【課題】 球レンズの表面に，真空蒸着法等を用いてコーティングして無反射フィルタ膜等を形成する従来の方法では，全面に均一なフィルタ膜を成膜するのが困難である，微小外径の球レンズに適用することができない，球レンズに蒸着カス等が付着する等の課題がある。
【解決手段】 そこで本発明では，真空チャンバ１内におけるフィルタ膜材料２の供給源３の上方に球レンズ８の支持容器９を自転運動及び公転運動可能に支持し，自転運動の回転軸１３は鉛直方向に対して所定角度θ傾斜させると共に，この支持容器は少なくとも底面側に網状部１１を形成し，網状部に球状ガラスを載せて支持容器を回転させることにより，球状ガラスを網状部に対して転動させながら，供給源からフィルタ膜材料を供給して，球状ガラスの全面にフィルタ膜材料のコーティングを施し，成膜する全面フィルタ膜付き球レンズの製造方法を提案する。 （もっと読む）

【課題】スムーズに歩留まり良くラミネートによる製袋加工を行うことができ、Ｓ字カールのない包装物を効率的に得ることが可能な二軸配向蒸着ポリアミド系樹脂フィルムロールを提供する。
【解決手段】本発明の蒸着ポリアミド系樹脂フィルムロールは、蒸着前のフィルムを巻き取ったフィルムロールが、その巻き終わりから２ｍ以内に１番目の試料切り出し部を設け、フィルムの巻き始めから２ｍ以内に最終の切り出し部を設けるとともに、１番目の試料切り出し部から約１００ｍ毎に試料切り出し部を設けた場合、各切り出し部から切り出されたすべての試料について、沸水収縮率や厚み方向の屈折率等の物性が、所定の範囲の変動幅になるように調整されている。 （もっと読む）

【課題】 単結晶炭化ケイ素（ＳｉＣ）のマイクロパイプ欠陥を短時間で修復することに加えて、不純物原子をイオン注入した多結晶炭化ケイ素（ＳｉＣ）基板をソースとして半導体単結晶炭化ケイ素（ＳｉＣ）膜を気相エピタキシャル成長することを可能とし、ＳｉＣ高耐圧半導体が高い歩留まりとスループットで生産可能となる方法を提供する。
【解決手段】 表面にドーパントをイオン注入した前記多結晶ＳｉＣ基板１９に対し、単結晶炭化ケイ素（ＳｉＣ）基板５を近接又は密接させて密閉容器に収納して、１，６００℃〜２，１００℃（好ましくは１，７００℃〜１，９００℃）の高温に短時間で加熱して熱処理する。単結晶炭化ケイ素（ＳｉＣ）基板５と多結晶ＳｉＣ基板１９との距離（隙間ｇの大きさ）は、密接から０．６ｍｍ以下が好ましく、０．１ｍｍ以上０．３ｍｍ以下が更に好ましい。 （もっと読む）

【課題】高精度で真空室内の湿度を測定できる小型の湿度測定装置を提供する。
【解決手段】真空蒸着装置１等に組み込まれて、真空室２内の水分子量を測定する湿度測定装置３である。上記真空室２内に配設されて真空室２内の湿度の違いに応じた比率で水分子が入り込む空隙を有すると共に、入り込んだ水分子量の違いに応じて屈折率が変化する検査部材６と、検査部材６内を通過させた検査光の干渉を用いて間接的に湿度を測定する測定部７とを備えた。上記検査光は、上記検査部材６内を通過させる際に、検査部材６の各界面で反射又は透過して互いに干渉する。 （もっと読む）

【課題】 マスクを使用し気相堆積法により原料膜をパターン化して堆積する際、マスクの歪み、伸縮等によるパターンズレを防止し、堆積膜面内品質不均一を防止した気相堆積装置及び気相堆積方法の提供。
【解決手段】 気相堆積法によって基材上に少なくとも１層の原料膜を堆積させる、減圧手段で減圧される蒸着室と、基材の基材配置手段と、原料を蒸発させる原料蒸発手段と、基材に対して堆積膜の形成領域を規制するマスクのマスク配置手段とを有する気相堆積装置において、少なくとも前記基材上に前記原料膜を堆積させる間、前記マスクを温度制御機構により前記基材の温度履歴に合わせて温度制御することが可能であることを特徴とする気相堆積装置。 （もっと読む）

【課題】 化学的に安定で、毒性がなく、導電性・透明性共に良好であり、容易かつ安価に膜形成が可能な透明導電性成形物を提供する。
【解決手段】 ＳｉＯ_x（Ｘは０．５以上２．０未満）と酸化ビスマス（Ｂｉ₂Ｏ₃）を含有し、体積固有抵抗が０．０１Ωｃｍ未満である透明導電性成形物。 （もっと読む）

【課題】偏光板等の光学部材の防汚性薄膜の形成において、優れた防汚性薄膜を安定的にムラがなく、連続的に形成でき、その薄膜形成の制御性および蒸発源の調整やセット等の作業性に優れた簡便な防汚性薄膜の形成方法の提供にある。
【解決手段】真空蒸着法による被処理基材１０の表面に防汚性薄膜１を形成する方法で、織物状含浸担体２０に浸したフルオロアルキルシラン等の防汚性材料をランプヒーター３０加熱又はヒートローラー接触加熱により蒸発させるもので、前記織物状の含浸担体がロール状含浸担体２０ａで、それを連続巻き取り式送り装置１１０により送り、連続的に蒸発させる方法である。またセラミックス多孔性形成体の含浸担体に浸した防汚性材料を、ランプヒーター加熱により蒸発させるもので、前記セラミックス多孔性形成体の含浸担体が、板状、ペレット状、粉状含浸担体で、それらの表面又は裏面から照射加熱してなる形成方法である。 （もっと読む）

【課題】 複雑な計算をすることなく容易に被成膜物に成膜する薄膜の膜厚を予測する膜厚予測方法及び成膜方法の提供を課題とする。
【解決手段】 成膜装置により被成膜物（１１）に成膜する薄膜（１１ａ）の膜厚（Ｙ）を予測する膜厚予測方法において、上記成膜装置及び被成膜物（１１）の構成に関するパラメータを用いた、膜厚（Ｙ）の予測式を求め、上記予測式に各パラメータの値を与えることで上記膜厚を予測するようにしてある。 （もっと読む）

本発明は、データ媒体や銀行券や証明書などの重要書証及び／又は包装及び同様なものを、偽造防止や追跡調査できるようにすることを目的とするものであって、対象物にコーティングを施して、このコーティングの発色を介して光学的に容易に識別でき、かつ、一義的に関連づけできるように特性表示するシステムに関する。本発明は、また、この特性表示システムのための、セキュリティエレメント及びセキュリティマーキングにも関するものであり、これらは、ＰＶＤ法又はＣＶＤ法による蒸着によって製造することができるもので、本発明は、それらの製造方法及びそれらの使用にも関する。 （もっと読む）

【課題】有機発光層と有機化合物からなるキャリア輸送層を用いた高効率で、特性劣化の少ない発光装置を提供することを目的とする。
【解決手段】基板上に、陽極と、前記陽極と対向する陰極と、前記陽極と陰極の間に設けられた有機化合物からなる発光層と、有機化合物からなるキャリア輸送層を有し、前記発光層と前記キャリア輸送層とが交互に積層されており、前記キャリア輸送層の膜厚は前記発光層の膜厚よりも薄く、前記キャリア輸送層が正孔輸送層の場合には前記発光層は電子輸送性発光層であり、前記キャリア輸送層が電子輸送層の場合には前記発光層は正孔輸送性発光層である。 （もっと読む）

【課題】初期の可視光透過率に優れ、耐久性にも優れた透明積層フィルム、これを用いた透明積層体、プラズマディスプレイを提供すること。
【解決手段】透明高分子フィルムの少なくとも一方面に、液相法により形成された金属酸化物を含む薄膜と、金属薄膜とが交互に積層されており、金属薄膜の少なくとも一方面には、気相法により形成された金属酸化物を含むバリア膜が設けられた透明積層フィルムとする。金属酸化物を含む薄膜およびバリア膜における金属酸化物としてチタンの酸化物、金属薄膜における金属として銀または銀合金を好適に用いる。また、透明支持基体の表面に、粘着剤層を介して、透明積層フィルムを貼り付けた透明積層体とする。また、上記透明積層フィルムまたは透明積層体をプラズマディスプレイに用いる。 （もっと読む）

【課題】 蒸着マスク、有機エレクトロルミネッセンス表示装置、及び、その製造方法に関し、スルーホールを介した補助配線と共通電極の結線構造に由来する非画素開口部面積を抑制して、開口率を高める。
【解決手段】 発光画素間に配置され、且つ、有機エレクトロルミネッセンス層５と第２の電極６の間或いは第２の電極６上のいずれかに第２の電極６と導通する配線７を設ける。 （もっと読む）

【課題】NO_x 吸蔵材をさらに微細な状態で担持し、貴金属とNO_x 吸蔵材とを互いに高分散状態で担持する。
【解決手段】貴金属源と、NO_x 吸蔵材源と、担体酸化物源とを含むターゲットを用い、レーザーアブレーション法により担体酸化物に貴金属とNO_x 吸蔵材を担持する。
レーザー照射によって貴金属源とNO_x 吸蔵材源とはイオン状態あるいは中性粒子状態で原子レベルで混合され、それが原子レベルで担体酸化物源と混合されることになる。これにより貴金属及びNO_x 吸蔵材は、担体酸化物上に原子単位で分散担持され、互いに高分散状態で担持することができる。 （もっと読む）

本発明は、物理的蒸着を利用して基材を被覆する装置であって、コイル中で変動電流を用いて、ある量の導電性材料（１０）を空中浮揚状態に維持し、かつ該材料を加熱および蒸発させるためのコイル（１）が配置された真空チャンバを備えてなり、該コイルを空中浮揚された材料から隔離するための手段（３）が該コイル中に配置されている、装置に関する。本発明によれば、該装置は、該隔離手段が、非導電性材料製の容器（２）の一部であり、該容器が、蒸発した導電性材料を被覆されるべき該基材に導くための一個以上の開口部（５）を有することを特徴とする。本発明は、物理的蒸着を利用して基材を被覆する方法にも関する。
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【課題】蒸着対象が大型基板であっても単純な構成で無機配向膜を効率よく形成する液晶配向膜用真空蒸着装置を提供することを目的とする。
【解決手段】排気手段を有する真空槽及び真空槽内部の蒸着源を備えた液晶配向膜用真空蒸着装置において、蒸着源の鉛直線を中心として水平に配置されたスリットであって蒸着材料が通過するための複数の開口が放射状に設けられたスリット、およびスリットを介して蒸着源に対向する位置に配置され鉛直線を中心として基板を円周上に配列して保持する基板保持手段であって基板上の任意の点と蒸着源とを結ぶ直線と基板の垂線とのなす入射角を所定の角度に調整可能な基板保持手段を備え、鉛直線を中心に基板およびスリットが相対的に回転可能であり、スリットを通過した蒸着材料によって基板が斜方蒸着されて配向膜が形成されるように構成した。 （もっと読む）

【課題】輝尽性蛍光体膜の全体的の物性を把握し、常に一定の品質基準を満たす放射線画像変換パネルを製造する。
【解決手段】本発明に係る放射線画像変換パネルの製造方法は、所定の基板上に輝尽性蛍光体膜を形成し（ステップＳ１）、前記輝尽性蛍光体膜に超短紫外線を照射して前記輝尽性蛍光体膜を瞬時発光させると共に前記輝尽性蛍光体膜に潜像を形成し、前記瞬時発光された蛍光を検出した後、前記輝尽性蛍光体膜に輝尽励起光を照射して輝尽発光させ、当該輝尽発光された蛍光を検出する（ステップＳ２）。 （もっと読む）

【課題】
微細なパターンを精度よくパターニングすることができるシャドーマスクの形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】
本発明に係るシャドーマスクの形成方法は、薄膜をパターニングするためのシャドーマスクを形成する方法であって、シリコン基板１１上に、薄膜パターンに応じた開口部１２０が形成されたマスク１２を形成し、当該マスク１２の開口部１２０からシリコン基板１１を露出させるステップと、当該開口部１２０から露出したシリコン基板１１に、異方性エッチングと内側壁の保護とを交互に繰り返しながら異方性エッチングによってトレンチ１３を形成するステップとを備えたものである。さらに、本発明に係るシャドーマスクの形成方法は、トレンチ１３の底面に至るように、シリコン基板１１の底部を研磨し、シャドーマスクの開口部１４を形成するステップを備える。 （もっと読む）

【課題】 成膜物質を放出する成膜源と被成膜物の成膜目的位置との位置関係に起因する、成膜物質が成膜目的位置に到達できない現象（ケラレ）の発生を判定して膜厚を予測する膜厚予測方法及び成膜方法の提供を課題とする。
【解決手段】 成膜物質を放出する成膜源（Ａ）と被成膜物（３１）の成膜目的位置（Ｂ）との位置関係に起因する、上記成膜物質が成膜目的位置（Ｂ）に到達できない現象（ケラレ）を例えば成膜源（Ａ）と成膜目的位置（Ｂ）とを結ぶ直線（ＡＢ）が被成膜物（３１）内を通る場合に発生すると判定し、その判定結果に基づき薄膜（３１ａ）の膜厚を予測するようにしてある。 （もっと読む）

【課題】大型の多面付けメタルマスクを作製する際、多面付け枠への単位マスクの取り付け回数を減少させて、個々の単位マスクの位置精度を向上させることができる多面付けメタルマスクの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】最初に多面付けマスクの分割を行って、分割メタルマスク１０Ｒ及び１０Ｌを作成し、この分割メタルマスクを１０Ｒ及び１０Ｌ位置合わせして複合メタルマスク２０を作製し、複合メタルマスク２０を面付け枠３０に固定する。複合メタルマスク２０の接合領域１３をムシリ加工線１５よりムシリ取って、面付け枠３０上に分割メタルマスク１０Ｒと分割メタルマスク１０Ｌとが形成され、単位メタルマスク１１が２４面付けされた多面付けメタルマスク１００を得る （もっと読む）

【課題】 フィルムに設けられた蒸着膜の厚みの割には、フィルム全体の酸素透過度が低くできる、ハイバリア性で生分解性の樹脂フィルムを提供する。
【解決手段】 生分解性樹脂からなって酸素透過率が１０〜１００００ｃｃ・μｍ／（ｍ²・ｄａｙ・ａｔｍ）の層を少なくとも一層含む基材フィルムと、無機蒸着膜とが積層されている生分解性フィルム。 （もっと読む）