【課題】 導電性と可視光透過性とを両立させる導電性と可視光透過性とを両立させる金属薄膜の製造方法とその金属薄膜を用いた素子、および、導電性と可視光透過性とを両立させる金属薄膜の層を含む２以上の層からなる積層体の製造方法とその金属薄膜を用いた有機EL素子を提供する。
【解決手段】
基板の表面をプラズマ処理によって清浄化し、その後スパッタリングにより金属薄膜を成膜した。プラズマ処理時間が２分の場合（Dc１）、表面抵抗率が急激に増大する臨界膜厚Dcは非常に大きくなったが、プラズマ処理時間を５分とすると（Dc２）、膜厚極限まで薄くすることができた。さらにプラズマ処理時間を１０分とすると（Dc３）、表面粗さが増大し、Dcは大きくなった。 （もっと読む）

【課題】可逆的非１８０°ドメイン回転による圧電歪が得られ、高い圧電性能を有する圧電体膜を備えた圧電素子を提供する。
【解決手段】圧電素子１において、圧電体膜１４は、電界印加方向と、自発分極軸と［０１０］軸とのなす面の法線とのなす角θｍが、−４５°＜θｍ＜＋４５°かつθｍ≠０°を充足する強誘電体相（Ｉ）、自発分極軸が電界印加方向に対して垂直であり、かつ、電界印加方向と、自発分極軸と［０１０］軸とのなす面の法線とのなす角θｍが、−４５°＜θｍ＜＋４５°かつθｍ≠０°を充足する強誘電体相（ＩＩ）、［０１０］軸が電界印加方向に対して垂直であり、かつ、電界印加方向と、自発分極軸と［０１０］軸とのなす面の法線とのなす角θｍが、−４５°＜θｍ＜＋４５°かつθｍ≠０°を充足する強誘電体相（ＩＩＩ）のうち、いずれかの強誘電体相を含むものである。 （もっと読む）

【課題】熱線膨張係数の異なるプラスチック、あるいはガラス基板等の素材を用いた被蒸着基板に対して所定のパターン等を蒸着する際、温度上昇に耐え、高精度のマスキングをすることができる蒸着用マスクを提供する。
【解決手段】各種の回路パターン等が形成されたマスク１に対して種々の材料よりなる保持基板２を、接着あるいはその他の方法で貼り合わせて一体化し、熱線膨張に対して安定化した高精度な蒸着用マスクを構成する。 （もっと読む）

【課題】ワークコイルとシールドケースとの空間において、グロー放電の発生を抑制する。
【解決手段】減圧環境で使用する高周波誘導加熱作用を利用した加熱機構において、高周波電力の供給を受け、高周波誘導によって被加熱部に誘導電流を流して加熱するワークコイルと、このワークコイルを保持する誘電体ベースと被加熱部の間を除く周囲を囲むとともに、ワークコイルによる電界遮蔽するシールドケースとを有し、さらに、誘電体ベースとシールドケースとの間に接地電位の電界シールドアンテナを備える。これにより、誘電体ベースの表面とシールドケースとの間の電位差を低減し、この電位差の低減によって誘電体ベースとシールドケースとの間におけるグロー放電の発生を抑制する。 （もっと読む）

【課題】青色波長領域のレーザ光による記録再生が可能で、高感度かつ低線速から高線速までの広い線速範囲の記録にも適した光記録媒体とその製造方法、及び、該光記録媒体の記録層を製膜するためのスパッタリングターゲットとその製造方法の提供。
【解決手段】（１）基板上に、少なくとも青色波長領域のレーザ光で記録再生可能な記録層を有し、該記録層がＢｉ（ビスマス）とＯ（酸素）を主成分として含み、更にＣ（炭素）及び／又はＮ（窒素）を含み、Ｆｅを含まない光記録媒体。
（２）記録層が、更にＢ、Ｌｉ、Ｓｎ、Ｇｅ、Ｓｒ、Ｍｇ、Ｂａ、Ｃａ、Ｍｏ、Ｗ、Ｃｏ、Ｓｉ、Ｉｎ、Ｔｉ、Ｍｎ、Ｇａ、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｈｆ、Ｋ、Ｎａ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｐ、Ｔａ、Ｙ、Ｎｂ、Ａｌ、Ｖ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｌａ系列元素から選択される少なくとも一種の元素Ｘを含む（１）記載の光記録媒体。 （もっと読む）

【課題】パターン転写時の露光装置に高ＮＡの露光方法を利用した場合の焦点深度による影響に対応でき、ハーフピッチ４５ｎｍ以降の微細パターンを精度良くパターン転写するのに好適な遮光膜を備えたフォトマスクブランク及びフォトマスクの製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】透光性基板１上に遮光膜２を有するフォトマスクブランク１０であって、前記遮光膜２は、金属と珪素（Ｓｉ）を含み、該金属の含有量が、金属と珪素（Ｓｉ）との合計に対し２０原子％を超える量である。また、このフォトマスクブランク１０における上記遮光膜２をドライエッチング処理によりパターニングすることにより、フォトマスクを製造する。 （もっと読む）

本発明は、４４ミクロン未満の微細で均一な等軸粒構造を備え、電子後方散乱回折（「ＥＢＳＤ」）によって測定されたときに、選択されたテクスチャ配向が無く、ターゲット本体の全体を通して粒径のバンディングまたはテクスチャのバンディングを示さない、スパッタリングターゲットに関する。本発明は、レンズ状または扁平な粒構造を伴い、ＥＢＳＤによって測定されたときに、選択されたテクスチャ配向が無く、ターゲット本体の全体を通して粒径またはテクスチャのバンディングを示さない、スパッタリングターゲットに関し、ターゲットが、スパッタリング材料の層および少なくとも１つの付加層をバッキングプレートの界面において組み込む層状組織を有し、該層は、バッキングプレートの熱膨張係数（「ＣＴＥ」）とスパッタリング材料の層のＣＴＥとの間のＣＴＥ値を有する。 （もっと読む）

【課題】 高屈折率薄膜層と低屈折率薄膜積層体を基材上に順次各１層以上積層することで、金属光沢と彩色と透明性とを併せ持つ光学薄膜積層体およびそれを用いた加飾成形品を提供する。
【解決手段】 基材の一方の面上に、少なくとも高屈折率薄膜層と低屈折率薄膜層とを各１層以上交互に積層してなる薄膜積層体を有する光学薄膜積層体であって、高屈折率薄膜層の光の波長５５０ｎｍでの屈折率が１．７５以上２．４以下であり、消衰係数が０．５以下であり、低屈折率薄膜層の光の波長５５０ｎｍでの屈折率が１．３以上１．７５未満であり、消衰係数が０．５以下であり、光学薄膜積層体のＪＩＳ Ｋ ７１３６に準拠し測定したヘイズが５％以下である。 （もっと読む）

【課題】ＴＦＴトランジスターを用いたフラットパネルディスプレイの配線および電極を形成するための銅合金薄膜並びにその薄膜を形成するためのスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】酸素：０．４〜６原子％を含有し、さらにＮｉ、ＣｏおよびＺｎのうちの１種または２種以上を合計で０．００１〜３原子％を含み、残部がＣｕおよび不可避不純物からなる組成を有する銅合金薄膜からなる密着性に優れたＴＦＴトランジスターを用いたフラットパネルディスプレイ用配線および電極、並びにこれらを形成するためのスパッタリングターゲット。 （もっと読む）

【課題】面内方向に組成分布を有する膜を簡易に低コストに成膜することが可能な成膜技術を提供する。
【解決手段】無機膜５３は、面内方向に組成分布を有するスパッタリングターゲットを用いて、スパッタリング法により成膜されたものである。スパッタリングターゲットの好適な態様としては、組成が略均一なターゲットの表面の所定箇所に、該ターゲットより面積が小さく、かつ該ターゲットの組成とは異なる単数又は複数のターゲットチップが取り付けられたものが挙げられる。他の好適な態様としては、互いに接合する形状に加工された組成の異なる複数のターゲットが接合されたものが挙げられる。 （もっと読む）

【課題】耐酸性に優れ、且つ接触抵抗が低い燃料電池用金属セパレータの製造方法を提供する。
【解決手段】本発明の燃料電池用金属セパレータの製造方法は、表面が平面の金属基材、または、表面の少なくとも一部に凹形状のガス流路が形成される金属基材を用いて製造する燃料電池用金属セパレータの製造方法であって、前記金属基材を加熱し、且つ電圧印加して行うＰＶＤ法によってＮｂ、Ｔａから選択される１種以上の非貴金属を含んでなる耐酸性金属皮膜を当該金属基材上に成膜する成膜工程Ｓ１と、前記成膜工程Ｓ１後、前記耐酸性金属皮膜を成膜した金属基材を加熱し、且つ電圧印加して行うＰＶＤ法によってＡｕ、Ｐｔから選択される１種以上の貴金属を当該耐酸性金属皮膜上に析出させて島状の結晶粒子を形成する析出工程Ｓ２と、を含んでなる。 （もっと読む）

【課題】ターゲットを小さくすることができ、装置重量やスパッタ電力などの増加を抑制する方法および装置を提供する。
【解決手段】平行平板型スパッタ装置において、ターゲット１１と平行に保持された基板１２を、ターゲット１１の取付面に平行な軸を中心に所定の角度だけ回転させながら、基板１２への成膜を行う。 （もっと読む）

【課題】本発明は、従来の装置に大きな変更を加えることなく高いスループットと高い保磁力およびＳ／Ｎ比を両立させることが可能な磁気記録媒体およびその製造方法を提供することを目的としている。
【解決手段】本発明の代表的な構成は、基板上に配向制御層１６、非磁性の下地層１８、磁気記録層２２を備える磁気記録媒体において、配向制御層１６は、ニッケルまたはニッケルよりもイオン化傾向が小さい元素を主成分とすることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 形成する膜の物性を容易に制御でき、また、生産性良く膜の形成が可能な制御性の良い成膜装置を提供する。
【解決手段】 膜を形成すべき基板５をアノード電極３に載置し、反応室１中に原料ガスを供給し、前記アノード電極３と、該アノード電極３に対向して配置してあるカソード電極４との間に高周波電圧を印加して原料ガスのプラズマを発生させ、制御部９を用いて駆動部８を制御することによって、成膜中にカソード電極４をアノード電極３に接近又は離隔させる。 （もっと読む）

【課題】生産性が高く、ガスバリア性が良好で、カールの発生が抑制され、さらにガスバリア膜の接着性の高いガスバリア性シートを提供する。特に、有機ＥＬディスプレイ等の耐久試験として行われるヒートサイクル試験後においても、カールの発生が抑制され、ガスバリア性能も維持されるガスバリア性シートを提供する。
【解決手段】基材２にガスバリア膜３を有するガスバリア性シート１において、ガスバリア膜３を、ＳｉＮ_ｓＭ_ｔＯ_ｕＣ_ｖ膜（ただし、ｓ＝０．５〜１．５、ｔ＝０．０１〜０．３、ｕ＝０．２５〜１、ｖ＝０〜１、ＭはＡｌ及び／又はＭｇである。）とすることによって、上記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】スパッタリングによる成膜を行なうための真空槽内のプロセスガスの分布を真空槽の外部より細かくかつ任意に調整することを可能にした真空槽のガス噴出量調整装置を提供する。
【解決手段】真空槽内に配されたガス供給パイプ２７上に互いに大きさが異なる複数のガス噴出口４９を有するロータリスリーブ４８を取付け、操作軸５４を操作し、この操作軸５４に設けられているレバー５８によってロータリスリーブ４８をガス供給パイプ２７に対して相対的に回転させて任意のガス噴出口４９をガス供給口４７に整合させる。 （もっと読む）

【課題】耐熱性に優れるとともに、耐酸化性に優れた耐熱耐酸化性炭素膜及びその形成方並びに耐熱耐酸化性炭素膜被覆物品及びその製造方法を提供する。
【解決手段】(1) 炭素を主成分とし、シリコンを含有しており、表面層として酸化シリコン含有層を有する耐熱耐酸化性炭素膜Ｆ、(2) 該膜で被覆された耐熱耐酸化性炭素膜被覆物品Ｗ、(3) シリコン含有炭素膜ｆ１を形成する工程と、該工程で形成された炭素膜ｆ１の表面を酸化処理して、酸化シリコン含有層ｆ２を形成する工程とを含む耐熱耐酸化性炭素膜Ｆの形成方法及び(4) 耐熱耐酸化性炭素膜被覆対象物品を準備し、該物品の表面の少なくとも一部に(3) の方法により耐熱耐酸化性炭素膜Ｆを形成して耐熱耐酸化性炭素膜被覆物品Ｗを得る物品製造方法。 （もっと読む）

【課題】 従来よりも多くの被処理物を１度に処理する。
【解決手段】 この発明に係る表面処理装置１０によれば、各被処理物２８，２８，…をプラズマ領域６４に送り込むための公転ユニット３２に複数のホルダユニット３４，３４，…が取り付けられ、これら複数のホルダユニット３４，３４，…のそれぞれに複数の被処理物２８，２８，…が取り付けられる。これにより、従来よりも多くの被処理物２８，２８，…を１度に設置することができる。そして、公転ユニット３２内の大回転板，それぞれのホルダユニット３４内の小回転板，およびそれぞれの被処理物２８を保持するホルダ４０、の各回転数が適切に設定されることで、各被処理物２８，２８，…に対して均一に表面処理が施されると共に、個々の被処理物２８に対してもその表面全体にわたって均一に表面処理が施される。 （もっと読む）

【課題】酸化亜鉛を含有する原料粉末の成形体を焼成するに際し、焼成用治具と酸化亜鉛との反応物形成による焼成用治具の劣化が生じることのない成形体の焼成方法を提供する。
【解決手段】酸化亜鉛を含有する原料粉末の成形体を焼成するに際し、焼成用治具の少なくとも成形体と直接接触する部分、または焼成用治具の少なくとも成形体と直接対向する部分が、ＭｇＯまたはＭｇＯ・Ａｌ_２Ｏ_３等のマグネシア系材料からなる焼成用治具を使用する。 （もっと読む）

【課題】 深さ方向の元素組成が均一であり優れた圧電特性を有するニオブ酸カリウムナトリウム薄膜を用いた圧電薄膜素子及び圧電薄膜素子の製造方法を提供する。
【解決手段】 基板上に少なくとも下部電極、一般式（Ｋ_ｘＮａ_１−ｘ）ＮｂＯ_３（０＜ｘ＜１）で表されるペロブスカイト構造を有し、膜厚が０．２μｍ以上かつ１０μｍ以下である圧電薄膜、及び上部電極を配した構造を有する圧電薄膜素子であって、前記圧電薄膜の上部電極側から下部電極側の深さ方向組成プロファイルにおけるにおけるＮａの組成比１−ｘ＝Ｎａ／（Ｋ＋Ｎａ）の最大値と最小値の差が０．０５以下という関係を有する。 （もっと読む）