【課題】 透明性に優れ、かつ、高いガスバリア性を有すると共にボイルやレトルト等の高温熱水殺菌処理適性に優れ、バリア性の劣化、層間剥離（デラミ）等の発生がないボイル耐性、レトルト耐性を有する実用性の高いバリア性フィルムおよびそれを使用した積層材を提供することを目的とするものである。
【解決手段】 基材フィルムの一方の面に、その構造中に２以上のヒドロキシル基を有するポリアクリル系またはポリメタクリル系樹脂と硬化剤とを含む樹脂組成物によるアンカ−コ−ト剤層を設け、更に、該アンカ−コ−ト剤層の上に、無機酸化物からなる蒸着層を設け、更にまた、該無機酸化物からなる蒸着層の上に、ガスバリア性組成物によるガスバリア性塗布膜を設けることを特徴とするバリア性フィルムおよびそれを使用した積層材に関するものである。 （もっと読む）

【課題】ケーブル、帯、柱状材などの被処理材を長手方向に移動させながら、その表面に厚み２μｍ以上の厚い薄膜を作製することが可能な薄膜作製方法及び装置を提供すること。
【解決手段】直径よりも軸方向長さの方が２倍以上長い管状材１を一方の電極とし、もう片方の電極を管状材１中を通過するケーブル、帯、柱状材などの長尺の被処理材２そのものとする筒状スパッタ装置４を構成する。この筒状スパッタ装置又はこれと二極平板型のスパッタ装置を総計で２以上配置し、これら２以上のスパッタ装置のそれぞれの電極間にプラズマを発生させ、このプラズマ中に被処理材を長手方向に順次に通過させ、被処理材２の表面にスパッタによる金属、半導体、絶縁体などの各種薄膜を作製する。 （もっと読む）

【課題】本発明は、透明性に優れ、材料の安全性が高く、密着が良好であり、クリーン性が高く、かつ高速製造によりコストダウンが可能なガスバリアフィルム積層体およびその製造方法を提供する。
【解決手段】プラスチック材料からなる基材の片面もしくは両面に、フェノールカルボン酸および／またはそのエステル化物を主成分とするガスバリア層を積層してなることを特徴とするガスバリアフィルム積層体およびそのガスバリア層を減圧下で成膜する製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 優れた光触媒性能を有するアモルファス酸化チタン薄膜の形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 基板上または蒸着中の酸化チタンの蒸気流にイオンビームを照射しながら、前記基板上に酸化チタン膜を成膜することを特徴とする光触媒性能を有するアモルファス酸化チタン薄膜の形成方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】支持体と輝尽性蛍光体層との付着性（接着性）を改良した放射線画像変換パネルの提供。
【解決手段】支持体４上に輝尽性蛍光体層を気相堆積法（気相法）により形成し、該輝尽性蛍光体層上に保護層を設けた放射線画像変換パネルにおいて、支持体と輝尽性蛍光体層間の付着力が２〜１００ＭＰａであることを特徴とする。支持体上に輝尽性蛍光体層を形成する前に、該支持体表面をエネルギー照射処理または／及びポリマーコートすることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、高分子樹脂からなるフレキシブル基材上に酸化ケイ素膜や窒化ケイ素膜などの無機化合物層を設け、その無機化合物層の表面に密着力の優れた活性エネルギー線又はプラズマ照射により硬化する有機化合物からなる有機保護膜を真空中で形成する積層体の製造方法を提供するものである。
【解決手段】基材上に、無機化合物層、有機化合物層を設けてなる積層体の製造方法であって、前記有機化合物層が２種以上の（メタ）アクリル化合物を真空中で逐次凝集させた後、活性エネルギー線又はプラズマを照射し、硬化させることにより設けることを特徴とする積層体の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】凹部内の配線におけるボイドを減少させることが可能であり、かつ配線の信頼性を確保することが可能な半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】めっき膜４上に、めっき膜４を構成している金属の熱膨張率に対して６０％以下の熱膨張率を有する物質からなる圧縮応力印加膜５を形成し、圧縮応力印加膜５によりめっき膜４に圧縮応力を印加しながら熱処理を施す。 （もっと読む）

【課題】膜厚を所定の厚さに保ちつつ、極めて優れたガスバリア性を有するガスバリアフィルムを提供することを目的とする。
【解決手段】基材の片面または両面に、プラズマＣＶＤ法によって形成された酸化珪素膜を有するガスバリアフィルムであって、前記酸化珪素膜は、Ｓｉ原子数１００に対してＯ原子数１７０〜２００およびＣ原子数３０以下の成分割合からなっており、さらに１０５５〜１０６５ｃｍ^-1の間にＳｉ−Ｏ−Ｓｉ伸縮振動に基づくＩＲ吸収があることを特徴とするガスバリアフィルムを提供する。 （もっと読む）

【課題】輝尽性蛍光体の結晶性を均一とし、鮮鋭性の高い放射線画像が得られる放射線画像変換パネルの製造装置及び放射線画像変換パネルの製造方法を提供する。
【解決手段】放射線画像変換パネルの製造装置１において、真空容器２と、真空容器２の内部に設ける支持体ホルダ５と、支持体ホルダ５に保持される支持体４とを設け、輝尽性蛍光体を蒸発させて支持体４に輝尽性蛍光体を蒸着させる蒸発源８ａ，８ｂを、支持体４に垂直な中心線を中心とした円の円周上に配置する。 （もっと読む）

基板上に、Ｔｉ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｇ、Ｆｅ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｍｎ、Ｂａ及びＡｌ並びにこれらの酸化物の群から選ばれた少なくとも１種の添加物を含有する貴金属からなる第１の電極層と、膜厚が０．５〜５μｍであり、化学組成が、（Ｐｂ_{（１−ｙ）}Ｌａ_ｙ）Ｔｉ_{（１−ｙ／４）}Ｏ_３、（０＜ｙ≦０．２）、または、（Ｐｂ_{（１−ｙ）}Ｌａ_ｙ）（Ｚｒ_ｘＴｉ_{（１−ｘ）}）_{（１−ｙ／４）}Ｏ_３、（０＜ｘ≦０．２または０．５５≦ｘ＜０．８、０＜ｙ≦０．２）、で示されたペロブスカイト型結晶構造の焦電体層と、第２の電極層とをこの順序で形成し、焦電体素子とする。
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【課題】輝尽性蛍光体の結晶性を均一とし、鮮鋭性の高い放射線画像が得られる放射線画像変換パネルの製造装置及び放射線画像変換パネルの製造方法を提供する。
【解決手段】放射線画像変換パネルの製造装置１において、真空容器２と、真空容器２の内部に設ける支持体ホルダ５と、支持体ホルダ５に保持される支持体４とを設け、さらに輝尽性蛍光体を蒸発させて支持体４に輝尽性蛍光体を蒸着させる複数の蒸発源８を、支持体４の中心から放射状に延びる直線上に配置する。 （もっと読む）

【課題】 本発明の課題は、アルカリ性溶液に浸しても基材とガスバリア層の剥離がなく、かつ安定したバリア性能を保つことのできる積層体、及びその製造方法を提供するものである。
【解決手段】 高分子樹脂基材上にガスバリア層、窒化珪素薄膜が形成されてなる積層体であって、ｐＨ１４以上のアルカリ性溶液に１分間浸漬した後の、ＪＩＳＫ５６００−５−６に規定する密着強度試験で１ｍｍのカット間隔で剥離がないことを特徴とするガスバリア積層体とするものである。 （もっと読む）

【課題】輝尽性蛍光体層の膜厚と鮮鋭性の分布が均一な放射線画像変換パネルを提供する。
【解決手段】シート状の支持体１１に輝尽性蛍光体層を成膜する、放射線画像変換パネルの製造方法において、真空容器２内で、支持体１１を保持し、毎分１〜１００回転で支持体１１を回転させながら輝尽性蛍光体層を成膜することにより放射線画像変換パネルを製造する。 （もっと読む）

【課題】 広い面積に亘ってc軸が面内に配向したZnO薄膜を製造する方法を提供する。
【解決手段】 マグネトロンスパッタリング装置を用いて、薄膜の原料であるZnOターゲット２８をスパッタし、プラズマ中に陰極２３から陽極２４に向かう原料の流れ（原料流）を形成する。この原料流は中心部において密度が高く、中心部から外れるに従って密度が低いものとなる。基板２０は、原料流の形成される領域３０の中心軸から外れた位置に、該中心軸に対して傾斜して固定される。これにより、基板２０に自然に温度勾配が形成され、基板２０上に堆積するZnO薄膜のc軸は面内で温度勾配の方向に配向する。また、基板２０が原料流に対して傾斜して固定されることにより、従来よりもc軸が面内に斉合配向する面積が大きくなる。 （もっと読む）

【課題】 高いバリア性と透明性を有する水蒸気バリアフィルムを提供すること。
【解決手段】 基材フィルム上に少なくとも２層の無機ガスバリア層を有する水蒸気バリアフィルムにおいて、２層の無機ガスバリア層の間に少なくとも１層のアルカリ土類金属一酸化物からなる吸湿性層を設ける。 （もっと読む）

【課題】 寸法安定性に優れた基材フィルムを使用し、高いガスバリア性を安定して維持し、かつ、良好な透明性、および、防湿性、耐衝撃性、耐熱水性、密接着性等を備えたバリア性フィルムおよびそれを使用した積層材を提供することを目的とするものである。
【解決手段】 基材フィルムの一方の面に、無機酸化物からなる蒸着層とガスバリア性複合ポリマ−層とからなる複合ガスバリア層を積層したバリア性フィルムにおいて、上記の基材フィルムとして、該基材フィルムに荷重０．０５〜０．１５Ｎ／ｍｍを負荷し、かつ、昇温速度５℃／ｍｉｎで２５〜２００℃まで昇温すときに、縦方向および横方向の寸法変化率が、それぞれ−５．０〜−２．０％、−１．０〜＋１．０％の範囲内にある二軸延伸ポリエステル系樹脂フィルムを使用することを特徴とするバリア性フィルムおよびそれを使用した積層材に関するものである。 （もっと読む）

【課題】 導電性を有する酸化物膜を基材表面上に成膜することにより耐酸化性、耐欠損性、耐摩耗性の全てに優れ、また、物理蒸着法により成膜可能であり、さらに美しい外観色を呈することにより商品価値の高い表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】 本発明は、基材上にコーティング層を備える表面被覆切削工具であって、前記コーティング層は、前記基材側から内層および外層をこの順で備え、該内層は、周期律表４ａ族に属する金属、５ａ族に属する金属、６ａ族に属する金属、ＡｌおよびＳｉからなる群より選択される１種以上の元素と、炭素、窒素および酸素からなる群より選択される１種以上の元素との化合物から構成され、前記外層は、導電性を有する酸化物膜から構成される表面被覆切削工具を提供する。 （もっと読む）

【課題】 優れた耐焼付き性、耐亀裂性、耐溶損性を有した、高寿命の鋳造用部材を提供する。
【解決手段】 熱間ダイス鋼もしくは高速度鋼を母材とする、少なくとも作業面に被覆層を有した鋳造用部材であって、該被覆層の母材直上層には、Ｃｒを主体とする窒化物、酸窒化物、炭窒化物の１種以上からなるａ層が存在し、該ａ層の上にはＶが主体の窒化物、酸窒化物、炭窒化物の１種以上からなるｂ層があり、ｂ層直上にはＣｒおよびＴｉのいずれか１種以上を主体とする金属層であるｃ層が存在し、更に該被覆層の最表層には、Ｏが原子％で２５％以下である硫化物のｅ層があり、かつｃ層とｅ層との間には、ＣｒおよびＴｉのいずれか１種以上を原子％の総量で１０％以上含有する硫化物のｄ層が存在し、かつｄ層においては、Ｃｒおよび／またはＴｉの総量がｃ層側からｅ層側に向かい連続あるいは段階的に減少している鋳造用部材である。 （もっと読む）

【課題】 基板の除去の際に第三薄膜に対する不具合が起こり難くなる電子デバイスの製造方法及びこれにより製造された電子デバイス及び圧電デバイスを提供する。
【解決手段】 第一工程では、被成膜面１０ａの一部１２を覆うように基板１０を保持しこの被成膜面１０ａ上に第一薄膜２０を成膜する。第二工程では、被成膜面の一部１２を覆わないように、第一薄膜２０が成膜された基板１０を保持し、被成膜面の一部１２の上及び第一薄膜２０の上にさらに第二薄膜４０を成膜する。第三工程では、第二薄膜４０の上に第三薄膜５２，５０を成膜し、積層体７０を得る。第四工程では、エッチャント又は液体を含む研磨剤を用いて基板１０を積層体７０から除去する。そして、第二薄膜４０のエッチング速度又は溶解速度は、第三薄膜５２，５０のエッチング速度又は溶解速度よりも低い。 （もっと読む）

【課題】 先鋭化ファイバーのような線的な構造あるいは立体的な微細加工に対して無電解により再現性よく金属コーティングを行うことができるようにする。
【解決手段】 触媒金属としてパラジウムを酸素含有アルゴン環境下でスパッタにより被めっき物の表面に付与する。 （もっと読む）