【課題】容易に溶け跡の平坦化作業を行える電子銃蒸着用電子銃装置を提供する。
【解決手段】電子ビーム軌道を所定角度曲げてるつぼ６内の蒸着材料７に照射し、該蒸着材料７を溶融してその蒸着材料の蒸気を上部に配置された被蒸着基板に付着させて薄膜を形成させるように構成させた電子ビーム蒸着用電子銃装置において、偏向コイル３による電子ビーム軌道と、走査コイル５による電子ビーム軌道とを制御する電子ビーム軌道制御手段と、該電子ビーム軌道制御手段により前記蒸着材料７へ入射する電子ビーム８の入射角を制御する入射角制御手段とを設け、これら電子ビーム軌道制御手段と入射角制御手段とを動作させることにより、るつぼ６内の蒸着材料の溶け具合の平均化を図る。 （もっと読む）

【課題】高い誘電率を示すキャパシタ用絶縁膜は、キャパシタに用いられた際にリーク電流が増大する。
【解決手段】２つの電極の間に挟まれて用いられるキャパシタ用絶縁膜を、チタン酸ストロンチウム又はチタン酸バリウムストロンチウムのチタンサイトの一部がハフニウム元素で置換された結晶から形成する。 （もっと読む）

【課題】金属化合物薄膜の生産性を向上するスパッタリング装置を提供する。
【解決手段】スパッタリング装置１０は、チャンバ１２と、基材１４を保持する保持部１６と、保持部１６で保持された基材に周面が対向するように設けられた回転陰極１８と、回転陰極１８の表面に金属材料を供給可能な補助陰極２０と、保持部１６が設けられた成膜室２２と金属材料供給室２４との間のガスの移動を規制するガス遮蔽部材３０と、成膜室２２に接続され、スパッタリングされたターゲット材料と反応して金属化合物を形成する反応性ガスを供給する反応性ガス供給路３２と、を備える。補助陰極２０は、スパッタリングされた回転陰極１８の表面にターゲット材料と同種の金属材料を新たに供給する。 （もっと読む）

【課題】アニールなしで実用上問題ない抵抗値を実現するとともに、対エッチング性および光の透過性も良好な、透明導電膜付き基板、並びにその製造方法を提供する。
【解決手段】透明な基板１０と、基板１０上に形成された透明導電膜とを有する透明導電膜付き基板であって、前記透明導電膜は、前記基板１０面上に、第１の金属酸化物膜２０と、銀（Ａｇ）合金膜３０と、第２の金属酸化物膜４０と、が順に積層された３層を少なくとも有する。銀合金膜３０は、銅（Ｃｕ）、金（Ａｕ）、パラジウム（Ｐｄ）及び白金（Ｐｔ）のうち少なくとも１種と、ゲルマニウム（Ｇｅ）、セリウム（Ｃｅ）、ネオジウム（Ｎｄ）及びガドリニウム（Ｇｄ）のうち少なくとも１種と、を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高速成膜領域での高速成膜を安定的に確保した状態で成膜を行い得る成膜装置を提供する。
【解決手段】 スパッタ成膜源、スパッタガス源、及び反応ガス源の両原料供給源を真空室内に設けた成膜装置において、前記スパッタ成膜源が金属ターゲットから成り、前記反応ガス源からの反応ガスが二酸化炭素ガスを含有し、前記反応ガス源から供給される二酸化炭素ガスの供給量が、前記スパッタガス源から供給されるスパッタガスの供給量以下で、かつ、高速成膜領域の範囲内で二酸化炭素及びスパッタの量ガス流量比を保つように両ガス流量を制御することを特徴とする成膜装置。 （もっと読む）

【課題】帯電防止性、反射防止性および耐薬品性に優れる透明な光学物品およびその製造方法を提供する。
【解決手段】眼鏡レンズ１００は、レンズ基材１１０と、このレンズ基材１１０の表面に設けられたハードコート層１２０と、このハードコート層１２０の上に設けられた反射防止膜１３０とを備えて構成されている。反射防止膜１３０は、可視光領域の屈折率が１．３〜１．５である低屈折率層１３１，１３３，１３５，１３８と、屈折率が１．８〜２．６０である高屈折率層１３２，１３４，１３６と、アモルファスシリコン層１３７とから構成される。 （もっと読む）

【課題】ＮＤフィルタの切断部の反射によるゴースト、フレアの発生を防止する。
【解決手段】透明樹脂フィルム３５上にＮＤ膜を形成したＮＤフィルタ２１の外周切断部のうち、撮像機器の開口内に露出する切断面２１ａの切断方向が透明樹脂フィルム３５の主延伸方向と略直交方向になるように、ＮＤフィルタ２１を切断加工する。 （もっと読む）

【課題】紫外線を照射しなくとも親水性を発現する薄膜を成膜する方法を提供する。
【解決手段】基板Ｓの表面に酸化チタンの薄膜を形成する成膜方法であって、真空を維持した状態で、基板Ｓを成膜プロセス領域２０Ａと反応プロセス領域６０Ａの間で繰り返し移動させる工程（Ｓ３）と、チタンターゲット２２ａ，２２ｂのスパッタ物質を成膜プロセス領域２０Ａに導入された基板Ｓに付着させる工程（Ｓ４）と、反応プロセス領域６０Ａに導入された基板Ｓに酸素ガスを接触させ、スパッタ物質の組成を変換させる工程（Ｓ５）とを有し、酸素ガスの導入流量と少なくとも同一流量のアルゴンガスを導入した状態で、酸素ガスを基板Ｓに接触させる。 （もっと読む）

【課題】特別な前処理や後処理を施さずに効率よく、親水性の薄膜をプラスチック基板に成膜することができる成膜方法を提供する。
【解決手段】プラスチック基板Ｓの表面に薄膜を形成する方法であって、真空容器１１の内部に形成された成膜プロセス領域２０Ａでチタンターゲット２２ａ，２２ｂのスパッタ物質を基板Ｓに付着させる工程（Ｓ４）と、真空容器１１の内部に成膜プロセス領域２０Ａとは離間して形成された反応プロセス領域６０Ａで酸素ガスを基板Ｓに接触させ、スパッタ物質の組成を変換させる工程（Ｓ５）とを有し、酸素ガスの導入流量と少なくとも同一流量のアルゴンガスを導入するとともに１ｋＷ以下のプラズマ処理電力を供給した状態で、酸素ガスを基板Ｓに接触させる。 （もっと読む）

【課題】スパッタ法により、より簡便な装置構成で、高いスパッタ速度で十分に酸化された酸化チタン膜が形成できるようにする。
【解決手段】プラズマ生成室１０４内にＥＣＲプラズマ１１１を形成させる。例えばアルゴンガスの供給流量は８sccm，酸素ガスの供給流量は１．４sccmとする。このようにしてＥＣＲプラズマを生成してスパッタ状態にすると共に、ヒータ１０７により基板１０３を例えば６００℃に加熱し、加熱された基板１０３からの輻射熱１７１によりターゲット１０２を加熱する。この状態を所定時間継続することで、加熱されたターゲット１０２よりスパッタされている粒子（Ｔｉ原子）１４１が、ＥＣＲプラズマ中の酸素イオンや酸素ラジカルなどの活性化された酸素により酸化されて基板１０３の上に堆積し、基板１０３の上に酸化チタン膜１１２が形成される。 （もっと読む）

【課題】所望の腐食性の高い薬品に対して耐食性を示す基体を製造する方法を提供する。
【解決手段】少なくとも表面層がチタン、チタン合金、チタン合金酸化物又は酸化チタンからなる基体の表面に炭化水素を主成分とするガスの燃焼炎を直接当てて該基体の表面温度を５５０〜１１００℃の範囲内で所定温度に制御して加熱処理するか、又は該基体の表面をその表面温度を５５０〜１１００℃の範囲内で所定温度に制御した状態で炭化水素を主成分とするガスの燃焼ガス雰囲気中で加熱処理して炭素ドープ酸化チタン層を形成することにより、表面の耐食性を制御して所望の薬品環境に対して耐食性を有する基体を製造する。 （もっと読む）

【課題】膜厚が均一で付着強度の高いアナターゼ型酸化チタン薄膜を提供する。
【解決手段】成膜対象物１１表面にスパッタリングによりルチル型酸化チタン薄膜１２’を形成し、この表面にレーザー光線８８を照射すると、ルチル型酸化チタン薄膜１２’はルチル型からアナターゼ型に変換されるので、光触媒活性の高い、アナターゼ型酸化チタン薄膜１３を得ることができる。また、反射手段８５と配置手段５２を移動させ、ルチル型酸化チタン薄膜１２’表面のレーザー光線８８の照射位置を移動させると、ルチル型酸化チタン薄膜１２’全体をアナターゼ型に変換することができる。 （もっと読む）

【課題】プラズマガンと電子銃を備えたイオンプレーティング装置を用いて、異常放電を防止しながら成膜を行い、膜素子を製造する方法を提供することにある。
【解決手段】プラズマガンに第１の放電ガスを供給して放電を生じさせた後、第１の放電ガスに代えて、第１の放電ガスより放電を生じにくい第２の放電ガスを供給して放電を継続させることによりプラズマを発生させ、電子銃から電子ビームを蒸発源に照射して蒸発させ、プラズマを通過した蒸気を基板上に堆積させ、薄膜を形成する。これにより、放電しにくい第２の放電ガスで安定にプラズマを発生させ、電子銃周辺での異常放電を防止できる。 （もっと読む）

【課題】平滑かつ緻密な無機膜を生産性を維持しつつ、しかも膜質を長時間安定して形成することができる成膜装置および成膜方法、ならびにバリアフィルムを提供する。
【解決手段】本発明の成膜装置は、真空の成膜室内で、有機膜を含む長尺の基板を搬送方向に搬送しつつ、スパッタリングを行い、その表面に無機膜を形成するものであって、基板に対向して配置された第１のターゲット、第１のターゲットの周囲近傍に設けられたアノード部および第１のターゲットに一定周期で電圧を印加する第１の電源部を備える第１の成膜ユニットと、第１の成膜ユニットよりも搬送方向の下流側に設けられ、基板に対向して配置された２つ以上のターゲットおよび各ターゲットに交互に電圧を印加する第２の電源部を備える第２の成膜ユニットと、基板と第１のターゲットとの間および基板と各ターゲットとの間にスパッタガスを供給するスパッタガス供給部とを有する。 （もっと読む）

【課題】安価な薄膜顔料を提供する。
【解決手段】
本発明の成膜装置Ａは、円筒形の成膜対象物２の下方にルツボ３が配置され、上方にアーク蒸発源４とスパッタリングターゲット５が配置されている。スパッタリングターゲット５によって剥離層を形成し、反応性ガスを導入しながらアーク蒸発源４による成膜とルツボ３からの蒸着成膜によって誘電体積層膜を形成する。金属材料の粒子を発生させる場合、アーク蒸発源の粒子放出量が多いので、成膜速度が速く、安価な薄膜顔料を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】同一の成形用金型を用いて多数の成形樹脂を製造することが可能な生産性に優れた成形樹脂の製造方法、及び同一のスタンパを用いて、多数の光情報記録媒体を製造することができる生産性に優れた光情報記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】光硬化性転写シートの光硬化性転写層を、記録ピット及び／又はグルーブとしての微細凹凸に沿って反射層が設けられた基板の該反射層上に載置し、これらを押圧する工程、光硬化性転写層の他方の表面に、記録ピット及び／又はグルーブとしての微細凹凸表面に光触媒物質の薄層が形成されたスタンパを載置し、これらを押圧する工程及び該スタンパを有する光硬化性転写層を紫外線照射により硬化させ、次いでスタンパを除去することにより、光硬化性転写層の表面に微細凹凸を設ける工程を含む光情報記録媒体の製造方法、これに使用されるスタンパ表面に光触媒物質の薄層が形成された成形金型を用いる成型方法。 （もっと読む）

【課題】帯電防止性、反射防止性および耐久性に優れた光学物品およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】眼鏡レンズは、レンズ基材１１０と、このレンズ基材１１０の表面に設けられたハードコート層１２０と、このハードコート層１２０の上に設けられた反射防止層１３０とを備えて構成されている。反射防止層１３０は、屈折率が１．３〜１．５である低屈折率層と、屈折率が１．８〜２．４である高屈折率層とを順に積層したものである。この反射防止層１３０は、レンズ基材１１０側から外側に向けて順に配置された第１層１３１、第２層１３２、第３層１３３、第４層１３４、第５層１３５、第６層である第１透明導電層１３６、第７層１３７、第８層である第２透明導電層１３８及び第９層１３９から構成される。 （もっと読む）

【課題】帯電防止性、反射防止性および耐久性に優れ、むくみの発生しない光学物品およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】眼鏡レンズは、レンズ基材１１０と、このレンズ基材１１０の表面に設けられたハードコート層１２０と、このハードコート層１２０の上に設けられた反射防止層１３０とを備えて構成されている。反射防止層１３０は、屈折率が１．３〜１．５である低屈折率層と、屈折率が１．８〜２．４５である高屈折率層とを順に積層したものである。この反射防止層１３０は、レンズ基材１１０側から外側に向けて順に配置された第１層１３１、第２層１３２、第３層１３３、第４層１３４、第５層１３５、第６層１３６、第７層である透明導電層１３７及び第８層１３８から構成される。 （もっと読む）

【課題】光学機能および導電機能に優れた機能性フィルムを、機械強度を低下させることなく、作製し、提供する。
【解決手段】樹脂基板１１の少なくとも一方の面上に、樹脂基板１１とは屈折率の異なる光学膜を有し、光学膜は、樹脂基板１１と接する側から、屈折率ｎ１が１．５０〜２．００、膜厚ｄ１が１〜１０ｎｍの第１の薄膜層１３、屈折率ｎ２が１．９０〜２．５０、膜厚ｄ２が１０〜３５ｎｍの第２の薄膜層１４、屈折率ｎ３が１．３５〜１．５０、膜厚ｄ３が３５〜８０ｎｍの第３の薄膜層１５、屈折率ｎ４が１．９０〜２．２０、膜厚ｄ４が１０〜３０ｎｍ、表面抵抗値が１５０Ω／□〜８００Ω／□の第４の薄膜層１６を積層し、ｎ２＞ｎ４＞ｎ１＞ｎ３であり、機能性フィルムのＬ＊ａ＊ｂ＊表色系で表したときのｂ＊の値が−１．０以上２．０以下である機能性フィルム１０。 （もっと読む）

【課題】電気特性及び信頼性の高い薄膜トランジスタを有する半導体装置、及び該半導体装置を量産高く作製する方法を提案することを課題とする。
【解決手段】半導体層としてＩｎ、Ｇａ、及びＺｎを含む酸化物半導体膜を用い、半導体層とソース電極層及びドレイン電極層との間にバッファ層が設けられた順スタガ型（トップゲート構造）の薄膜トランジスタを含むことを要旨とする。ソース電極層及びドレイン電極層と半導体層との間に、半導体層よりもキャリア濃度の高い金属酸化物層をバッファ層として意図的に設けることによってオーミック性のコンタクトを形成する。 （もっと読む）