【課題】 物理的膜厚ｄを均一にするだけでなく屈折率ｎも均一にした光学素子（ＯＥ）を提供する。
【解決手段】 第１の観点による光学素子（ＯＥ）は、基板を真空チャンバー内に配設し、基板保持部が有する複数の保持枠に基板を保持させ、基板を中央部から周辺部にかけて均一に加熱し、中央部から周辺部にかけて基板を均一に加熱している状態において蒸着源から蒸着材料を放出し、基板に蒸着材料を蒸着する光学薄膜成膜方法によって成膜された光学薄膜を含む光学素子である。そして光学薄膜の光学膜厚ｎｄは、光学素子の中央部から周辺部の表面にかけて形成され、周辺部の光学膜厚ｎｄと中央部の光学膜厚ｎｄとが、均一である。なお、光学膜厚ｎｄは、屈折率ｎ×物理的膜厚ｄである。 （もっと読む）

【課題】耐水性等の諸性能が良好な反射防止層、および反射防止層を備えたレンズなどの光学物品を提供する。
【解決手段】レンズ１０は、ｎ＋１層の低屈折率層３１とｎ層（ｎは２以上の整数）の高屈折率層３２から構成される反射防止層３を含む。低屈折率層３１と高屈折率層３２とが交互に積層され、複数の高屈折率層３２のうちの少なくとも１層は酸化ジルコニウムを主成分とする第１の蒸着源のみを用いて蒸着形成された第１タイプの層であり、その他の高屈折率層３２は酸化チタンを主成分とする第２の蒸着源のみを用いて蒸着形成された第２タイプの層である。複数の低屈折率層３１はそれぞれ酸化シリコンを主成分とする第３の蒸着源のみを用いて蒸着形成された第３タイプの層である。 （もっと読む）

【課題】高屈折率でありかつ光メディアの保存性を十分に確保できる光メディアの干渉層をＤＣスパッタリングにより製造可能なスパッタリングターゲット、及び、スパッタリングターゲットの製造方法を提供する。
【解決手段】４５〜９０ｍｏｌ％のＴｉＯ_２と、残部のＺｎＯと、からなり、比抵抗が０．００１Ωｃｍ〜１Ωｃｍである光メディア用スパッタリングターゲットを提供する。また、４５〜９０ｍｏｌ％のＴｉＯ_２と、残部のＺｎＯと、からなる組成を有する原料粉体を不活性雰囲気中または真空中で焼成する工程を備える光メディア用スパッタリングターゲットの製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】隣接する薄膜間に勾配層が形成された多層膜であって、勾配層における濃度勾配がなだらかな多層膜を形成し得る方法を提供する。
【解決手段】円筒型の第１及び第２のターゲット３１ｂ，３２ｂを、第１のターゲット３１ｂからのスパッタ粒子の飛散領域である第１の飛散領域Ｒ１と、第２のターゲット３２ｂからのスパッタ粒子の飛散領域である第２の飛散領域Ｒ２とが重なるように配列し、第１のターゲット３１ｂ内の第１のカソード３１ａと第２のターゲット３２ｂ内の第２のカソード３２ａとの間に交流電圧を印加した状態で、基体１０を、第１及び第２のターゲット３１ｂ，３２ｂの配列方向において、第１のターゲット３１ｂ側から第２のターゲット３２ｂ側に向けて移動させ、第１及び第２の飛散領域Ｒ１，Ｒ２を通過させることによって基体１０の上に、第１及び第２の薄膜１１，１３と勾配層１２とを形成する。 （もっと読む）

【課題】バリア膜としての特性や品質に優れるＴｉ−Ａｌ−Ｎ膜を再現性よく形成することを可能にしたスパッタターゲットを提供する。
【解決手段】Ａｌを1〜30原子％の範囲で含有するＴｉ−Ａｌ合金により構成されたスパッタターゲットであって、前記Ｔｉ−Ａｌ合金中のＡｌは、Ｔｉ中に固溶した状態、およびＴｉと金属間化合物を形成した状態の少なくとも一方の状態で存在しており、かつ前記Ｔｉ−Ａｌ合金の平均結晶粒径が500μm以下であると共に、ターゲット全体としての結晶粒径のバラツキが30％以内、前記Ｔｉ−Ａｌ合金の平均酸素含有量が1070ppmw以下であることを特徴とするスパッタターゲット。 （もっと読む）

【課題】短時間で透明導電層を結晶化させること、及び、基板の熱収縮処理を行い、導電層のパターニング、貼り合せの前に、後工程で加えられる熱による寸法変化を抑制することで、複数の透明導電性フィルムのパターン位置合わせ精度を向上させる透明導電性積層体の製造方法を提供する。
【解決手段】透明基板の片面に少なくとも透明導電層を形成する工程と、前記透明基板上に形成された透明導電層を加熱処理する工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】本発明は、作製工程と作製時間の短縮化を図ったうえで、パターンの位置合わせを容易に実現することにある。
【解決手段】第一の透明基板層１ａの片面に少なくとも透明導電層２ａを形成する工程と、第二の透明基板層１ｂの片面に少なくとも透明導電層２ｂを形成する工程と、透明導電層３ａ，３ｂを外側にして、第一の透明基板層１ａと第二の透明基板層１ｂとを粘着剤６で貼り合わせる工程と、第一の透明基板層１ａの透明導電層２ａ及び第二の透明基板層１ｂの透明導電層２ｂを加熱処理する工程とを備えて構成したものである。 （もっと読む）

【課題】装置のダウンタイムを低減し生産性を向上するスパッタリング装置を提供する。
【解決手段】スパッタリング装置１０は、外部より低圧な雰囲気に維持可能なチャンバ１２と、チャンバ１２内で基材１４を保持する保持部１６と、保持部１６で保持された基材１４に周面が対向するように設けられた回転可能な回転陰極１８であって、表面のターゲット材料をスパッタリングするための電力が供給される筒状の回転陰極１８と、回転陰極１８の表面に金属材料を供給可能な金属材料供給手段と、成膜室２２と金属材料供給室２４との間のガスの移動を規制するガス遮蔽部材１３０と、を備える。金属材料供給手段は、化学反応により回転陰極１８の表面にターゲット材料として成膜される原料を外部から供給可能な原料供給路２２０を有する。 （もっと読む）

【課題】高い圧電性能と良好な表面モフォロジを有する圧電体膜とその製造方法、圧電素子および液体吐出装置を提供する。
【解決手段】下記式（Ｐ）で表されるペロブスカイト型酸化物からなり、０．０９０≦ｂ≦０．２５を満たし、Ｂサイト中のＮｂ比率が、０．１３≦ａ×（１−ｂ）を満たすことを特徴とする圧電体膜とその製造方法である。また、この圧電体膜を用いた圧電素子および液体吐出装置である。
Ｐｂ_１＋δ（Ｚｒ_ｘＴｉ_ｙ）_１−ａ（Ｍｇ_ｂＮｂ_１−ｂ）_ａＯ_ｚ ・・・（Ｐ）
（なお、δ＝０、ｚ＝３が望ましいが、ペロブスカイト構造をとり得る範囲内で変更可能である。また、Ｐｂに変えてペロブスカイト構造をとり得る範囲の量で他のＡサイト元素に置換することも可能である。） （もっと読む）

【課題】本発明は、高い反射率と良好な耐久性とを同時に実現せしめることが可能な反射積層膜を提供することを課題とした。
【解決手段】基材上に成膜される反射積層膜であり、該反射積層膜は基材上に下地層、該下地層上にＡｇを主成分とする反射層、該反射層上に保護層、該保護層上に透明増反射層を有し、前記反射層がＮを含むものであり、前記透明増反射層がＳｉの酸窒化物層を含む積層体であり、該積層体はＳｉの酸窒化物層を含む低屈折率層と高屈折率層とを含むものであることを特徴とする反射積層膜。 （もっと読む）

【課題】帯電防止性およびその耐久性の良好な第１の層を含む光学物品を提供する。
【解決手段】光学物品は、光学基材と、光学基材の上に直にまたは他の層を介して形成された、ＴｉＯｘ（０＜ｘ≦２）を含む透光性の第１の層とを有する。この光学物品においては、第１の層の表層域のアルゴン濃度は第１の層の深部のアルゴン濃度よりも高い。この光学物品の一例は、第１の層を表面から深さ方向に二次イオン質量分析した際のスペクトルにおいてアルゴンのピークが表層域にあるものである。この光学物品は、たとえば、眼鏡レンズに好適である。 （もっと読む）

【課題】取り扱いが容易で、複数の面に膜を簡便に形成することが可能な光学部品を提供する。
【解決手段】光学部品１は枠体２を有する。枠体２の内側には、複数の光学機能部５が向きを揃えて互いに所定間隔の距離をおいて配列されている。各光学機能部５の両端部にはそれぞれツバ部６が設けられている。ツバ部６において光学機能部５とは反対側に、連結部７が設けられている。連結部７の一方の端部はツバ部６に接続され、他方の端部は枠体２に接続されている。これにより、連結部７は、ツバ部６と枠体２とを連結する。 （もっと読む）

【課題】クラックや剥離の生じにくい透明導電フィルム及びその製造方法並びにタッチパネルを提供すること。
【解決手段】透明な樹脂からなる基材フィルム１１と、基材フィルム１１の表面に形成された、アルミナよりも屈折率の高い第１金属酸化物層１２と、第１金属酸化物層１２の表面に直接形成された、アルミナからなるアルミナ層１３と、アルミナ層１３の表面に直接形成された、アルミナよりも屈折率の低い第２金属酸化物層１４と、第１金属酸化物層１２とアルミナ層１３と第２金属酸化物層１４とを基材フィルム１１との間に介在させるように形成された透明導電層１５とからなる透明導電フィルム１。 （もっと読む）

【課題】表面に写る反射像が不鮮明に見える現象が抑制され、良好な外観を有する合わせガラスを得ることができる赤外線反射フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】透明樹脂フィルム２上に赤外線反射膜３を構成する複数の構成膜のうち最初に成膜される１つの構成膜３（１）を０．５０Ｐａ以上の圧力下で真空成膜する工程と、前記最初の構成膜が成膜された透明樹脂フィルムを１．０×１０^−３Ｐａ以下の高真空下で３０秒以上保持する工程と、前記高真空下での保持が行われた透明樹脂フィルム２に前記複数の構成膜の残りの構成膜３（２）〜３（Ｎ）を真空成膜して赤外線反射フィルム１とする工程とを有する赤外線反射フィルムの製造方法。 （もっと読む）

【課題】膜中の鉛量を低減することで、高湿中の駆動耐久性を得ることができる圧電体膜、圧電素子および液体吐出装置を提供する。
【解決手段】多数の柱状結晶からなる柱状結晶構造を有し、下記式（Ｐ）で表されるペロブスカイト型酸化物を主成分とすることを特徴とする圧電体膜。
Ｐｂ_ａＡ_ｂ［（Ｚｒ_ｃＴｉ_１−ｃ）_１−ｄＢ_ｄ］Ｏ_ｅ・・・（Ｐ）
（式中Ｐｂ、ＡはＡサイト元素であり、Ｚｒ、ＴｉおよびＢはＢサイト元素である。ａ：鉛量、ｂ：Ａサイトドープ量、ｃ：Ｚｒ／Ｔｉ比、ｄ：Ｂサイトドープ量、ｅ：酸素量であり、ａ＜１、ａ＋ｂ＞１、０＜ｄ＜ｂである。ｅ＝３が標準であるが、ペロブスカイト構造を取り得る範囲内で基準値からずれてもよい。） （もっと読む）

【課題】耐傷性、耐腐食性に優れ、かつ高級感のある硬質装飾部材を提供することにある。
【解決手段】本発明の硬質装飾部材は基材上に密着効果の高い密着層と、反応ガス含有量が傾斜的に増加した傾斜密着層と、複数の異なる種類の薄膜硬化層が積層された薄膜複合構造を有する耐磨耗層と、反応ガス含有量が傾斜的に減少した色上げ傾斜層からなることを特徴とする。基材と膜間および積層される膜同士間の密着性が著しく向上することで耐傷性が向上すると共に、密着性が高いことから耐磨耗層を厚く形成でき、さらに耐磨耗層を薄膜複合構造にすることで膜硬度が上昇し耐傷性が著しく向上する。また耐磨耗層を薄膜複合構造にする事で光の散乱増加を抑止し、さらに色上げ傾斜層を形成することにより、輝度が高く高級感のある硬質装飾部材を提供できる。 （もっと読む）

【課題】ＩＴＯと同等以上の導電性を有する透明な酸化チタン系薄膜を工業的に製造するのに適したターゲット材を提供すること。
【解決手段】酸化チタン粉末にホウ素単体粉末またはホウ化チタン粉末を混合して焼結し、ホウ素のドープされた酸化チタン透明薄膜形成に際して使用する直流スパッタ用ターゲット材を製造するターゲット材製造方法である。本発明によれば、ＩＴＯ代替の透明電極等を製造できる工業用途向けのターゲット材を製造することができる。 （もっと読む）

【課題】ガラス・タイプの透明基板をコートするのに用いることができる新しい薄膜材料、新しい堆積・プロセスおよび新しい装置を提供する。
【解決手段】少なくとも一つの薄い誘電体層がコートされた基板（１）、例えばガラス基板。誘電体層はカソード・スパッタリングによって、例えば、磁界によってたすけられる、好ましくは酸素および／または窒素の存在下で反応性であるカソード・スパッタリングによって、イオン源（４）からの少なくとも一つのイオンビーム（３）への曝露と、堆積される。イオンビームに曝露された誘電体層が結晶化することもできる。 （もっと読む）

【課題】光学多層膜を有しながらも耐熱性に優れたプラスチック光学製品や眼鏡プラスチックレンズを提供する。
【解決手段】プラスチック光学製品において、プラスチック基材１の表面に、直接又は中間膜２を介して７層の光学多層膜３を形成する。光学多層膜３の層は、プラスチック基材１側のものを低屈折率層として、高屈折率層と交互に配置する。そして、少なくとも中央の前記高屈折率層に、不足当量酸化チタンを含ませる。又、このようなプラスチック光学製品に属する眼鏡プラスチックレンズにおいて、プラスチック基材１を眼鏡プラスチックレンズ基材とし、中間膜２をハードコート膜とし、光学多層膜３を反射防止膜とする。 （もっと読む）

【課題】ガラス・タイプの透明基板をコートするのに用いることができる新しい薄膜材料、新しい堆積・プロセスおよび新しい装置を提供する。
【解決手段】少なくとも一つの薄い誘電体層がコートされた基板（１）、例えばガラス基板。誘電体層はカソード・スパッタリングによって、例えば、磁界によってたすけられる、好ましくは酸素および／または窒素の存在下で反応性であるカソード・スパッタリングによって、イオン源（４）からの少なくとも一つのイオンビーム（３）への曝露と、堆積される。イオンビームに曝露された誘電体層がイオン源のパラメータに基づいて調整できる屈折率を有し、前記イオン源が線状源であることができる。 （もっと読む）