタ時においても、ターゲット材の割れや剥離が発生せず、溶射法やＨＩＰ法によるものと異なり、あらゆる材質のターゲットに適用可能で、かつ、低コストの円筒形スパッタリングターゲット及びその製造方法を提供する。
【解決手段】円筒形基材の外側面に円筒形状のセラミックス焼結体からなる円筒形ターゲット材を複数接合してなる円筒形スパッタリングターゲットとするとともに、前記円筒形ターゲット材同士の接続部に所定量の間隙を有する円筒形スパッタリングターゲットとする。 （もっと読む）

【課題】セラミックス焼結体をターゲット材とする円筒形スパッタリングターゲットであって、スパッタ中にターゲット材に割れが発生することのない円筒形スパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】円筒形基材の外周面に円筒形状のセラミックス焼結体からなるターゲット材を接合してなる円筒形スパッタリングターゲットにおいて、円筒形基材の外周面と円筒形ターゲット材の内周面との間に、スパッタ中に円筒形基材と円筒形ターゲット材の熱膨張率の相違に起因して発生し円筒形ターゲット材に作用する内圧を吸収するための空隙を有し、かつ、十分な熱伝導性と接合強度を有する接合層を設ける。 （もっと読む）

【課題】ＩＴＯにはその特性上、４５０ｎｍ以下の短波長域に吸収があるため、透過色としては黄色くなってしまう問題があったので、透過色に黄色味の無い、ニュートラルな色味を有する透明導電性積層体を提供する。
【解決手段】透明な基板２の一方の面に基板の屈折率と比較して高屈折率材料３、低屈折率材料４をこの順番で積層し、最外層に透明導電膜５を形成した、透明導電性基板１において、その透過光をＤ６５光源２°視野のＬ＊ａ＊ｂ＊表色系で表した時のｂ＊が２以下である、透明導電性積層体。 （もっと読む）

【課題】粉体の組成を変化させずに且つ均一な膜を容易に形成し得る成膜方法を提供する。
【解決手段】真空下にされた容器３内にて、表面に薄膜が形成される基板Ｋを保持する上部電極５と、膜材料である粉体Ｐが載置される下部電極７との間に高圧の直流電圧を印加して両電極５，７間に静電場を形成し、この静電場にて発生した電界により上記粉体Ｐを両電極５，７間で往復移動させて当該粉体Ｐを基板Ｋの表面に付着させて成膜する方法である。 （もっと読む）

【課題】耐久性に優れ、立体感のある美的外観に優れた装飾品を提供すること、前記装飾品を製造することができる製造方法を提供すること、また、前記装飾品を備えた時計を提供すること。特に、被膜形成用のマスクを、多数個の時計用文字板の製造に、繰り返し用いることにより、環境負荷の小さい方法で、耐久性に優れ、立体感のある美的外観に優れた装飾品を製造すること。
【解決手段】本発明の装飾品１の製造方法は、少なくとも一方の面に凸部１２１を有する基板１２を準備する工程と、基板１２の凸部１２１が設けられた面側に、酸化物膜１３を形成する工程と、基板１２の凸部１２１が設けられた面側（酸化物膜１３が形成された面側）に、凸部１２１に対応する部位に開口部２１が設けられたマスク２を配した状態で、気相成膜を行うことにより、金属膜１４を形成する工程と、マスク２を除去する工程とを有している。 （もっと読む）

【課題】抵抗性メモリ素子及びその製造方法を提供する。
【解決手段】抵抗性メモリ素子は、トランジスタのソース２０２またはドレイン２０３上の層間絶縁膜２０６を貫通して形成されたコンタクトプラグ２０７と、コンタクトプラグ２０７に接続された下部電極２１と、下部電極２１上に遷移金属固溶体で形成された固溶層２４と、固溶層２４上に形成された遷移金属酸化物による抵抗層２２と、抵抗層２２上に形成された上部電極２３と、を備える。これにより、電圧及び抵抗特性が安定化した信頼性のあるメモリ素子を具現できる。 （もっと読む）

【課題】薄膜と基板における密着性、光学特性、生産性に優れ、各種機能を有する薄膜付きの基板を提供すること。
【解決手段】少なくとも以下の（ア）〜（ウ）を有する薄膜形成装置を用いて、基板上にスパッタリング手段により蒸着膜を形成後、該蒸着膜とプラズマ発生手段により発生させたプラズマとを反応させて薄膜を形成する薄膜付き基板の製造方法であって、基板としてアクリル系樹脂（ａ）及び脂肪族ポリエステル系樹脂（ｂ）を含む樹脂組成物の成形体を用いる薄膜付き基板の製造方法；
（ア）基板搬送手段、
（イ）基板搬送手段の周辺に沿って設けられたスパッタリング手段、
（ウ）基板搬送手段の周辺に沿って、スパッタリング手段から離間して設けられた、プラズマ発生手段。 （もっと読む）

【課題】ロール・ツー・ロールの積層体製造装置およびその製造装置を用いて成膜された積層体と、この積層体を前面に用いた光学機能性フィルタおよび光学表示装置に関する。
【解決手段】
プラスチック・フィルム上に薄膜層を成膜するために、少なくとも１つ以上のマグネトロン電極を有し、該マグネトロン電極毎に個別に真空度を設定でき、該マグネトロン電極に対し十分に大きな成膜ローラーを備えているロール・ツー・ロール型のマグネトロン・スパッタ装置において、前記成膜ローラーの直前および直後に、該成膜ローラーと比較して小さなローラーを設置し、該小さなローラーを搬送中に、該マグネトロン電極において発生するカソード−とアノード間のプラズマ流により、膜質を緻密化することが可能であることを特徴とするロール・ツー・ロール型のマグネトロン・スパッタ装置。 （もっと読む）

【課題】反射率が小さく、透過率が高い優れた反射防止膜を有するだけでなく、プラスチック基材上における、耐衝撃性、密着性、耐熱性、耐摩耗性及び耐アルカリ性に優れ、生産性も良好な光学部材を提供すること。
【解決手段】プラスチック基材と、真空蒸着で形成された多層反射防止膜とを有する光学部材であって、反射防止膜中の少なくとも１層が、二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、酸化イットリウム及び酸化ニオブから選ばれる少なくとも１種の無機物質と、常温、常圧下で液体であるケイ素非含有有機化合物とを蒸着原料として、形成されるハイブリッド層である光学部材である。 （もっと読む）

【課題】
光吸収のないフッ化物からなる蒸着材料をプラスチックフィルム上に電子ビーム加熱蒸着法により安定的に高速で形成する光学薄膜の成膜方法および成膜装置を提供する。
【解決手段】
フッ化物からなる蒸着材料をターゲットとした電子ビーム加熱蒸着法によりプラスチックフィルム基板上に無加熱で光学薄膜を形成する際、蒸着材料として焼結体を用いることで成膜安定性を保つ。さらにランプ５によりターゲット材料６を照射して加熱をアシストする。このとき蒸着材料６の温度を赤外放射温度計７により測定し、蒸着材料６の温度を制御回路装置を介して電子ビーム投入電力、またはランプ強度にフィードバックして蒸着材料６の温度を所定の範囲に保ち、成膜速度を一定にする。 （もっと読む）

【課題】 長期間にわたって優れた硬度および美的外観を保持することができる装飾品を提供すること、および前記装飾品を提供することができる表面処理方法を提供すること。
【解決手段】 本発明の装飾品の表面処理方法は、基材２の少なくとも一部（２ａ）に、窒化処理または浸炭処理による硬化処理を施す工程（２ｂ）と、硬化処理が施された基材２上の少なくとも一部に下地層４０を形成する工程（２ｃ）と、下地層４０上の少なくとも一部にイオンプレーティング法により被膜３０を形成する工程（２ｄ）とを有する。下地層４０は、Ｔｉ、Ｃｒまたはこれらのうち少なくとも１種を含む合金から構成されるものである。また、被膜３０は、ＴｉＮ、ＴｉＣ、ＴｉＣＮ、ＴｉＯ、ＣｒＮ、ＣｒＣ、ＣｒＣＮおよびＣｒＯよりなる群から選択される少なくとも１種を含む材料で構成されたものである。 （もっと読む）

本発明は、本質的に：ａ）約８０モル％から約９９モル％までのＴｉＯ_２、及びｂ）約１モル％から約２０モル％までの、ｉ）ＷＯ_２、ｉｉ）Ｔａ_２Ｏ_５、ｉｉｉ）Ｎｂ_２Ｏ_５、ｉｖ）ＭｏＯ_２、ｖ）Ｍｏ、ｖｉ）Ｔａ、ｖｉｉ）Ｎｂ、ｖｉｉｉ）Ｗ及びｉｘ）それらの混合物からなる群から選択される１種又は複数種の材料から構成されており、その際、モル％は全生成物を基準とし、成分ａ）と成分ｂ）の総和は１００である組成物に関する。本発明はまた、係る組成物の焼結された製品、焼結された製品から製造されたスパッタリングターゲット及び該組成物から製造された透明な導電性被膜に関する。 （もっと読む）

【課題】データ保存のための強誘電体薄膜の製造方法及びそれを利用した強誘電体記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】基板上に非晶質のＴｉＯ_２層を形成する工程、ＴｉＯ_２層上にＰｂＯガス雰囲気を形成する工程及びＴｉＯ_２層とＰｂＯガスとを４００℃ないし６５０℃の温度範囲で反応させて、基板上に１ｎｍないし２０ｎｍサイズの微細結晶粒構造を有するＰｂＴｉＯ_３強誘電体薄膜を形成する工程を含む強誘電体薄膜の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】撮像光学系に用いても解像度の劣化することのない耐久性に優れたＮＤフィルタを提供する。
【解決手段】光吸収膜３，５と誘電体膜２，４，６を透明基材１上に積層したＮＤフィルタにおいて、透明基材１は、ノルボルネン類をモノマーとして合成され主鎖に脂環構造を持つ非晶質透明フィルムである。非晶質透明フィルムは、少なくとも可視域で透明であり、ヘイズ値が１％以下で、リタデーション値が２０ｎｍ以下である。非晶質透明フィルムは、その厚みが５０μｍ〜２００μｍの範囲にある。光吸収膜３，５は、Ｔｉ，Ｃｒ，Ｎｉ，ＮｉＣｒ，ＮｉＦｅ及びＮｉＴｉから選択される単体若しくはその化合物からなる。誘電体膜２，４，６は、ＳｉＯ_２、Ａｌ_２Ｏ_３、ＭｇＦ_２、ＴｉＯ_２及びＣｅＯ_２から選択される。 （もっと読む）