【課題】皺等の発生が少なく、かつ低濃度の際も光の散乱も少ない光学フィルタを得る。
【解決手段】ポリエーテルサルホンから成る透明樹脂基板３１上に、反射率を低下させるための反射防止層であるＡｌ₂Ｏ₃層４１ａと、透過率を低下させるための光吸収層であるＴｉＯｘ層４１ｂを交互に積層している。最上層には反射防止膜として低屈折材料のＭｇＦ₂層４１ｃを成膜することによりＮＤ膜４１を形成している。ＮＤフィルタ１０は高濃度化のため必要な膜厚が厚くなり、その分蒸着時間が長くなり、透明樹脂基板３１の温度が部分的に１７０℃にまで達することがある。この場合でも、ポリエーテルサルホンから成る透明樹脂基板３１はガラス転移温度は２００℃以上であることから、皺やうねりの発生を回避することができる。 （もっと読む）

【課題】III族窒化物系化合物半導体発光素子用の光放出面に形成される透明電極として好ましいＴＮＯ（ＮｂドープＴｉＯ_２）膜の製造方法を提供する。
【解決手段】ＧａＮからなるｐ層４を常温に維持し、ＲＦマグネトロンスパッタ法によりその上にＴＮＯをスパッタすると、積層されたＴＮＯ層５はアモルファス状態である。次に、このアモルファスＴＮＯ層を、実質的に水素ガスの存在しない減圧雰囲気において熱処理して該ＴＮＯ層を結晶化するステップと、を含む。ここに、スパッタ時に、酸素ガスとともに不活性ガスを流通させ、該流通ガス中に含まれる酸素ガスの体積％を０．１０〜０．１５％とする。ただし、酸素分圧は５×１０^−３Ｐａ以下とする。熱処理温度は５００℃、１時間程度とする。 （もっと読む）

【課題】反射防止膜の成膜に起因するＮＤフィルタのバッチ毎の濃度のばらつきを低減する。
【解決手段】透明基板２５上に、誘電体膜であるＡｌ₂Ｏ₃膜３１ａと光吸収膜であるＴｉ_XＯ_Y膜３１ｂとを交互に成膜することにより薄膜積層体３１を形成している。この薄膜積層体３１の最上層はＴｉ_XＯ_Y膜３１ｂとし、そのＴｉ_XＯ_Y膜３１ｂ上に酸化防止膜として膜厚６．５ｎｍのＡｌ₂Ｏ₃膜３２を成膜している。このＡｌ₂Ｏ₃膜３２上に、反射防止膜であるＭｇＦ₂膜３３を成膜することにより、１２層のＮＤ膜から成るＮＤフィルタ１０を構成している。 （もっと読む）

【課題】本発明は、誘電体多層膜を有し、耐熱性が高く、耐クラック性が改善され、特に、近赤外線カット能に優れ、吸湿性が低く、異物や反りが少なく、耐熱性に優れ、固体撮像素子の視感度補正に好適に用いられる近赤外線カットフィルターや、耐熱性に優れ、耐クラック性が改善された反射防止フィルムとして好適に用いられる光学積層フィルムおよびその製造方法を提供することを課題としている。
【解決手段】本発明の光学積層フィルムの製造方法は、ガラス転移温度（Ｔｇ）が１１０〜５００℃であり、かつ厚さ１００μｍでの全光線透過率が８０〜９４％である透明樹脂を含む基材フィルム上に、誘電体層Ａと、誘電体層Ａよりも高い屈折率を有する誘電体層Ｂとを、１００℃〜（前記Ｔｇ−１０）℃で蒸着して積層し、誘電体多層膜を形成することを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】撥水性、滑水性、耐久性に優れた薄膜を提供する。
【解決手段】表面粗さ（Ｒａ）が２ｎｍ以下であり、水に対する接触角が３０°以上であり、水滴転落角が４０°以下である。 （もっと読む）

【課題】スプラッシュの低減化を図り、製品歩留まりを向上させることができ、かつ、電子ビーム溶解に要する時間の短縮も可能にした蒸着材料を用いた光学薄膜並びに光学部品を提供する。
【解決手段】蒸着材料を溶解蒸発せしめ蒸発した蒸着材成分を基板表面に蒸着させて蒸着膜として形成された光学薄膜において、上記蒸着材料は、形状が球体または楕円体である多数の蒸着材粒子からなり、この蒸着材粒子の赤道部に、外方向に突出する突起部が形成されており、上記蒸着材粒子を平面に投影したときに形成される投影像に外接する正円の面積をＡとし、上記投影像に内接する正円の面積をＢとした場合に、Ａ／Ｂで表される形状係数が１以上５以下である蒸着材粒子の割合が９０質量％以上であり、上記蒸着材粒子の粒径が０．５ｍｍ〜３０ｍｍの範囲にある一方、上記基板１枚当りの蒸着膜中に混入した直径５μｍ以上のスプラッシュ個数が、基板１枚あたり平均３．８個以下であることを特徴とする光学薄膜である。 （もっと読む）

太陽光による劣化に対して高い耐性を有する、乾式蒸着法を用いて、ＴｉＯ_２またはＺｎＯの透明の薄膜にて被覆された石骨材から製造された石板状または敷石状の物品であって、これらは、低い光触媒作用を有するか、または光触媒作用を有さないＴｉＯ_２および／またはＺｎＯの透明の薄膜で被覆された石骨材から製造された石板状または敷石状の形態であり、上記膜は乾式蒸着法、物理気相成長法（ＰＶＤ）またはプラズマ化学気相成長法（ＰＥＣＶＤ）によって蒸着されている。上記の物品は、太陽光による劣化に対して高い耐性を有している。これは、得られた材料が外部環境に適していることを意味する。 （もっと読む）

【課題】均質性が期待でき、耐湿性の高い、新規導電体または新規透明導電薄膜を提供する。
【解決手段】ホウ素のドープ量を１×１０^１９ｃｍ^−３〜５×１０^２２ｃｍ^−３としたアナターゼ型酸化チタンである。また、ホウ素のドープ量を５×１０²⁰ｃｍ^−３〜５×１０^２２ｃｍ^−３としたアナターゼ型酸化チタンを用いた透明導電薄膜である。これらは、ターゲットを直径１００ｍｍの酸化チタンとし、この上に５ｍｍ角のホウ素（Ｂ）チップを均一に配置し、ＲＦマグネトロンスパッタ法により得ることができる。 （もっと読む）

【課題】アノード電極として機能する電極面積を変化させずにスパッタできるスパッタリング装置を提供する。
【解決手段】第一、第二のターゲット３１ａ、３１ｂの表面を対向させてスパッタ面間に隙間を形成し、第一のターゲット３１ａにＮ極又はＳ極のいずれか一方の磁極が向けられた第一の磁石装置４１ａを第一のターゲット３１ａの裏面側に配置し、第一の磁石装置４１ａとは異なる磁極が第二のターゲット３１ｂに向けられた第二の磁石装置４１ｂを第二のターゲット３１ｂの裏面側に配置し、アノード電極１６を前記隙間の後方位置に配置し、防着部材１７をアノード電極１６と前記隙間の間の位置に配置する。アノード電極として機能する電極面積が変化しないので、プラズマの位置が安定し、第一、第二のターゲット３１ａ、３１ｂの成膜面が高効率でスパッタされる。 （もっと読む）

基材上に無機又はハイブリッド有機／無機バリア層を形成するための方法。この方法は、蒸発させた金属アルコキシドを基材上に凝縮させて基材の上に層を形成する工程と、この凝縮した金属アルコキシド層を水と接触させてこの層を硬化させる工程とを含む。
（もっと読む）

【課題】延伸ポリプロピレン（ＯＰＰ）は、安価で腰強度が強く且つガスバリア性に優れている為、実用化が期待されているが、その表面に形成する薄膜との密着強度が弱いという問題があった。
【解決手段】延伸ポリプロピレン（ＯＰＰ）フィルムの表面に酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化銅のうち何れかの金属の薄膜をスパッタ法などの密着力が強い成膜方法にて２ｎｍ以下形成した後、酸化アルミニウム、酸化ケイ素、その他のガスバリア性薄膜を形成することによって密着強度が弱いという問題を解決した。 （もっと読む）

【課題】製造時或いは経年変化で歪曲する恐れが少ない光学フィルタを簡単な方法で安価に製造することが可能な光学フィルタの成膜方法を提供する。
【解決手段】成膜室内に回転自在に配置された基板ドラムに基板プレートを装着した基板ホルダをセットする基板セット工程と上記基板ドラムにセットされた基板プレートの表面に、上記基板ドラムを回転させながら上記ターゲットにスパッタ電圧を印加することによって膜形成する表面成膜工程と、上記表面成膜工程の後、上記ターゲットにスパッタ電圧を印加しない状態で上記基板ホルダを回転させて上記基板プレートの裏面を上記ターゲットに対向配置する成膜面反転工程と、上記基板プレートの表裏面を反転させた後、上記基板ドラムを回転させながら上記ターゲットにスパッタ電圧を印加することによって上記基板プレートの裏面に膜形成する裏面成膜工程とを備え、基板プレートの表裏面に同一バッチでそれぞれ成膜する。 （もっと読む）

形成されたフィルム形態をナノ粒子塊のものから粒子およびドロップレットの無い平滑な薄膜に連続的に調整することが可能なパルスレーザー蒸着（ＰＬＤ）の方法。発明の様々な実施形態を使って合成されることができる材料は、金属、合金、酸化金属および半導体を含むが、それらに限定はされない。様々な実施形態において、超短パルスレーザーアブレーションおよび蒸着の「バースト」モードが提供される。フィルム形態の調整は、各バースト内のパルス数およびパルス間の時間間隔、バースト繰り返しレート、およびレーザーフルエンスのようなバーストモードパラメータを制御することによって達成される。システムは、超短パルスレーザーと、適切なエネルギー密度でターゲット表面上にフォーカスされたレーザーを配送するための光学システムと、その中にターゲットおよび基板が設置され背景ガスとそれらの圧力が適切に調節された真空チェンバーと、を含む。
（もっと読む）

【課題】画質性能に優れた光学フィルタ及びこの光学フィルタの成膜方法と撮像光量調整装置を提供する。
【解決手段】染料又は顔料からなる光減衰材料を練り込んだ樹脂材をプレート状に成形する光減衰基板プレート成形工程と、その光減衰基板プレートを一部の連結部を残し所定の光学フィルタ形状にプレス加工により複数の光学フィルタ形状にするフィルタ外形型抜き工程と、この型抜きされた光減衰基板プレートの少なくとも片面に誘電体膜と金属膜とを積層形成する減光膜層成形工程と、この減光膜層が形成された光減衰基板プレートの表面及び端面に主鎖構造が１次元のケイ素-ケイ素結合で構成された高分子ポリマーの減反射コート層を形成する減反射コーティング工程と、この減反射コート層に紫外線を照射する紫外線照射工程と、紫外線照射後に光減衰基板プレートから各光学フィルタ部材を切り離なす光学フィルタとして抜き取り工程と、から成る。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、金属光沢色の外観のエクステンションの中にコントラストのある暗色部を、簡易な構成で実現する車両用灯具を提供する。
【解決手段】 プロジェクター型の前照灯の投影レンズ１３、２３の周囲を覆うように暗色部６０を備えたエクステンション３０を取り付けた車両用灯具とする。エクステンション３０は樹脂材料により形成され、その表面に金属光沢膜４１が蒸着により形成されている。その際に、エクステンション３０の谷部３２は後方に凹んでおり、その側面３４には金属光沢膜４１が形成されているない。この金属光沢膜４１が形成されていない部分が暗部となって観視され、高コントラストの模様を設けた車両用灯具を得る。 （もっと読む）

【課題】アーキングの抑制とクリーニング頻度の低減により、欠点の少ない膜を生産性よく製造する。
【解決手段】陽極部(30)の内部又はその近傍に補正磁気回路(32)を設け、ターゲット(18)を貫通する磁力線の一部が防着板(27)を迂回して陽極部(30)の一部を貫通する磁界を形成する。防着板(27)は、補正磁気回路(32)単独の磁力線が陽極部(30)表面の法線と最も平行に近くなる点のうち、該法線方向の前記陽極の一部を貫通する磁界の貫通位置に近い方の点における法線の方向(48)とのなす角度が１０度以下の着膜側表面(27Ａ)を有する。 （もっと読む）

【課題】レンズに蒸着処理を施す前処理工程の時間を短縮して、レンズの生産性を向上させる。
【解決手段】イオンビームを発生するイオン源部と、蒸着原料を気化させる加熱部とを制御する制御部を備えた蒸着装置で、蒸着によりレンズの表面に膜を形成するレンズ製造方法であって、制御部が加熱部を起動させて蒸着原料を加熱し、不要なガスを気化させて排出するガス出し処理と、イオン化ガス供給部にイオン化ガスを発生させてレンズへ供給させるイオン化ガス前処理と、を含み、前記制御部は、ガス出し処理とイオン化ガス前処理を並列的に実行し、かつ、イオン化ガス前処理の完了する時点を、ガス出し処理の完了時点またはガス出し処理の完了時点以降に設定する。 （もっと読む）

【課題】接触抵抗が長期間にわたって低く維持される燃料電池用セパレータ及びその製造方法を提供する。
【解決手段】セパレータ１０Ａは、ステンレス鋼からなる基材１１の表面に、チタン層（Ｔｉ層）１２、チタン酸化物含有層（ＴｉＯ_Ｘ層）１３、貴金属層１４がこの順序で積層された構造を有している。ＴｉＯ_Ｘ層１３は、貴金属層１４側に、貴金属層１４を構成する貴金属の一部をＴｉＯ_Ｘ層１３に拡散させることにより形成された貴金属拡散部１３ａを有する。貴金属としては、Ａｕ，Ｐｔ，Ｐｄから選ばれる少なくとも１種類の貴金属が用いられる。 （もっと読む）

【課題】従来よりも高密度でかつＤＣスパッタに際して割れが発生することが無い酸化チタンターゲットの製造方法を提供する。
【解決手段】Ｔｉ_２Ｏ_３粉末およびＴｉＯ_２粉末を用意し、Ｔｉ_２Ｏ_３粉末：１〜２０質量％を含有し、残部：ＴｉＯ_２粉末となるように配合し混合して得られた混合粉末を不活性ガス雰囲気中でホットプレスすることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】導電性が良好であるとともに、耐熱性に優れた導電体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基板１０上に、Ｎｂ、Ｔａ、Ｍｏ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｗ、Ｎ、Ｆ、Ｓ、Ｓｅ、Ｔｅ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｔｃ、Ｒｅ、Ｐ及びＢｉからなる群から選ばれる１又は２以上のドーパントが添加された酸化チタンからなる層（Ｚ）が２層以上設けられており、該２層以上のうち少なくとも１層は、チタンとドーパントの原子数合計に対するドーパントの原子数の割合が０．０１〜４原子％である第２層（Ｚ２）１２であり、該第２層（Ｚ２）１２と基板１０との間に、該第２層（Ｚ２）よりも、前記チタンとドーパントの原子数合計に対するドーパントの原子数の割合が多い第１層（Ｚ１）１１が設けられていることを特徴とする導電体。 （もっと読む）