【課題】 蒸着材料を入れたルツボ６の蓋１１を真空雰囲気でも開閉することを可能とし、放熱ロスを抑制することを可能とする。
【解決手段】 被蒸着フィルム３を支持して走行させるコーティングローラ４の直下に置かれるルツボ６を、蒸着のための作動位置と清掃等のための退避位置に容器移動手段によって移動させる構成とし、そのルツボ６の移動に連動して且つルツボ６の移動を駆動源として蓋１１を開閉させる蓋開閉手段１２を設け、ルツボ６が作動位置にある時は蓋１１を開位置とし、退避位置に移動した時には閉位置となるようにする。 （もっと読む）

【課題】食品,日用品,医薬品などの包装分野において、また電子機器関連部材などの分野において、包装材料としての通常の加工が施されてもガスバリア性が劣化しない、特に高いガスバリア性が必要とされる場合に、好適に用いられる透明なガスバリア性積層フィルムを提供する。
【解決手段】本発明は、透明なプラスチックフィルムからなる基材層１の表面に、厚さ５〜３００nmの酸化アルミニウム蒸着薄膜層２と、厚さ１〜５nmのアルミニウム蒸着薄膜層３と、重合しうるアクリル系のモノマーからなる又はこのモノマーとオリゴマーとの混合物からなる未硬化のフラッシュ蒸着被膜層を、紫外線又は電子線を照射して硬化させてなる、厚さ０.０２〜２０μmのガスバリア性被膜層４とを、順次積層したことを特徴とするガスバリア性積層フィルムである。 （もっと読む）

【課題】 成膜が容易で、高速で成膜可能な低誘電率薄膜を提供する。
【解決手段】気相より、空孔生成材料と、骨格生成材料とを、基板表面に供給する工程と、前記基板表面で、前記骨格生成材料によって生成される骨格が前記空孔生成材料を取り囲むように画定された薄膜を成膜する工程と、前記薄膜から前記空孔生成材料を除去し、空孔を形成する工程とを含み、前記空孔を前記骨格が取り囲むように形成された多孔質薄膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】ダストの発生などが抑制された状態で、より早い速度でスパッタ法によりＢｉ₄Ｔｉ₃Ｏ₁₂などのビスマスとチタンとを含む金属酸化物の薄膜形成を可能とするターゲットを提供する。
【解決手段】ターゲット１０１は、ビスマス（Ｂｉ）が金属結合したＢｉ微粒子１０２とチタン（Ｔｉ）が金属結合したＴｉ微粒子１０３とより構成された焼結体である。ターゲット１０１は、例えば、粒径１０〜５０μｍ程度のＢｉ微粒子からなる粉体と粒径１０〜５０μｍ程度のＴｉ微粒子からなる粉体とを、ほぼ「Ｂｉ₄Ｔｉ₃」の組成となるように混合し、これらを所定の容器に充填して所定の形状に成型し、Ｂｉが溶解しない程度の温度（２７０℃以下）と適当な圧力とを加えて焼成することで形成可能である。 （もっと読む）

【課題】 大気中で繰り返し試運転を行っても寿命低下が少ない固体潤滑膜の提供。
【解決手段】本発明の固体潤滑膜2は、二硫化モリブデンのかさ密度を２．５〜３．０ｇ／ｃｍ^３とした低密度膜2aと、二硫化モリブデンのかさ密度が３．５〜４．８ｇ／ｃｍ^３で膜厚が０．０５〜０．１５μｍの高密度膜2bとを交互に少なくとも４層積層し、最表面を高密度膜としたものである。また、二硫化タングステンのかさ密度を３．８〜４．６ｇ／ｃｍ^３とした低密度膜2aと、二硫化タングステンのかさ密度が５．３〜７．４ｇ／ｃｍ^３で膜厚が０．０５〜０．１５μｍの高密度膜2bとを交互に少なくとも４層積層し、最表面を高密度膜2bとしてもよい。 （もっと読む）

【課題】 レンズが着色せず、良好な帯電防止性及び撥水性を有する薄膜及び光学部材の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明は、（ａ）パーフルオロアルキル基を有する化合物と、（ｂ）界面活性剤と、（ｃ）フラーレン類、カーボンナノチューブ類及び黒鉛化合物から選ばれる少なくとも１種類の導電性物質とを混合してなる撥水剤溶液を作製し、該撥水性溶液を蒸着原料として真空蒸着法にて薄膜を形成する薄膜の製造方法、並びに、光学基板と、該光学基板上に多層反射防止膜を形成してなる光学部材の製造方法において、該多層反射防止膜上に、前述の薄膜の製造方法により薄膜を形成する光学部材の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】硬質皮膜の密着性と靭性の特性を犠牲にすることが無く、特に硬質皮膜の高硬度化による耐摩耗性を改善することである。
【解決手段】硬質皮膜は、４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌ、Ｂから選択される１種以上の金属元素とＳｉを含み、Ｃ、Ｎ、Ｏから選択される１種以上の非金属元素からなり、該硬質皮膜は柱状組織を有し、該柱状組織中の結晶粒はＳｉ含有量に差がある複数の層からなる多層構造を有し、該層間の境界領域では少なくとも結晶格子縞が連続している領域が存在し、各層の厚みＴ（ｎｍ）が０．１≦Ｔ≦１００、であり、該硬質皮膜中に存在するＳｉはα型Ｓｉ_３Ｎ_４とβ型Ｓｉ_３Ｎ_４の結晶質相として存在し、ラマン分光分析による該α型Ｓｉ_３Ｎ_４のピーク強度をＩα、該β型Ｓｉ_３Ｎ_４のピーク強度をＩβとしたとき、１．０≦Ｉβ／Ｉα≦２０．０であることを特徴とする硬質皮膜である。 （もっと読む）

【課題】一つの同じ蒸着装置による蒸着工程において、少なくとも５個の貯蔵燐光体プレートの一組を連続的に製造する。
【解決手段】それぞれの蒸着を開始する前に、耐火材料表面がそのるつぼユニットにおいてマトリックス成分及び活性化剤成分、燐光体プリカーサ成分又はマトリックス、活性化剤及びプリカーサ成分の組み合わせの液化原材料との接触にもたらされる。前記組の貯蔵燐光体プレート内の一つのプレートから別のプレートまでのスピードの偏差を１５％未満にする。前記組の前記プレートの各々の製造における蒸着開始前に、前記るつぼユニットに、粉末、結晶質粒子、非晶質粒子、球体、バー、スティック、インゴット及び巻体又はそれらの組み合わせからなる群から選択される耐火粒子を加えて、耐火表面を回復する。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、硬質皮膜の密着性、靭性や耐高温酸化性を犠牲にすること無く、特に硬質皮膜の耐溶着性と潤滑性を改善することである。
【解決手段】本発明の硬質皮膜は４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌ、Ｂ、Ｓｉから選択される１種以上の金属元素と、Ｏを含みＣ、Ｎから選択される１種以上の非金属元素によって構成され、該硬質皮膜は柱状組織を有し、該柱状組織中の結晶粒はＯ含有量に差がある複数の層からなる多層構造を有し、少なくとも該層間の境界領域では結晶格子縞が連続している領域が存在し、各層の厚みＴ（ｎｍ）が０．１≦Ｔ≦１００、であることを特徴とする硬質皮膜である。 （もっと読む）

【課題】 メモリー点と非メモリー部との界面付近に偏析濃縮し、書き換え回数及び消去率の低下の原因となる不純物、特に結晶化速度に影響を与える不純物元素を極力減少させると共に、目標組成に対するターゲットの組成のずれ及び成分偏析を減少させて、相変化型メモリーの書き換え特性、結晶化速度を向上させることができる相変化型メモリー用スパッタリングターゲット及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 ３元系以上の元素からなり、アンチモン、テルル又はセレンから選んだ１成分以上を主成分とし、目標組成に対する組成のずれが±１．０ａｔ％以下であることを特徴とする相変化型メモリー用スパッタリングターゲット及び該ターゲットを用いて形成された相変化メモリー用膜。 （もっと読む）

【課題】難削材の重切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン基サーメットからなる超硬基体の表面に、（ａ）０．５〜２μｍの平均層厚を有し、かつ特定の組成式：（Ｔｉ_1-ＺＡｌ_Ｚ）Ｎを満足する（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ層からなる基体密着層、（ｂ）１〜５μｍの平均層厚を有し、かつ特定の組成式：（Ｔｉ_{1-（X＋Ｙ）}Ａｌ_XＳｉ_Ｙ）Ｎを満足する（Ｔｉ，Ａｌ，Ｓｉ）Ｎ層からなる下部層、（ｃ）０．１〜１．５μｍの平均層厚を有する窒化バナジウム層からなる層間密着層、（ｄ）１〜５μｍの平均層厚を有し、かつＶＯ_Ｍ（酸化バナジウム）の素地に、前記ＶＯ_Ｍとの合量に占める割合で、０．５〜７原子％の金属Ｖが分散分布した組織を有するＶ分散ＶＯ_Ｍ層からなる上部層、以上（ａ）〜（ｄ）で構成された硬質被覆層を形成してなる。 （もっと読む）

【課題】透明で、かつ非常に高いバリア性を有するシートを製造するために、プラスチック等の基板上に酸化膜を形成するのに適し、かつコストが低くメンテナンス性が高い装置よび方法を提供すること。
【解決手段】真空容器内で物理気相成長法および／または化学気相成長法で基板上に膜を形成する工程において、前記真空容器内に酸化性ガスを供給して、前記膜の材料を基板に到達する際に酸化させることによって、前記基板上に前記材料の酸化物膜を形成する酸化物膜つき基板の製造方法において、前記真空容器内に供給された酸化性ガス中の酸素原子存在比を５質量％以上にする。 （もっと読む）

【課題】より安定に状態の保持が得られるなど、金属酸化物から構成された材料を用いて安定した動作が得られる金属酸化物素子を提供する。
【解決手段】単結晶シリコンからなる基板１０１の上に絶縁層１０２，共通に設けられた下部電極層１０３，ＢｉとＴｉとＯとから構成された膜厚３０〜２００ｎｍ程度の複数の金属酸化物層１０４，金属酸化物層１０４毎に設けられた上部電極１０５を備える。また、隣り合う酸化物層１０４の間が、五酸化タンタルからなる絶縁分離層１０６により素子分離されている。 （もっと読む）

【課題】内燃機関の燃焼ガスに曝されるチタン部品の疲労強度および衝撃強度を向上する。
【解決手段】本発明による内燃機関用チタン部品は、表面に形成されたセラミックス層７を有している。セラミックス層７は、１０ｎｍを超え７５０ｎｍ以下の厚さを有し、かつ、シリコンまたはアルミニウムを含む。 （もっと読む）

【課題】 難削材の切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆超硬合金製切削工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆超硬合金製切削工具が、炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン系サーメットからなる超硬基体の表面に、（ａ）１〜５μｍの平均層厚を有し、かつ、組成式：（Ｔｉ_{1-（X＋Ｙ）}Ａｌ_XＢ_Ｙ）Ｎ（ただし、原子比で、Ｘは０．３０〜０．７０、Ｙは０．０１〜０．１０を示す）を満足する（Ｔｉ，Ａｌ，Ｂ）Ｎ層からなる下部層、（ｂ）０．１〜１．５μｍの平均層厚を有するＣｒＮ層からなる密着接合層、（ｃ）１〜５μｍの平均層厚を有し、かつＣｒ_２Ｏ_３の素地に、前記Ｃｒ_２Ｏ_３との合量に占める割合で０．１〜５原子％の金属Ｃｒが分散分布した組織を有するＣｒ分散Ｃｒ_２Ｏ_３層からなる上部層、以上（ａ）〜（ｃ）で構成された硬質被覆層を形成してなる。 （もっと読む）

【課題】スムーズに歩留まり良くラミネートによる製袋加工を行うことができ、ガスバリア性および耐ピンホール性が高くＳ字カールのない包装物を効率的に得ることが可能な二軸配向蒸着ポリアミド系混合樹脂フィルムロールを提供する。
【解決手段】本発明の蒸着ポリアミド系混合樹脂フィルムロールは、その巻き終わりから２ｍ以内に１番目の試料切り出し部を設け、フィルムの巻き始めから２ｍ以内に最終の切り出し部を設けるとともに、１番目の試料切り出し部から約１００ｍ毎に試料切り出し部を設けた場合、各切り出し部から切り出されたすべての試料について、エラストマーの含有率、引張弾性率、沸水収縮率や厚み方向の屈折率等の物性が、所定の範囲の変動幅になるように調整されている。 （もっと読む）

【課題】ガスバリア性が高く、スムーズに歩留まり良くラミネートによる製袋加工を行うことができ、Ｓ字カールのない包装物を効率的に得ることが可能な蒸着ポリアミド系混合樹脂積層フィルムロールを提供する。
【解決手段】本発明の蒸着ポリアミド系混合樹脂積層フィルムロールは、蒸着前のフィルムを巻き取ったフィルムロールの巻き終わりから２ｍ以内に１番目の試料切り出し部を設け、フィルムの巻き始めから２ｍ以内に最終の切り出し部を設けるとともに、１番目の試料切り出し部から約１００ｍ毎に試料切り出し部を設けた場合、各切り出し部から切り出されたすべての試料について、エラストマーの含有率、引張弾性率や長手方向の厚み斑等の物性が、所定の範囲の変動幅になるように調整されている。 （もっと読む）

【課題】
ステンレス鋼の水素脆化を防止するため、ステンレス鋼と金属間化合物層の複合化やチタン合金層を高温下で窒素ガス処理するなどの表面改質手法が考えられていたが、特殊な環境下で、表面改質処理する必要があり、機械的強度、熱的影響（歪み）、長期の使用に耐えないなど汎用性に乏しいもので実用化出来なかった。
【解決手段】
アルミニウム酸化物、チタニウム酸化物、あるいはケイ素酸化物等の酸化物をステンレス鋼パイプ及び容器類の表面に、物理的蒸着方法により０．１〜１０μmを少なくとも１層以上被覆することにより水素バリヤ被覆物品及びその表面処理方法を提供するものである。 （もっと読む）

【課題】耐水性を有するだけでなく太陽の強い放射熱をさえぎることができ、さらにはシートで覆われた内部空間の温度上昇を防ぐことができる遮熱シートおよび遮熱用品を提供する。
【解決手段】耐水性がＪＩＳ Ｌ１０９２ Ａ法（低水圧法）で測定して５００ｍｍＨ_２Ｏ以上であり、かつ目付けが３０ｇ／ｍ^２以上である、繊維材料からなり基布に金属皮膜層が積層されており、該金属皮膜層表面の赤外線放射率が０．１〜０．５の範囲であることを特徴とする遮熱シート。 （もっと読む）

【課題】酸素、水蒸気のガスバリア性に優れ、かつガスバリア性が屈曲時でも低下しないガスバリア性の蒸着フィルム、および蒸着の基材として、ガスバリア性が発現し、かつ被覆層の特性が均一な被覆フィルムを提供する。
【解決手段】高分子樹脂組成物からなる基材上に、メラミン系化合物及びポリビニルアルコール系重合体を必須成分とした被覆層を積層した被覆フィルムであって、該被覆フィルムの厚みが５〜５０μｍであり、かつ１３０℃で加熱したときに該被覆フィルムから発生するホルムアルデヒドの重量およびアルコールの重量が、それぞれ該被覆フィルム試料の重量の５０ｐｐｍ以下であることを特徴とする被覆フィルム、および当該フィルムの被覆層上に無機薄膜層を蒸着した蒸着フィルム。 （もっと読む）