【課題】透明な樹脂基板の耐摩耗性を改善する積層膜、又は混合硬質膜を形成する技術を提供する。
【解決手段】図１の符号１は、窓ガラス代替物を形成する混合硬質膜を形成する混合硬質膜形成装置であって、蒸着室１２内に、ＴｉＯから成る第一蒸着源２１とＳｉＯ₂から成る第二蒸着源２２が成膜対象物の移動方向の真下に離間して並べて配置されている。この混合硬質膜形成装置１を用いて、蒸着室１２内に酸素ガスを導入し、ＴｉＯから成る第一蒸着源２１とＳｉＯ₂から成る第二蒸着源２２を加熱して蒸発させながら、ＳｉＯ₂よりＴｉＯ₂が多い位置から、ＴｉＯ₂が徐々に少なくなり、ＳｉＯ₂が増加する位置までの領域を形成し、その領域内で透明な樹脂基板を通過させて混合硬質膜を形成させる。 （もっと読む）

【課題】 所望する光学的機能を有しつつ、簡便な方法で耐衝撃性を向上することのできる機能性膜付基板の製造方法を提供する。
【解決手段】 物理的気相成長法を用い略真空雰囲気中にて透明樹脂からなる基板上に金属酸化物を蒸着させることによってなる光学薄膜が形成された機能性膜付基板を製造する方法において、金属酸化物を基板上に蒸着する際に、酸素，窒素，希ガスの何れかから選ばれる少なくとも１種のガスを真空度１．０×１０^-2Ｐａ〜９．０×１０^-1Ｐａの範囲内で過剰なガス導入をして蒸着させる。 （もっと読む）

【課題】 本発明は合金化溶融亜鉛めっき鋼板に係り、さらに詳しくは耐溶接スパッタ付着性に格段に優れた合金化溶融亜鉛めっき鋼板を提供することを目的とするものである。
【解決手段】 鋼板の片面または両面にＡｌ：０．０５〜０．５質量％、Ｆｅ：５〜１７質量％、残部がＺｎおよび不可避的不純物からなる合金化溶融亜鉛めっき層を有する合金化溶融亜鉛めっき鋼板の表面に、溶融鉄との接触角が９０度以上、その表面積がめっき層の表面積の１．４〜１００倍である皮膜を形成させる。 （もっと読む）

【課題】光学的性質を劣化させずに長期間に渡って帯電防止効果を保つことができるとともに耐薬品性に優れる光学多層膜フィルターと、該フィルターを簡便に製造する光学多層膜フィルターの製造方法を提供すること。
【解決手段】光学多層膜フィルター１０は、ガラス基板１と、ガラス基板１の上面に複数層の光学薄膜２と、防汚層３と、を備えて構成される。光学薄膜２は、ガラス基板１側から高屈折率層２Ｈ１がまず積層され、積層された高屈折率層２Ｈ１の上面に低屈折率層２Ｌ１が積層され、以下、高屈折率層、低屈折率層が順次、交互に積層され、低屈折率層２Ｌ３０と高屈折率層２Ｈ３０との間にa−Ｓｉ層２１が積層され、高屈折率層と低屈折率層とが各々３０層とa−Ｓｉ層２１との計６１層の光学薄膜２を形成している。 （もっと読む）

【課題】生産性低下やコストアップを生じることなく、スパッタリング成膜による基板面内分布を改善し、もって良好な磁気特性、電磁気特性が得られ垂直磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】スパッタリング装置を用いた成膜工程を含む垂直磁気記録媒体の製造方法であって、成膜時にチャンバー内のターゲット近傍、好ましくはターゲット位置から２０ｍｍ以内の範囲にほぼ均一な材料ガス分布が存在するように、材料ガスの噴出口を前記ターゲットの近傍に配置した。 （もっと読む）

【課題】光学特性に影響を与えず、高精度な光学特性を有する光学物品が得られる光学物
品の製造方法を提供すること
【解決手段】第一光学基板１１または第二光学基板の少なくとも一方に多層膜１２が形成
されて前記多層膜１２を介して互いに接合する光学物品の製造方法であって、第一光学基
板１１または第二光学基板の少なくとも一方に形成された前記多層膜１２の表面に沿って
衝撃付与部材２０を滑走させて前記多層膜１２の表面の凸部１２１を脱離し、前記多層膜
１２の表面、前記第一光学基板１１または前記第二光学基板の少なくともいずれか一方に
プラズマ重合膜を形成し、これらを接合することを特徴とする光学物品の製造方法。 （もっと読む）

【課題】シート抵抗の低い反射防止層を備えた光学物品を提供する。
【解決手段】プラスチックレンズ基材１と、このレンズ基材１の上にハードコート層２を介して形成された透光性の反射防止層３とを有し、反射防止層３の１つの層３２上にゲルマニウムを含む透光性の導電層３３が形成されているレンズ１０を提供する。このレンズサンプルのシート抵抗値を１２乗程度あるいはそれ以下に低下させることが可能であり、ごみの付着を防止するのに十分な帯電防止機能を備えた光学物品を提供できる。 （もっと読む）

【課題】
フィルムロール状に巻き取った際に、シワやクラックになりにくい金属蒸着ポリエステルフィルムを提供する。
【解決手段】
ポリエステルフィルム層（Ｆ層）の少なくとも片面に金属酸化物を含む層（Ｍ層）を設けた金属蒸着ポリエステルフィルムであって、Ｍ層の光学濃度ＯＤが０．７〜８．０であり、幅方向の蒸着厚みムラが２０％以下である金属蒸着ポリエステルフィルムとする。 （もっと読む）

【課題】制御が複雑となる反復計算を用いることなく、また、真空蒸着にありがちな成膜速度変動等の影響を受けることなく、光学膜厚を制御しながら屈折率を高精度に制御し、厳しい仕様が求められる光学素子を安定して製造する。
【解決手段】まず、成膜しようとする薄膜の物理膜厚に対するモニタ光の目標光量変化を予め設定する（Ｓ１）。次に、薄膜の成膜を開始し（Ｓ２）、成膜途中で薄膜の物理膜厚を検知する（Ｓ３）。同時に、Ｓ３で検知した物理膜厚でのモニタ光の光量を検知する（Ｓ４）。そして、Ｓ３で検知した物理膜厚におけるＳ４でのモニタ光の検知光量と、Ｓ１で予め設定されたその物理膜厚における目標光量との差に基づき、その後の物理膜厚に対するモニタ光の光量変化が予め設定された目標光量変化に追従するように、成膜条件を変更しながら薄膜を成膜する（Ｓ５）。 （もっと読む）

【課題】ガラス基板等の薄い基板上に形成される薄膜の内部応力に起因する薄い基板の反りの発生を防止する成膜方法を提供すること。
【解決手段】大板１に成膜し、この成膜後の大板１を切断分割して複数の短冊の基板とする成膜方法であって、前記大板１とこの大板１を保持するための保持部材２とを前記大板１の少なくとも外周縁より内側に配置した接合部３で接合する接合工程と、この接合した前記大板１を前記保持部材２とともに成膜装置内に配置される被装着部材６の窓部６１に取り付ける取付工程と、前記窓部６１に取り付けた前記大板１に成膜する成膜工程と、この成膜した前記大板１を切断して前記短冊の基板に分割するとともに、前記短冊の基板と前記保持部材２とを分離する切断分割工程と、を実施する。 （もっと読む）

【課題】導電性、透過率が高く、かつ実用上十分な優れた密着性および耐久性を有し、低温成膜が可能でアニール前後の抵抗率変化の少ない透明導電薄膜を提供する。
【解決手段】透明基板３２の少なくとも一方の面上に、無機酸化物層２、酸化インジウム・スズ（ＩＴＯ）薄膜層１をこの順に積層した透明導電薄膜において、無機酸化物層２が、高屈折率金属酸化物層２２、低屈折率無機酸化物層２１の順に積層され、前記ＩＴＯ薄膜層が２層１１，１２からなり、高屈折率金属酸化物層２２の屈折率が１．７〜２．８、膜厚が５〜５０ｎｍであり、低屈折率無機酸化物層２１の屈折率が１．２〜１．５、膜厚が１０〜１００ｎｍであり、ＩＴＯ薄膜層１の最表面の層１１の酸化スズの含有量が、ＩＴＯ薄膜層の他の層１２の酸化スズの含有量より大きいことを特徴とする、透明導電薄膜。 （もっと読む）

【課題】水分等による腐食を防ぐことにより、耐久性を向上させて銀系光反射鏡の高反射率という利点を長期間維持できる光反射鏡及びその製造方法を提供する。
【解決手段】水分に対する耐腐食性が銀より優れる、所定の銀合金を使用し、さらに、形成される各構成膜の密着性および緻密性を高めることによって、高反射率と高耐久性を両立させ得る多層膜構造の銀合金光反射鏡及びその製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】膜表面に発現した光触媒作用を速やかに消失させることができる光触媒性薄膜を基板の表面に成膜することができる成膜方法を提供する。
【解決手段】真空容器１１の内部に形成された成膜プロセス領域２０Ａで、少なくともチタン、亜鉛及びタンタルを含む群から選択される金属で構成されたターゲット２２ａ，２２ｂをスパッタし、基板Ｓに金属で構成される膜原料物質を付着させるスパッタ工程と、成膜プロセス領域２０Ａとは離間して形成された反応プロセス領域６０Ａで、少なくとも反応性ガスのプラズマを膜原料物質に接触させて膜原料物質で構成される第１の薄膜を生成させる反応工程と、スパッタ工程及び反応工程を複数回繰り返し、第１の薄膜を複数回堆積させて第２の薄膜を形成する薄膜堆積工程とを有する成膜方法であって、第２の薄膜に対し、反応性ガスとともに不活性ガスを積極的に含む混合ガスのプラズマを第２の薄膜に接触させる。 （もっと読む）

【課題】高温用伝導性の接着剤を使用せずに、大面積金属・絶縁体転移（ＭＩＴ）物質であるＶＯ₂薄膜をインシチュ（in-situ）で蒸着できる成長装置及び大面積酸化物薄膜の成長方法を提供する。
【解決手段】高温でＰＬＤ（pulsed laser deposition）、スパッタ（sputter）などによって、金属・絶縁体転移物質であるＶＯ₂を成長させるとき、熱伝導を良好にするために、固定装置１２０ｂにより基板１１０とヒータ１００ｂ表面との接着を改善することによって、特性が優秀な大面積ＶＯ₂薄膜を、既存方式より簡単に成長させることができる大面積バナジウム酸化物薄膜の成長装置、及びその成長装置での大面積酸化物薄膜の成長方法。 （もっと読む）

【課題】帯電防止性および耐久性の良好な反射防止層を形成できる光学物品を提供する。
【解決手段】プラスチックレンズ基材１と、この基材１の上にハードコート層２を介して形成された透光性の反射防止層３とを有し、反射防止層３の１つの層３２の表面３３がシリサイド化されているレンズ１０を提供する。このレンズサンプルは、シート抵抗が従来のサンプルに比較し、３桁〜６桁（１０³〜１０⁶）程度小さくなり、光吸収損失の大幅な増加もなく、優れた耐薬品性および耐湿性を備えている。 （もっと読む）

【課題】より安定に記憶保持が行えるメモリ装置が構成できるなど、金属酸化物を用いて安定した動作が得られる素子を提供できるようにする。
【解決手段】強誘電体層（１０４）を下部電極層（１０３）と上部電極（１０５）とで挾み、下部電極層（１０３）と上部電極（１０５）との間に所定の電圧（ＤＣ，パルス）を印加して強誘電体層（１０４）の抵抗値を変化させ、安定な高抵抗モードと低抵抗モードを切り替えれば、メモリ動作が得られる。読み出しは、上部電極（１０５）に、所定の電圧を印加したときの電流値を読み取ることで容易に行うことができる。 （もっと読む）

【課題】紫外線遮蔽機能をもち、酸性雨に対する耐性の高いハードコート構造を備えた透明体を提供する。
【解決手段】透明基材１と、基材１上に順に配置された、紫外線吸収層２とハードコート層３とを有する透明体であって、紫外線吸収層２として、アモルファスなＴｉＯ_２膜を用いる。ＴｉＯ２膜は、耐酸性が高い性質を有し、しかも、アモルファスなＴｉＯ_２膜は光触媒性能を備えないため、基材との密着性が高い。 （もっと読む）

【課題】被加工物の被加工面を加工することにより平坦性の高い被加工面を形成することのできる加工方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る加工方法は、処理液３０中に被加工面２０ａを有する被加工物２０を設置する被加工物設置工程と、光触媒を含む薄膜を被加工面２０ａに対向させて処理液３０中に設置する薄膜設置工程と、薄膜に光を照射して、光触媒の光触媒作用により処理液３０から活性種４０を生成させる活性種生成工程と、活性種４０と被加工面２０ａの表面原子２２とを化学反応させ、処理液３０中に溶出する化合物５０を生成させることにより被加工物２０を加工する加工工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】分光透過率が可視域において均一で、ゴースト等の画像に対する悪影響を低減することが可能となるＮＤフィルタの膜構成並びにこのようなＮＤフィルタを有する光量絞り装置や該光量絞り装置を有するカメラを提供する。
【解決手段】透明基板上の１面に光の吸収膜と誘電体膜を交互に積層することによって透過光量を変えるようにした多層膜に、屈折率の異なる２種類以上の膜からなる多層反射防止層を積層し、２面に屈折率の異なる２種類以上の膜からなる多層反射防止層を積層し、総体としての応力によって、１面側を凸にすることで、画像に対する悪影響を低減することが可能となり、分光特性がフラットで低反射率のＮＤフィルタ、並びにこれらのＮＤフィルタを有する光量絞り装置及びカメラを実現することができる。 （もっと読む）

【課題】光学損失の少ない多層膜を製造する方法と装置を生産すること。
【解決手段】被覆装置又は反応装置に対して相対的に移動可能な少なくとも１つの基板上で、第一の層の上に、反応性成分を有する第二の層の堆積を行い、かつ少なくとも１つの層の構造および／または化学量論比の変更を反応装置によって行う多層膜を製造する方法において、所定の値以下に多層膜の光学損失を低下させるために、第一の層に隣り合う第二の層の領域内に、厚さｄ₁を有し、かつ反応性成分の不足ＤＥＦがＤＥＦ₁値よりも小さい値を有する境界面の構成を行い、第二の層の瞬間の厚さｄ（ｔ）の値を、有利には第二の層の堆積の間に算出し、かつｄ（ｔ）がｄ₁よりも大きくなり次第、反応性成分の不足ＤＥＦがＤＥＦ₁よりも大きい値を有する第二の層の堆積を行うことを特徴とする、多層膜の製造方法。 （もっと読む）