【課題】 優れた耐水性、保存性、内容物視認性を兼ね備え、栄養剤の包装容器として使用した場合に、水蒸気殺菌処理によっても各層が剥離せず、内容物の長期保存、投与量や投与速度の正確な調節を可能とする包装材料を提供する。
【解決手段】 樹脂フィルムからなる基材層（３）、樹脂フィルムからなる中間層（５）、印刷層（７、８）、およびヒートシール性樹脂層（４）を有する積層材からなる包装材料において、
前記基材層、または前記中間層にガスバリア性層（６）を設け、
前記印刷層を前記ガスバリア性層に接しないように設け、さらに
前記包装材料の一部または全部が、２５０ｎｍ〜５５０ｎｍの波長領域において２０％以下であり、かつ６５０ｎｍ〜８００ｎｍの波長領域において５０％以上の光線透過率を有する内容物視認部分であり、他の部分が２０％以下の全光線透過率を有することを特徴とする包装材料。 （もっと読む）

【課題】ｐ型の半導体酸化亜鉛（ＺｎＯ）膜と、この膜の製造方法を提供する。
【解決手段】パルスレーザ堆積法（ＰＬＤ）を使用してｐ型ＺｎＯ材料を成膜させる。この方法では、ＬｉとＰの両方を含有する化合物とＺｎＯとの混合物からなる固体ターゲット上にパルスレーザビームを集光させる。集光されたレーザパルスの高いパワー密度により、ターゲット表面上の材料が融除されてプラズマが形成され、これが基板表面上に堆積する。また、パルスレーザ源を含んだ透明な基板と、パルスレーザの波長に対し透明である基板と、マルチターゲットシステムとを使用するパルスレーザ成膜プロセスについて説明する。パルスレーザの光路は、パルスレーザが基板の裏から入射して基板を通過し、ターゲット上に集光するように配置されている。基板をターゲットに向かって並進運動させ、アブレーションプルームのルートを利用した微細パターンの付着が可能になる。 （もっと読む）

【課題】 プラスチック基材として、ポリプロピレンフィルムを使用するも、透明性、酸素、水蒸気等に対するガスバリア性等に優れ、また、バリア性膜としての蒸着膜の剥離を防止し、かつ、その熱的クラックの発生を阻止し、飲食品、医薬品等の物品の充填包装適性等に優れた透明バリア性ポリプロピレンフィルムの製造法を提供する。
【解決手段】 ２軸延伸ポリプロピレンフィルム基材の一方の面に、後述の第２の薄膜の第１の薄膜への密着性を向上させ、かつ、第２の薄膜を形成するプラズマ処理による２軸延伸ポリプロピレンフィルムの黄変と劣化を防止する耐プラズマ保護層を構成する物理蒸着法による無機酸化物の蒸着膜からなる第１の薄膜を形成し、次いで、上記の第１の薄膜の上に、プラズマ化学蒸着法による無機酸化物の蒸着膜からなる第２の薄膜を形成することを特徴とする透明バリア性ポリプロピレンフィルムの製造法。 （もっと読む）

本発明は蒸着法により、コンプレッサーとタービン部品に使用される構成部品（１８）上にセラミック断熱層コーティング（１０）を形成する方法に関し、この方法はａ）構成部品（１８）上に蒸着させるためのセラミック蒸気を準備するステップと、ｂ）構成部品（１８）上にセラミック蒸気を蒸着させて、柱（１２）が実質的に構成部品の表面（１６）に垂直であるよう方向づけられた柱状構造を持つ断熱層コーティングを形成するステップと、ｃ）得られる断熱層コーティングが、その径（ｄ、Ｄ）が交互に増加、減少している柱（１２）からなるよう、前記ステップｂ）を実行する際、少なくとも一つの方法パラメーターを変化させるステップとから成る。本発明は又、コンプレッサーとタービン部品に使用される構成部品（１８）のための断熱層コーティングに関し、この断熱層コーティング（１０）は柱状構造と構成部品の表面（１６）に実質的に垂直に方向づけられた柱（１２）を有するセラミック断熱層コーティングからなる。本発明によれば、柱（１２）は交互に増加、減少する径（ｄ、Ｄ）を持つ。 （もっと読む）

【課題】成膜材料の利用効率が高い真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】基板を直線状に往復搬送する搬送手段と、１以上の蒸着源を前記往復搬送方向と直交する方向に配列してなる蒸着源列を１以上有し、かつ、搬送手段は、基板の搬送方向の後端が、蒸着源列からの蒸発流が基板に接触する蒸着領域を超える前に、搬送を折り返して基板の往復搬送を行なうことにより、前記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、金属箔並みの高度なガスバリア性をもつ実用性の高い内容物保存適性を有する透明積層体及びその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】透明プラスチック基材に、少なくともガスバリア性被膜層を形成してなる内容物保存適性を有する透明積層体であって、前記ガスバリア性被膜層として、水酸基含有高分子化合物、金属アルコキシド及び／又はその加水分解物及び／又はその重合物の少なくとも１種類以上を成分に持つコーティング剤を塗布後、加熱乾燥して、水処理を施されてなることを特徴とする内容物保存適性を有する透明積層体及びその製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 長時間使用における耐酸化性並びに延性及び靱性が両立した耐酸化膜及びその形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 耐熱金属を有する基材上に、溶射又は蒸着によりＭＣｒＡｌＹ合金（但し、ＭはＣｏ及びＮｉのうちの少なくとも１種の元素を表す）を主として含有するＭＣｒＡｌＹ層を形成し、次いで前記ＭＣｒＡｌＹ層において、前記基材と反対側の面から、該ＭＣｒＡｌＹ層の厚さ方向の一部にアルミニウムを拡散する。 （もっと読む）

【課題】エロージョンの進行したターゲットによりスパッタリングしても良好な結晶性を有する強誘電体膜を形成し、歩留まりを向上させる技術を提供する。
【解決手段】減圧成膜室１１と、被処理基板１４の温度を調整可能な静電チャック手段１２と、被処理基板１４に高周波マグネトロンスパッタするためのターゲットと１５と、減圧成膜室１１に放電ガスを供給するガス供給手段１１ａと、被処理基板１４とターゲット１５との間に放電電圧を印加し、かつターゲット１５がそれまでに放電した電気の積算電力量Ｌ１（ｋＷｈ）を計測する電源手段１７と、静電チャック手段１２と電源手段１７とを制御する制御手段１８とを備え、ターゲット１５がそれまでに放電した電気の積算電力量に基づいてスパッタリングに最適な被処理基板１４の温度を算出し、被処理基板１４を所定の温度に調整した後にスパッタリングする。 （もっと読む）

【課題】断熱コーティング系（１６）でボンドコート（１８）として使用するのに適した、低いアルミニウム含有量を含むコーティングを提供する。
【解決手段】断熱コーティング系（１６）用のボンドコート（１８）として使用するのに適したコーティングは、約５〜約１０重量％のアルミニウム（Ａｌ）と、約１０〜約１８重量％のコバルト（Ｃｏ）と、約４〜約８重量％のクロム（Ｃｒ）と、約０〜約１重量％のハフニウム（Ｈｆ）と、約０〜約１重量％のケイ素（Ｓｉ）と、約０〜約１重量％のイットリウム（Ｙ）と、約１．５〜約２．５重量％のモリブデン（Ｍｏ）と、約２〜約４重量％のレニウム（Ｒｅ）と、約５〜約１０重量％のタンタル（Ｔａ）と、約５〜約８重量％のタングステン（Ｗ）と、約０〜約１重量％のジルコニウム（Ｚｒ）と、残部ニッケル（Ｎｉ）と、を含む。 （もっと読む）

【課題】連続成膜に適した高生産性を有する高ガスバリア性フィルムを提供すること。
【解決手段】基材フィルム上にガスバリア性積層体を有してなるガスバリア性フィルムにおいて、該ガスバリア性積層体が、珪素酸窒化物層、有機中間層、珪素酸窒化物層の順に互いに隣接して配置された３層からなるユニットを少なくとも１つ有するように構成する。 （もっと読む）

【課題】凹凸パターンの記録層を有し、表面が充分に平坦で、記録／再生特性が良好な磁気記録媒体を製造できる磁気記録媒体の製造方法を提供する。
【解決手段】基板１２の上に所定の凹凸パターンで形成されて凸部として記録要素３２Ａが形成された記録層３２及び記録層３２の上に形成された被検出材４４を有する被加工体１０の上に充填材３６を成膜して凹部３４を充填し、被加工体１０の表面に加工用ガスを照射して記録要素３２Ａの上面よりも上側の充填材３６及び被検出材４４を除去して表面を平坦化し、被加工体１０から除去されて飛散する被検出材４４に含まれる元素を検出して該被検出材４４に含まれる元素の検出結果に基いて加工用ガスの照射を停止する。被検出材４４としてＡｌ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｒｈ、Ａｇ、Ｔｂ、Ｔａ、Ａｕ、Ｂｉ、Ｔｉ、Ｉｎ、Ｗのいずれかの元素を含む材料を用いる。 （もっと読む）

【課題】良好な配向性の強誘電体膜を長期にわたり形成することができるスパッタリング装置及びスパッタリング方法を提供する。
【解決手段】プラズマの発生の前後から、冷却・調温ユニットにより温度制御を行いながら、配管２ａ〜２ｆを介して冷却部１内の流水路６ａ〜６ｆに冷却水を流す。このとき、冷却を行わなかった場合にターゲットの厚さの減少が大きくなる箇所ほど、そこを流れる冷却水の温度を下げることとする。例えば、ターゲットの外周部及び中心部に位置する流水路６ａ及び６ｆを流れる冷却水の温度を低めにし、流水路６ａよりも内側に位置する流水路６ｂを流れる冷却水の温度を高めにする。ターゲットの温度を中心からの距離に応じて制御することができるため、エロージョンの程度も中心からの距離に応じて調節することができる。このため、強誘電体膜を形成する場合であっても、良好な配向性のものを長期にわたり安定して形成することができる。 （もっと読む）

【課題】タンタル酸リチウム基板とニオブ酸カリウム層を有する圧電体積層体を提供する。
【解決手段】本発明に係る圧電体積層体１００は、タンタル酸リチウム基板１１と、タンタル酸リチウム基板１１の上方に形成されたニオブ酸カリウム層１２またはニオブ酸カリウム固溶体層と、を含む。 （もっと読む）

【課題】点欠陥などの発生を抑制し、欠陥が少ない高品位な画像が得られる放射線像変換パネルを製造することができる放射線像変換パネルの製造方法および放射線像変換パネル製造装置を提供する。
【解決手段】閉塞された真空チャンバ１２内で、気相堆積法により蛍光体層を形成する製造方法であって、真空チャンバ１２内に基板７０をセットする工程と、基板７０がセットされた状態で基板の表面７０ｄを除塵する工程と、蛍光体層を基板上に形成する工程とを有する。 （もっと読む）

【課題】経時変化が少なく、安定した膜質を有する保護層を任意に形成するのに適したスパッタリングターゲット、及び、そのスパッタリングターゲットを用いた信頼性、反射率、記録感度、記録特性（ＳＤＲ、ジッタ、ＰＲＳＮＲ、エラー率等）に優れた高密度光記録媒体の提供。
【解決手段】（１）ＳｒＳを含み、充填密度が７０〜９８％である光情報記録媒体用ＳｒＳ含有スパッタリングターゲット。
（２）更にＭとＯを含む（１）記載のスパッタリングターゲット（但し、ＭはＭｇ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｃｒ、Ｃｏ、Ｔｉ、Ｇｅ、Ｙ、Ｚｒ、Ｔａ、Ｗ、希土類元素から選ばれる少なくとも１つの元素）。
（３）組成式（ＳｒαＳ１−α）γ（ＭβＯ１−β）１−γ（但し、α、βは原子比、γはモル比）で表され、かつ、０．４≦α≦０．６、０．２≦β≦０．５、０．５≦γ≦１である（１）又は（２）記載のスパッタリングターゲット。 （もっと読む）

【課題】低温プロセスかつ高速成膜にて光触媒活性を有する酸化チタン薄膜を安価に製造する。
【解決手段】ガスフロースパッタリングにより、成膜された光触媒酸化チタン薄膜。成膜後、アズデポジッションのアモルファス膜で光触媒活性を示し、その後の焼成で、より一層の光触媒活性の向上が可能である。ガスフロースパッタリングでは通常のスパッタリングより圧力が２桁程度高く、ターゲット表面をアルゴンガスの強制流が流れ、ターゲット表面に酸素ガスが拡散してくるのを防ぎ、ターゲット表面を酸化させることなく常にフレッシュなメタル状態に維持しつつスパッタリングし、スパッタ粒子をアルゴンの強制流にて基板上まで輸送し、基板上で酸素ガスにより酸化させることが可能である。これにより十分な酸素を導入しても通常のスパッタリングのように酸化物モードになって成膜速度が低下することはなく、酸化チタン薄膜の高速成膜が可能となる。 （もっと読む）

【課題】画素の発光中心位置をより正確に配置することが可能な有機ＥＬディスプレイの製造技術およびそれに関連する技術を提供する。
【解決手段】有機ＥＬディスプレイの製造方法は、複数の開口を有するマスクを被処理基板に対して位置決めする工程と、当該マスクを用いた蒸着によって複数の画素のそれぞれに対応する有機膜を形成する工程とを含む。マスクの各開口の中心位置は、それぞれ、対応画素の理想中心位置からマスク内の基準位置側に向けてシフトされている。 （もっと読む）

【課題】加熱せずに基板表面に結晶性のＴｉＯ_２膜をコーティングすることができ、特にルチル相より高い光触媒活性を有するアナターゼ相を含むＴｉＯ_２膜を形成させる。
【解決手段】ＴｉＯ_２をターゲットとし、Ｏ_２とＡｒの混合ガス雰囲気中で高周波マグネトロンスパッタリングを行い、非加熱基板にＴｉＯ_２膜をコーティングする際に、混合ガス中のＯ_２の濃度および混合ガスの全圧を制御し、アナターゼ相を含む結晶性のＴｉＯ_２膜を形成させる。 （もっと読む）

【課題】
水素ガスを含んだ雰囲気に曝された時に光学特性が変化する水素検知材料とその作製方法を提供する。
【解決手段】
水素を含んだ雰囲気に曝された時に光学特性が変化する水素検知材料とその作製方法は、（１）上記水素検知材料の主成分が酸化パラジウム(PdO)であり、その形状が薄膜である、（２）上記水素検知材料の表面上に触媒金属層が形成されている、（３）上記触媒金属層は、パラジウム(Pd)、白金(Pt)、金(Au)のいずれかを用いる、（４）上記酸化パラジウム膜は、石英ガラスなどの透明基板上に蒸着したパラジウムを空気又は酸素雰囲気下で500℃〜700℃の温度範囲で熱処理を行い、酸化パラジウム（PdO）を形成することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】パーティクル欠陥の少ない薄膜の製造を可能とし、同時に機械的強度を向上させたＢａ_xＳｒ_1-xＴｉＯ_3-yで表される焼結体から成るスパッタリング用ターゲット材の開発。
【解決手段】焼結後にＢａ_xＳｒ_1-xＴｉＯ_3-y（但し、０≦ｘ＜１、０≦ｙ＜０．５）で表されるペロブスカイト型複合酸化物焼結体が得られるような組成の、平均粒径が１μｍ以下のＢａ_xＳｒ_1-xＴｉＯ₃の熱合成粉末を、成形後、大気中、１３５０〜１４５０℃で相対密度９０〜９４％となるまで予備焼結し、次いで１２５０〜１３５０℃、５０ＭＰａ以上のＨＩＰ処理条件で相対密度９９．２％以上、結晶粒径３μｍ以下の焼結体を得られるまで処理する、スパッタリング用ターゲット材の製造方法。 （もっと読む）