【課題】本発明は、太陽光の可視光および紫外光を吸収し、高効率に水素を生成させる手段として、ナノスケールのＧｅ粒子と主にマトリクスであるアナタース型Ｔｉ酸化物結晶相を同時に含む複合構造薄膜材料の製造方法を新規に提供することにある。
【解決手段】１原子分率以上１５原子分率以下のＧｅと、その他が主にＴｉおよびＯから構成されるアモルファス薄膜を、高周波スパッタリング法により成膜し、これを熱処理することにより、ナノスケールのＧｅ粒子と主にマトリクスであるアナタース型Ｔｉ酸化物結晶相を同時に含む複合構造を形成する光電子素子用薄膜材料を製造する。好ましくは、該薄膜製造の際、酸素流量分率０．５以下の酸素含有雰囲気中で成膜し、当該熱処理の雰囲気、温度および時間を、それぞれ、真空中、４００〜８００℃および１５〜９０分とすることにより製造する。 （もっと読む）

【課題】光学多層膜付きガラス部材において、スパッタリング法等による圧縮応力を有する光学多層膜の切断時等における膜クラックや膜剥がれの発生を抑制する。
【解決手段】光学多層膜付きガラス部材１は、ガラス基板２と、ガラス基板２の主表面２ａに付着力強化層３を介して形成され、圧縮応力を有する光学多層膜４とを具備する。付着力強化層３は膜厚が５０ｎｍ以上で、かつ圧縮応力を有する酸化珪素膜からなる。 （もっと読む）

【課題】水蒸気バリア性、透明性及び寸法安定性に優れる透明ガスバリア性フィルムを提供する。
【解決手段】プラズマガン４０の放電電流とターゲット・バイアス電圧値を個別に制御し、プラズマガン４０で発生した円柱状のアルゴンプラズマを磁場でシート状に成形した高プラズマ密度のシートプラズマ装置１００を用いて、透明プラスチックフィルムの少なくとも片面に少なくとも一層の無機膜を有する透明ガスバリア性フィルムを製造する。この透明ガスバリア性フィルムは、有機エレクトロルミネッセンス素子の部材として好適に用いることができる。 （もっと読む）

【課題】従来の撥水膜に対し、滑り性を向上させ、かつ耐久性、耐摩耗性の特性を向上させた薄膜を有する光学部材の製造方法を提供する。
【解決手段】特定のフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物と、特定のシラン化合物との混合物を含有する蒸着材料を光学部材上に蒸着して第１撥水層を形成し、その上に特定のパーフルオロポリエーテル−ポリシロキサン共重合体変性シランと溶媒を含有する浸漬材料に浸漬して第２撥水層を形成することにより、２層からなる撥水膜を形成する光学部材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、低屈折率ガラスにおいて優れた透過率特性を有し、フレアやゴースト等の発生の少なく、かつ優れたヤケ防止効果を有し、耐久性、耐擦性にも優れた反射防止膜及びこれを有する光学部品、交換レンズ及び撮像装置を提供する。
【解決手段】基板上に、第１層〜第５層を基板側からこの順に積層してなる反射防止膜であって、波長領域400〜700 nmの光において、基板の屈折率が1.42〜1.55であり、各層は所定の光学膜厚を有し、第１層はアルミナを主成分であり、第２層〜第４層は所定の屈折率を有し、第５層がシリカを主成分とする多孔質層である反射防止膜。 （もっと読む）

【課題】簡便かつ効率的で、金型や固定治具等の被洗浄部材に対するダメージが少ない、被洗浄部材の洗浄方法等を提供する。
【解決手段】光学素子製造装置から光学材料成分が付着した被洗浄部材４１を取り出す工程と、取り出された被洗浄部材４１を、光学材料成分を除去する洗浄装置４０に設置する工程と、洗浄装置４０にて、設置された被洗浄部材４１の周囲環境に所定のガスを導入する工程と、導入された所定のガスに高周波電圧を印加してプラズマ化し、被洗浄部材４１の表面をプラズマ化されたガスに晒し、光学材料成分をハロゲン化物にして気化させ除去する工程と、を含む被洗浄部材４１の洗浄方法。 （もっと読む）

本発明は、基材を用意し、次に>50°C且つ<800°Cの温度でPVD(物理的気相成長法)技術を用いて生物活性で結晶質のTiO₂コーティングを前記基材に付着させる工程、を含んでなる、コーティングされた医療用骨インプラントを製造する方法に、関係する。本発明のの方法によって得られたコーティングされたインプラントは、強化された生体模倣応答を示す。 （もっと読む）

【課題】磁気記録層の磁性結晶粒子を適切に微細化する。
【解決手段】垂直磁気記録方式で情報を記録する垂直磁気記録媒体１００の製造方法であって、上層の結晶方位を制御する下地層１１８を成膜する下地層成膜工程と、下地層１１８の結晶方位に応じた方向に磁化容易軸が向く磁性結晶粒子３０６が非磁性物質３０８のマトリックス中に分散するグラニュラ構造の磁気記録層である主記録層１２０を成膜する磁気記録層成膜工程とを備え、下地層成膜工程は、希ガスと多原子分子ガスとの混合ガスをスパッタリングガスとして用いるスパッタリング法により、下地層１１８の少なくとも最上層部を成膜する。 （もっと読む）

【課題】基材と機能膜との密着性が優れた積層フィルム、積層体、光選択透過フィルター及びその積層フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】基材の少なくとも片面に機能膜を有する積層フィルムであって、上記基材は、機能膜非形成部を有することを特徴とする積層フィルム、上記積層フィルムを細断して得られる積層体、及び、光選択透過フィルター。 （もっと読む）

【課題】最終層である光学多層膜フィルタの表面にＩＴＯ等の透明電極材料を用いずに光学ローパスフィルタからの静電気を除去する。
【解決手段】水晶基板２０に透明薄膜である高い屈折率の二酸化チタン３２を１層目に蒸着し、２層目に低い屈折率の二酸化ケイ素３３を蒸着し、交互に積層して複層にし、最終層のｎ層に低い屈折率のフッ化マグネシウム３１を積層し、（ｎ−１）層には低い屈折率の二酸化ケイ素３３を積層する。ｎ層と（ｎ−１）層は光学多層膜フィルタ３０のなかで唯一、低い屈折率の物質同士を重ね、２種類の物質で所定の薄厚を形成する。 （もっと読む）

【課題】 速い成膜速度においても膜が受けるダメージを最小限に留めることができ、かつ連続成膜可能なスパッタリング装置を提供する。
【解決手段】反応性スパッタリング法を用いて金属化合物を成膜する際に支持基板にバイアス電圧を印加するバイアススパッタリング法を実施する装置であって、
支持基板搬送部と、該支持基板搬送部と対向するように設けられたターゲットを含むカソードとを有し、支持基板搬送部とターゲットの間を支持基板が搬送されることによって金属化合物を成膜し、
支持基板上にて、磁場が閉じアーチ状磁力線の平行または平行に近いトンネル部分が連続で楕円ないし多角形を描くようにＳ極とＮ極のうち一方の磁極とそれを囲む逆の磁極とを有するマグネットを支持基板搬送部の支持基板と反対側に配置し、
前記トンネル部分に対し同一平面上で略垂直な方向に支持基板を搬送しながら成膜することを特徴とする反応性スパッタリング装置。 （もっと読む）

【課題】耐久性の良好な防汚層を有する光学物品の製造方法を提供する。
【解決手段】基材２００の上に反射防止層を形成することと、ペレット５９を用いた真空蒸着法により、反射防止層に重ねて防汚層を形成することとを有する製造方法を提供する。ペレット５９は、フッ素含有有機ケイ素化合物を含む防汚溶液に触媒を添加し、活性状態のフッ素含有有機ケイ素化合物を含む防汚溶液を含浸した後、触媒の蒸発温度以上、フッ素含有有機ケイ素化合物の蒸発温度未満の温度範囲内で加熱処理されたものである。反応活性が適当な状態となったフッ素含有有機ケイ素化合物を含む防汚溶液をペレット内に固定することができ、拭き耐久性の高い防汚層を成膜できる。 （もっと読む）

【課題】アシスト法を用いて成膜される高屈折率層のプラズマによる低屈折率層へのエッチングを阻止して、光学特性の劣化を防止した光学薄膜の形成方法、およびその光学薄膜を備えた光学素子を提供する。
【解決手段】光学基材上に、ＭｇＦ₂より成る低屈折率層とＮｂ₂Ｏ₅より成る高屈折率層との間に、真空蒸着法を用いて形成された酸化物質のＡｌ₂Ｏ₃層を有するＮｂ₂Ｏ₅／ＭｇＦ₂／Ａｌ₂Ｏ₃構造の誘電体多層膜は、Ａｌ₂Ｏ₃層がイオンアシスト法を用いて成膜されるＮｂ₂Ｏ₅層のプラズマによるＭｇＦ₂層へのエッチングを阻止するバリヤ層として機能する。そして、この誘電体多層膜が形成された光学素子は、例えば、光ピックアップの波長４０５ｎｍの青色半導体レーザに対応した偏光ビームスプリッタとして用いられる。 （もっと読む）

【課題】最表面の硬度が高く耐磨耗性に優れると共に、反射率が低い反射防止膜、及び透光部材、並びに反射防止膜の形成方法を提供する。
【解決手段】反射防止膜は、可視光が透過可能な部材の表面に形成された反射防止膜であって、反射防止膜の最表面を構成する膜が、Ｓｉ又はＦを添加したＡｌ₂Ｏ₃であるＳｉ−Ａｌ₂Ｏ₃膜又はＦ−Ａｌ₂Ｏ₃膜である。反射防止膜の形成方法は、可視光が透過する部材の表面に反射防止膜を形成する反射防止膜の形成方法であって、反射防止膜の最表面を構成する膜として、Ｓｉ又はＦを添加したＡｌ₂Ｏ₃であるＳｉ−Ａｌ₂Ｏ₃膜又はＦ−Ａｌ₂Ｏ₃膜を形成する最表面形成工程を有し、当該最表面形成工程において、Ｓｉ−Ａｌ₂Ｏ₃膜又はＦ−Ａｌ₂Ｏ₃膜を、ＥＣＲプラズマ励起方式を用いたＥＣＲプラズマスパッタ装置によって形成する。 （もっと読む）

【課題】基材を保持するとともに、基材の平坦面の露出領域の面積を任意に変更することが可能な保持治具を提供する。
【解決手段】保持治具５０は、透明基材１０ａ下面の反射領域１０ａ以外の領域をマスクするマスク部材５３Ａ、５３Ｂを有している。このマスク部材５３Ａ、５３Ｂはフレーム５１に対して着脱可能であるため、反射膜１０ｂを形成した後にマスク部材５３Ａ、５３Ｂをフレーム５１から取り外すことで、透明基材１０ａを別の保持治具などに載せ替えることなく、接着領域１０ｃを露出させることが可能となる。これにより、作業効率を向上させるとともに、透明基材１０ａへの薄膜形成工程の工数を削減することができ、ミラー１０の製造コストを削減することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】応力によって破壊されにくい金属酸化膜を、速い成膜速度で成膜できる金属酸化膜の形成方法と、それを実現する物理蒸着装置を提供する。
【解決手段】酸素を含むガス雰囲気で、金属蒸発源１５の加熱により金属粒子を生成し、得られた金属粒子を酸化して金属酸化物粒子を生成し、金属酸化物粒子を移送し、超音速フリージェットの気流に乗せて真空チャンバー（３０）中に噴出して、真空チャンバー（３０）中に配置された基板３３上に物理蒸着させ、金属酸化物粒子からなる金属酸化膜を形成する。あるいは、金属粒子を生成して物理蒸着させて金属膜を形成し、これに酸素を吹き付けて金属酸化膜を形成する。あるいは、蒸発源に金属酸化物を用い、金属酸化物粒子を生成して物理蒸着させて金属酸化膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】基板上に光吸収特性を有する金属膜を蒸着によって成膜する際に光学特性が安定した光学フィルタ及びその成膜方法を提供する。
【解決手段】基板上に金属膜層と誘電体膜層を積層状に形成する光学フィルタにおいて、その金属膜層を蒸着で形成する際に膜厚さが不安定となる蒸着初期及び／又は蒸着終期に蒸着皮膜に反応性ガス（活性ガス；酸素、窒素、フッ素など）を照射して化合物に変化させることを特徴としている。これによって酸化、窒化などで化合物に変化した被膜は透明となり光の透過率に影響を及ぼすことがない。 （もっと読む）

【課題】低温で成膜でき、膜形成材料と繊維材料の反応を抑制することができる繊維強化複合材料膜の製造方法を提供する。
【解決手段】表面に繊維材料が固定された基板３３を成膜チャンバー３０に配置し、一方、不活性ガス雰囲気で、膜形成材料の蒸発源１５の加熱により膜形成材料粒子を生成し、次に、膜形成材料粒子を移送し、超音速フリージェットＪの気流に乗せて真空チャンバー(３０)中に噴出して、繊維材料が固定された基板３３上に物理蒸着させて、膜形成材料からなる膜中に繊維材料が内包された繊維強化複合材料膜を形成する。 （もっと読む）

基材上に薄膜を形成するための方法およびシステムを提供する。本システムでは、実質的に非吸光性の薄膜を形成するために、基材表面にコーティング材料を堆積して反応させる。単位時間に形成される非吸光性薄膜の体積は、表面積をｘ倍増加させ、コーティング材料の堆積速度を倍数ｘの逆数より大きな倍数だけ増加させ、それによって単位時間当たりの非吸光性薄膜の体積の形成速度を増加することによって増加させることができる。
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【課題】 加飾性、金属光沢性があり、光透過性と光吸収性が両立され、さらには導電性を有する光学薄膜積層体を提供することを課題とする。
【解決手段】 基材の一方の面に薄膜積層体を備える光学薄膜積層体であって、該薄膜積層体が高屈折率薄膜層、低屈折率薄膜層を少なくとも１層以上積層した積層構造であり、且つ、前記基材の薄膜積層体が形成されている面と反対側の面に導電性薄膜層が形成されていることを特徴とする光学薄膜積層体とした。また、前記導電性薄膜層が形成されている面の表面の表面抵抗率が１．００×１０^−４Ω／□未満であることを特徴とする光学薄膜積層体とした。 （もっと読む）