【課題】印刷、ラミネート、製袋などの各種後加工が施されても、ガスバリア性が低下しない透明なガスバリア性積層フィルムを提供する。
【解決手段】透明プラスチックフィルムからなる基材層１の少なくとも片面に、厚さ５ｎｍ〜３００ｎｍの酸化アルミニウム蒸着薄膜層２と、続いて、厚さ１ｎｍ〜５ｎｍのアルミニウム蒸着薄膜層３と、さらに続いて、その上に重合しうるアクリル系のモノマー、又はモノマーとオリゴマーの混合物からなる未硬化のフラッシュ蒸着被膜層を硬化させてなるガスバリア性被膜層４を真空中において連続して順次積層してなることを特徴とする。 （もっと読む）

感光性層を持つ光応答性装置を製造する方法が提案されている。この方法は、ａ）真空蒸着室の内部にきれいな基板を設けるステップ、ｂ）第１のるつぼから酸化鉛（ＰｂＯ）を蒸着させ、前記基板の表面上にシード層を形成するステップ、ｃ）正方晶の酸化鉛だけが前記シード層を形成する及び／又はシード層を形成する最初に成長した斜方晶の酸化鉛が正方晶の酸化鉛に変形されるように、前記シード層に影響を及ぼすステップ、及びｄ）感光性層の最終的な厚さが前記基板上に堆積するまで酸化鉛の蒸着をし続けるステップを有する。結果として、前記方法は、酸化鉛からなる感光性層を有する光応答性装置を生じさせ、この感光性層は全て正方晶の酸化鉛から構成される。
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【課題】 検査精度のばらつきを無くすと共に、検査の作業速度を向上させることで表示パネルの生産性の向上を図る。
【解決手段】 基板上の表示領域に自発光素子の配置を特定すると同時に、表示領域以外の領域に基準マークを形成する前処理工程（Ｓ１）、成膜用マスクの開口パターンを介して発光材料を成膜して、表示領域に自発光素子の構成要素を成膜すると同時に、表示領域以外に成膜毎の位置検出マークを成膜する成膜工程（Ｓ２）、基準マークに可視光を照射すると共に位置検出マークにＵＶ光を照射し、基準マーク及び位置検出マークを撮像して得た画像データを画像処理することによって、基準マークに対する位置検出マークの位置を検出する位置検出工程（Ｓ３）、位置検出工程（Ｓ３）によって検出された基準マークに対する位置検出マークの位置に基づいて、自発光素子の配置に対する構成要素の成膜状態の良否を判定する検査工程（Ｓ４）を有する。 （もっと読む）

【課題】 硬質被覆層が高速切削加工ですぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆サーメット製切削工具を提供する。
【解決手段】 表面被覆サーメット製切削工具が、ＷＣ基超硬合金またはＴｉＣＮ基サーメットで構成された工具基体の表面に、（ａ）下部層が、１〜１０μｍの平均層厚を有し、かつ、組成式：（Ｔｉ_1-X Ａｌ_X ）Ｎ（ただし、原子比で、Ｘは０．３５〜０．７０を示す）、を満足する（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ層、（ｂ）中間層が、０．１〜２μｍの平均層厚を有するＣｒ_２Ｏ_３層、（ｃ）上部層が、１〜１０μｍの平均層厚を有し、かつ、組成式：（Ａｌ_１−ＺＣｒ_Ｚ）_２Ｏ_３、（ただし、原子比で、Ｚ：０．０１〜０．１）、を満足すると共に、特定な構成原子共有格子点分布グラフを示す（Ａｌ，Ｃｒ）_２Ｏ_３層、で構成された硬質被覆層を蒸着形成してなる。 （もっと読む）

【課題】 蒸着によって有機機能層を形成する際の、蒸着材料の利用効率を高め、膜厚の制御を容易とした、有機ＥＬ装置の製造方法を提供する。
【解決手段】 隔壁３２に囲まれた複数の画素領域３３を備える素子基板３０に、画素領域３３に有機機能層を蒸着によって形成する。このとき、ボート隔壁ＢＨに囲まれて平面視した状態で画素領域３３に対応した形状となる材料配置部２０が複数備えられ、材料配置部２０に有機機能層１８となる所定量の有機材料１９が設けられた蒸着ボート１０を用意する。そして、蒸着ボート１０の材料配置部２０に素子基板３０の画素領域３３が対向するように、蒸着ボート１０と素子基板３０とを重ね合わせる。その後、蒸着ボート１０を加熱することで、有機材料１９を素子基板１０の画素領域３３に蒸着させ、有機機能層を形成する。 （もっと読む）

本発明は、熱処理を行わなくても実用に値する光触媒部材を提供することを目的とする。
本発明の光触媒部材は、基材表面に下地層を介して光触媒層が形成されたものである。前記下地層は結晶性ジルコニウム化合物、とりわけ単斜晶系ジルコニウム化合物を主成分とし、前記光触媒層は結晶相から構成され、例えば正方晶系酸化チタンを主成分とする。そして、前記基材は耐熱性の低い要素を含むものである。
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耐酸化性物品の製造方法が開示される。該方法は、（ａ）支持体上へ白金族金属の層を沈着させることによって白金族金属沈着化支持体を形成させ、次いで（ｂ）白金族金属沈着化支持体層上へ、Ｈｆ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｚｒ及びこれらの混合物から選択される反応性元素を沈着させることによって該白金族金属沈着化支持体上へ表面改質領域を形成させる工程を含む。この場合、該表面改質領域は、白金族金属、Ｎｉ、Ａｌ及び反応性元素を、γ−Ｎｉ＋γ’−Ｎｉ_３Ａｌ相組成が形成されるような相対濃度で含有する。
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【課題】 各種光学部材などの被処理基材の表面を前処理を行うことによって、耐防汚性、耐擦傷性、耐溶剤性等に優れた防汚層を短時間に形成することが叫ばれており、この課題の解決を目的とする。
【解決手段】 被処理基材上の少なくとも片面に、防汚剤を用いて防汚層を形成する方法であって、前記防汚層を形成する前に、前記被処理基材上の少なくとも片面を前処理し、この前処理した表面に防汚層を成膜する方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】 複数の量子ドットの大きさの均一性を向上させることができる量子ドットアレイの製造方法及び量子ドットアレイ等を提供すること。
【解決手段】 本発明は、量子ドットを有する柱状部を基板上に複数有する量子ドットアレイの製造方法において、量子ドットに対してエネルギー障壁となる第１バリア層の構成材料を基板の表面に斜方蒸着し第１バリア層を複数形成する工程と、量子ドットの構成材料を基板の表面に斜方蒸着し第１バリア層上に量子ドットを形成する工程と、量子ドットに対してエネルギー障壁となる第２バリア層の構成材料を基板の表面に対して斜方蒸着し量子ドット上に第２バリア層を形成する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】支持基板の電極上に成膜される圧電体の膜応力を低減させ、支持基板の変形を抑制可能にする。
【解決手段】この圧電アクチュエータ６０は、１０−２０μｍ厚の振動板６２の電極６４上にエアロゾルデポジション法（ＡＤ法）により１０μｍ厚のＰＺＴ膜６８を成膜して構成されるが、この電極６４とＡＤ膜のＰＺＴ膜６８との間にスパッタ法により成膜される0.5 μｍ以上の厚みのＰＺＴ膜６６を介在させる。スパッタ膜のＰＺＴ膜６６は、ＡＤ膜のＰＺＴ膜６８と同一組成の材料で構成されているため、ＰＺＴ膜６８との界面に圧縮応力が溜め込まれず、ＰＺＴ膜６８の膜応力を低減させることができ、応力緩和層として機能するとともに、膜応力が少なく且つ膜密着性が強いため、ＡＤ膜のＰＺＴ膜６８の密着性向上層としての機能も併せ持つ。 （もっと読む）

【課題】１段階（アンモ）酸化プロセスの収率を増加させるためにさらに改善すること。
【解決手段】本発明は混合金属酸化物（ＭＭＯ１）触媒に関する。ＭＭＯ１触媒の性能は、蒸着によるその表面上へのＴｅのサブモノレイヤー堆積によって改善される。アクリル酸に対する選択性が約６％改善され、アクリル酸収率が絶対量で３％改善された。湿式含浸法で同様のＴｅをＭＭＯ１上に適用した場合は、触媒性能は改善されなかった。Ｔｅを蒸着したＭＭＯ１触媒を、高温において酸素で後処理すると、同じ高温において不活性ガスを使用して対応する試料を処理した場合と比較して、改善された触媒性能が得られた。 （もっと読む）

【課題】 耐面圧性を含め密着性の高い硬質炭素膜を実現する。
【解決手段】 基材１０上に、当該基材１０と相性の良い中間層としての金属膜１２が、スパッタリング処理によって形成される。そして、この中間層１２上に、シリコンを含有する高濃度シリコン含有硬質炭素膜（高濃度層）１４が、プラズマＣＶＤ処理によって形成される。さらに、この高濃度層１４上に、当該高濃度層１４よりも少なめのシリコンを含有する低濃度シリコン含有硬質炭素膜（低濃度層と言う）１６が、同プラズマＣＶＤ処理により形成される。そして、高濃度層１４および低濃度層１６が、一連の硬質炭素膜１８を成す。このように硬質炭素膜１８に含まれるシリコンの量が基材１０から遠くなるに連れて減少することで、当該硬質炭素膜１８の耐面圧性を含めた密着性が向上する。 （もっと読む）

【課題】 含フッ素合成樹脂を主成分とする表面上に金属酸化物膜を形成する際に、フッ素成分の金属酸化物膜中への拡散をより低く抑えることができる方法を提供する。
【解決手段】 含フッ素合成樹脂を主成分とする表面を有する基体の、前記表面に、プラズマを用いた乾式法により、１．０Ｗ／ｃｍ^２未満の電力密度で第１の金属酸化物膜を形成する第１の工程、および前記第１の金属酸化物膜上に、プラズマを用いた乾式法により、１．０Ｗ／ｃｍ^２以上の電力密度で第２の金属酸化物膜を形成する第２の工程を含むことを特徴とする合成樹脂成形物の製造方法。 （もっと読む）

【課題】製造上の均一性に優れ、且つ、高輝度、高鮮鋭性を示す放射線画像変換パネル及び前記放射線画像変換パネルの製造方法の提供。
【解決手段】支持体上に輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネルにおいて、少なくとも１層の該輝尽性蛍光体層が気相法（気相堆積法ともいう）により５０μｍ〜２０ｍｍの膜厚を有するように形成され、該蛍光体層上に保護膜が蒸着プロセスで形成されており、該蛍光体層上保護膜の屈折率が１．２〜２．０とする。 （もっと読む）

【課題】所望するレベルの光触媒性能の発揮が的確に具現された部材を得る。
【解決手段】 部材の表面に、蒸着法によって、単に、光触媒膜、親水性膜をこの順で積層した構造の膜を形成しても、実質的に光触媒作用が発現されそれによる効果が発現されるとは言えない部材に関し、部材の表面粗さを各種材料に適した方法によって、また所望する光触媒性能やコスト増等を勘案して、部材の表面粗さを本願所定の範囲内（算術平均表面粗さＲａで０．７８μｍ以下）で微妙に調整することによって、所望するレベルの光触媒性能の発揮が的確に具現された部材を得ることができる。 （もっと読む）

【課題】蒸着膜の密着を強化し、また蒸着膜へのレトルト・インパクトを緩和することで、レトルト処理などの殺菌処理時によっても性能が劣化しない透明ガスバリア積層体を提供することにある。
【解決手段】プラスチック基材上の、少なくとも一方の面に、ＲＩＥによる前処理面を設け、その上に厚さ５〜１００ｎｍの無機蒸着層を設け、その上に水溶性高分子化合物、金属アルコキシド及び／又はその加水分解物及び／又はその重合物の少なくとも１種類以上を成分に持つ複合皮膜を設け、その上に無機フィラーを５〜６０体積％含む溶液を樹脂コーティングの塗布することにより無機フィラー含有層を設けたレトルト用積層体であって、前記ＲＩＥによる前処理面と無機蒸着層が、同一製膜機（インライン製膜機）にて連続して処理され、該レトルト用積層体が、レトルト処理によっても、ガスバリア性を損ねることの無いレトルト用積層体。 （もっと読む）

【課題】 包装用積層フィルムにおいて、積層フィルムの層間から接着処理剤を取り除くことにより、積層工程数および使用条件数を低減して、積層フィルムコストの低廉化を図る。
【解決手段】 いずれか一方の表面に薄膜バリア層を形成した、一軸もしくは二軸延伸のベースフィルムに対し、薄膜バリア層側およびそれとは反対側のそれぞれの表面に、接着性のオレフィン樹脂よりなるそれぞれのシーラント層を、予めの接着処理なしに直接的に押出し積層する。 （もっと読む）

【要約書】
【課題】 ターゲットの材料である粉末の改善を図り、これによって形成したターゲットを用いてＤＣスパッタリングを可能とすることにより成膜の均一性を高め、生産効率を上げることができる光ディスク保護膜形成用スパッタリングターゲットを得ることを目的とする。
【解決手段】 酸化物、窒化物、炭化物、ほう化物、硫化物、けい化物から選択した少なくも１以上のセラミックス粉末に金属又は合金をコーティング又は混合した粉末を主成分とする焼結体からなることを特徴とする光ディスク保護膜形成用スパッタリングターゲット。 （もっと読む）

【課題】 プラズマによる撥水処理層の成形手段に真空中の高密度プラズマ環境を形成することによって、効率よくかつ強固に撥水処理層を形成できるようにした、超撥水膜の製造方法および製造装置並びにその製品の提供。
【解決手段】 有機ケイ素モノマーをプラズマによって重合し基材２に膜形成させる方法において、高密度プラズマを用いる。 （もっと読む）

【課題】高温状態での耐溶着性並びに硬質皮膜中への被削材元素の拡散を抑制し、切削加工の乾式化、高速化、高送り化に対応する硬質皮膜で被覆された工具を提供することを目的とする。
【解決手段】周期律表４ａ、５ａ、６ａ族、Ａｌ及びＳｉから選択される１種以上の元素と、Ｃ、Ｎから選択される１種以上の元素と、ＳとＯとを含有する硬質皮膜であり、電子分光分析法によって該硬質皮膜の表面にはＳとＯとの結合状態を示すピークが検出され、該ＳとＯとの結合状態を示すピーク位置が１６７〜１７０ｅＶの範囲内にあることを特徴する硬質皮膜及びその製造方法に、少なくとも２種以上のプラズマ密度の異なる物理蒸着による蒸発源を用いて被覆することを特徴とする。 （もっと読む）