【課題】可視光の透過率が低く、反射明度および反射彩度が十分に大きい金属光沢を有し、光吸収機能の得られる光吸収層を備える光学薄膜積層体を提供する。
【解決手段】基材２上に、光学薄膜層３が設けられ、光学薄膜層３が、高屈折率薄膜層４，７と低屈折率薄膜層５と純金属薄膜層６から選択される少なくとも一種からなる光吸収層を備えていることを特徴とする光学薄膜積層体１とする。 （もっと読む）

【課題】積極的な加熱処理を伴うことなく、低温で、基材に緻密で均質な結晶質の金属酸化物膜を効果的に形成する技術を提供する。
【解決手段】非晶質を含む金属酸化物膜を、温度１８０℃以下にて、高周波電界中で少なくともアルゴンガスあるいは窒素ガスあるいはそれらを含むガスを励起することにより発生する低温高周波プラズマに曝露することにより、結晶性の金属酸化物薄膜を製造する。好ましい結晶性の金属酸化物薄膜としては、理論密度と比較した相対密度が９０％以上であるものが挙げられる。 （もっと読む）

【課題】光透過における写像性に優れた、彩色、および金属光沢を有する光学薄膜積層体およびそれを用いた加飾成形品を提供することを課題とする。
【解決手段】基材上に薄膜積層体を備える光学薄膜積層体であって、該薄膜積層体が高屈折率薄膜層、低屈折率薄膜層を各１層以上交互に積層した薄膜積層体であり、且つ、前記光学薄膜積層体が光透過における写像性を有することを特徴とする光学薄膜積層体とする。また、前記光学薄膜積層体表面に対して鉛直線方向から測定光を前記光学薄膜積層体に入射したときの光透過法による像鮮明度（ＪＩＳ Ｋ ７１０５に準拠）が、光学くし幅０．１２５ｍｍにおいて８５％以上であることを特徴とする請求項１に記載の光学薄膜積層体とする。 （もっと読む）

【課題】光触媒活性に優れた光触媒酸化チタン薄膜及びその製造方法を提供する。
【解決手段】ナノ結晶構造よりなることを特徴とする光触媒酸化チタン薄膜。ナノ結晶はＣ軸配向していることが好ましい。この光触媒酸化チタン薄膜は、良好な光触媒活性を示す。この光触媒酸化チタン薄膜は、ガスフロースパッタリングにより成膜されることが好ましい。この場合、高速かつ安価に、良好な光触媒活性を示す光触媒酸化チタン薄膜を製造することができる。 （もっと読む）

【課題】本発明は、樹脂等による筐体基板上に形成された複数の微細な突部により、乱反射あるいは干渉色を発する装飾効果を生じさせた装飾筐体及びその製造方法を提供する。
【解決手段】筐体基板１上に配置されたマスク２に設けられた複数の開口部ａ１〜ａ３を通して被成膜材Ｓ１１を供給し、該筐体基板上に複数の島状薄膜３１を成膜する成膜工程が実行される。該複数の島状薄膜の成膜の後に、マスクの配置を前記筐体基板の面方向に移動させる毎に、前記成膜工程を実行し、筐体基板上に複数の島状薄膜の積層体による複数の突部４を形成する。 （もっと読む）

【課題】外部衝撃による傷やクラックの発生を抑制できる反射防止膜及びそれを用いた光学部材を提供する。
【解決手段】プラスチック基板上に設けられる反射防止膜であって、該反射防止膜が、最外層が低屈折率層となるように、基板側から低屈折率層と高屈折率層が交互に積層されてなり、低屈折率層と高屈折率層との間に、金属酸化物からなる緩衝層が少なくとも一層設けられている反射防止膜であって、前記低屈折率層がＳｉＯ₂及びＡｌ₂Ｏ₃から選ばれる少なくとも一種の金属酸化物からなり、前記高屈折率層がＴａ₂Ｏ₅、Ｎｂ₂Ｏ₅及びＺｒＯ₂から選ばれる少なくとも一種の金属酸化物からなり、前記緩衝層がＩｎＳｎＯ、ＩｎＺｎＯ、Ｉｎ₂Ｏ₃及びＴｉＯ₂から選ばれる少なくとも一種の金属酸化物からなる反射防止膜、並びに、プラスチック基板上に前記反射防止膜が設けられた光学部材である。 （もっと読む）

【課題】樹脂製光学素子に光ろ過用多層薄膜を直接に蒸着することにより、多層薄膜レンズの使用を省略可能であり、ひいては撮影素子を小型化可能である樹脂製光学素子用多層薄膜真空蒸着方法とその樹脂製光学素子を持つ撮影素子を提供する。
【解決手段】樹脂製光学素子２１の表面には光濾過用多層薄膜が真空蒸着されてあり、前記光濾過用多層薄膜は、多数の高屈折率薄膜と、多数の低屈折率薄膜とを含み、且つ前記高屈折率薄膜と前記低屈折率薄膜とは交錯に形成されて積層することを特徴とする、樹脂製光学素子用多層薄膜真空蒸着方法。 （もっと読む）

【課題】チタン基材表面にＡｕ層又はＡｕを含む層を強固かつ均一に形成可能な含Ａｕ表面処理Ｔｉ材料を提供する。
【解決手段】Ｔｉ基材２の表面に、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｒ、Ｏｓ及びＰｔからなる群より選択される少なくとも１種類以上のＡｕより易酸化性の貴金属からなる第１成分とＡｕとの合金層６が形成され、合金層とＴｉ基材との間に、Ti、Oがそれぞれ10wt％以上でかつ前記第１成分が20 wt.%以上含まれる１ｎｍ以上の中間層２ａが存在する。 （もっと読む）

【課題】導電性を高く維持しつつ、その透明性も改善された透明導電膜を提供する。
【解決手段】透明基材５の少なくとも一方の面に、第1セラミック薄膜２、第2セラミック薄膜３および導電性薄膜４を順次積層させてなる積層体１を設け、前記第1セラミック薄膜の屈折率n1、前記第2セラミック薄膜の屈折率n2、前記導電性薄膜の屈折率n3がn1>n3>n2の関係を満たし、前記第1セラミック薄膜の膜厚が5〜30nmであり、第2セラミック薄膜の膜厚が50〜100nmであり、かつC光源に対する透過Yが87％以上であることを特徴とする透明導電膜。 （もっと読む）

【課題】クロム処理の不都合を解消した自動車のハンドルの処理を提供する。
【解決手段】１または複数の固定部品（４）、（１３）または可動部品（１）を備える自動車のハンドルをコーティングするための方法であって、これらの部品（１）、（４）、（１３）の少なくとも１つの部品（１）、（１３）の外面を、蒸着法でコーティングする方法。 （もっと読む）

【課題】化合物、遷移、金属の各状態の全てをシームレスに、安定に制御できる反応性スパッタリングの制御方法と、膜形成を破綻せず安定して遷移状態で高速に成膜可能な反応性スパッタリングによる成膜方法を提供する。
【解決手段】スパッタ状態の変化に対応して変わる特定波長のプラズマ発光強度を検知し、検知したプラズマ発光強度が所定値となるよう反応性ガス導入量を制御する制御方法であって、特定波長のプラズマ発光強度が目標値に一致するように第１ＰＩＤ制御で制御すると共に、第２ＰＩＤ制御で、第１ＰＩＤ制御で期待するプラズマ発光強度の変動量と、実際に生じたプラズマ発光強度の変動量との偏差が小さくなるように反応性ガス導入量を制御し、得られた第１ＰＩＤ制御出力値と第２ＰＩＤ制御出力値を合計した制御出力値で反応性ガス導入量の最終制御を行う。 （もっと読む）

【課題】 カルーセル式の成膜装置において、細長片形状のターゲットの外周部の非エロージョンからの異常放電を抑制し、成膜過程においてパーティクルの発生を低減することが可能な成膜装置を提供する。
【解決手段】 真空チャンバ内に、その周面に基材を配置することができるように構成された回転可能な円筒ドラムを設け、前記基材に対向する位置に配置される細長片形状のターゲットをスパッタすることにより前記基材に成膜を行う成膜装置であって、前記成膜装置は、前記細長片形状のターゲットをスパッタするためのＤＣパルスカソードと、前記細長片形状のターゲットの被スパッタ面と対面する位置にＤＣパルスアノードとを備えたことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】基材のカールを低減し、膜割れの発生を抑制する上で有利であり、かつ、明度を増大させた赤色の金属光沢を得る上で有利な光学薄膜積層体およびそれを用いた加飾成形品を提供する。
【解決手段】光学薄膜積層体１は、基材２と、基材２の両面にそれぞれ設けられた薄膜積層体３および４とから構成される。薄膜積層体３は、高屈折率薄膜層５、７と低屈折率薄膜層６とが交互に積層されることで構成される。薄膜積層体４は、高屈折率薄膜層８、１０と低屈折率薄膜層９とが交互に積層されることで構成される。高屈折率薄膜層は、光の波長５５０ｎｍでの屈折率が１．８以上２．４以下であり、かつ、消衰係数が０．５以下であり、低屈折率薄膜層は、光の波長５５０ｎｍでの屈折率が１．３以上１．７５以下であり、かつ消衰係数が０．５以下である。 （もっと読む）

【課題】 物理的膜厚ｄを均一にするだけでなく屈折率ｎも光学基板（ＯＥ）上で均一にすることで光学膜厚ｎｄを全体で均一にする光学薄膜成膜方法を提供する。
【解決手段】 第１の観点による光学薄膜成膜方法は、真空チャンバー（１２）内に配設された基板（ＯＥ）上に光学薄膜を成膜する方法である。そして、基板保持部（１９）が有する複数の保持枠（３３）に基板を保持させる保持工程（Ｓ１１）と、基板を加熱する加熱工程（Ｓ１２）と、蒸着源から蒸着材料を放出する放出工程（Ｓ１５）と、を備え、保持枠（３３）が基板（ＯＥ）全体を均一に加熱された状態にする。 （もっと読む）

【課題】 二酸化チタン光触媒皮膜の形成において、有機バインダ等の結合剤を用いずに、大面積の基材に厚い膜を形成することにより、二酸化チタンの光触媒作用による、有機バインダの劣化が無く、長期間安定な光触媒皮膜を形成する。
【解決手段】 凝集した形態のアナターゼ型二酸化チタンを原料粉末とし、比較的低いガス圧力及び、アナターゼ型二酸化チタンの結晶変態温度以下の温度にて、原料粉末を加熱・加速し、基材上に衝突させることにより、基材上にアナターゼ型ニ酸化チタン光触媒皮膜を形成する。 （もっと読む）

本発明は、気相からの酸化チタン層の基板への真空に基づく堆積方法であって、含酸化チタン源から含酸素雰囲気下において５００℃より低い基板温度で、２５ｎｍ／秒より低い堆積速度で堆積が行われ、該堆積後に、少なくとも３０分の間、含酸素雰囲気下で２００℃から１０００℃の間で、コーティングされた基板が熱処理されることを特徴とする方法に関する。 （もっと読む）

【課題】 食品の揚げ物等に使用する食用油使用時の食品の揚げ上がり状態向上と食用油自体の劣化の低減と低めの揚げ温度でも良好に上げあがることと、廃棄油のバイオ燃料としてのリサイクル性を備え、なおかつ食品安全性にすぐれた地球環境に貢献できる技術を提供する。
【解決手段】 粉体状の土粘土と粉体状の陰イオン活性セラミックスからなる混合物を高温で熱焼成形させたセラミックス組成物と粉体状の遠赤外線発生セラミックスからなる混合物を高温で熱焼成形させたセラミックス組成物と粉体状の土粘土と粉体状の放射線セラミックスからなる混合物を高温で熱焼成形させたセラミックス組成物表面に金属被膜を形成させた組成物の組合せによる前記３種類からなる組成物を油に浸漬して使用。 （もっと読む）

【課題】波長の選択性を向上させた誘電体多層膜フィルタの製造方法および誘電多層膜フィルタの製造装置を提供する。
【解決手段】第一チャンバＦＬと第二チャンバＦＨは、それぞれ対応する屈折率を有する誘電体、あるいは、その誘電体に含まれる導体元素を主成分とするターゲット１８を搭載し、該ターゲット１８をスパッタして低屈折率層と高屈折率層を形成する。そして、第一チャンバＦＬと第二チャンバＦＨは、それぞれターゲット１８をスパッタするときに、対応するバイアス電源Ｇ１を駆動して基板２に負のバイアス電位を印加し、かつ、対応する熱交換器ＨＸを駆動して基板２の温度を室温にする。 （もっと読む）

本発明は、ポリマー基板（２）と銅層（４）とを含むフレキシブルプリント基板材料およびこのようなフレキシブルプリント基板材料の製造方法に関し、前記ポリマー基板と前記銅層との間に酸化チタンからなる層（３）が堆積され、前記酸化チタンからなる層および前記層層は真空プロセスによって堆積される。前記ポリマー基板は例えばポリイミド、ＰＥＮ、ＰＥＥＫ、ＰＥＴ、またはフルオロポリマーから形成されている。
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【課題】基板、基材に対し、安定して長時間、かつ高速での真空成膜が可能であるロール・ツー・ロール型装置を提供すること。
【解決手段】メインチャンバー１１において成膜を行っている最中、第１ローラーユニット１４０２が上昇し、第１フィルム長さ調整機構１４の第１サブチャンバー１０内にウェブ２３が溜め込まれた状態となる。繰り出しローラー１にセットした原反のエンドに達すると同時に第１ロードロックローラー２を閉め、繰り出しローラー１と第１ロードロックローラー２の間でウェブ２３は静止した状態となりゼロスピードの状態となる。これと同時にダンサーローラーヘッド２８はウェブ２３の搬送速度に合わせて、第１サブチャンバー１０の下部に下りて行き、第１サブチャンバー１０内に溜められたウェブ２３は、メインチャンバー１１へ搬送され、成膜が続行されている状態が出来る。 （もっと読む）