本発明は、回転炉または舟形炉（boat furnace）中で還元剤として水素を使用することにより、モリブデン酸アンモニウムまたは三酸化モリブデンを還元することによる高純度なＭｏＯ_２粉末に関する。加圧／焼結、ホットプレスおよび／またはＨＩＰによる粉末の圧密は、スパッタリングターゲットとして使用されるディスク、スラブまたは板を製造するために使用される。ＭｏＯ_２のディスク、スラブまたは板の形状物は、適当なスパッタリング方法または他の物理的手段を用いて支持体上にスパッタリングされ、望ましい膜厚を有する薄膜を提供する。薄膜は、透明度、導電率、仕事関数、均一性および表面粗さに関連してインジウム−酸化錫（ＩＴＯ）および亜鉛がドープされたＩＴＯの性質と比較可能かまたは前記性質よりも優れている性質、例えば電気的性質、光学的性質、表面粗さおよび均一性を有する。ＭｏＯ_２およびＭｏＯ_２を含有する薄膜は、有機発光ダイオード（OLED）、液晶ディスプレイ（LCD）、プラズマディスプレイパネル（PDP）、電界放出ディスプレイ（FED）、薄膜ソーラーセル、低抵抗オーミック接触ならびに他の電子デバイスおよび半導体デバイスに使用されてよい。 （もっと読む）

本発明の実施態様は工具用の硬質な耐摩耗層に関する。具体的には、金属を切削するための例えばドリル、皿穴ドリル、穴ぐり刃、ねじタップ、リーマーなどの回転シャンク工具を含む切削用工具に関する。耐摩耗層は約１〜１０μｍの厚さを有し、物理気相成長法（ＰＶＤ）により蒸着することが好ましい。耐摩耗層はＣｒ、Ｔｉ、およびＡｌの金属窒化物からほぼなり、さらに粒状を微細にするため、低含量の元素（κ）を含む。全層の金属元素中において、Ｃｒは６５％を超え、好ましくは６６〜７０％、Ａｌは１５〜２３％、Ｔｉは１０〜１５％である。 （もっと読む）

真空下で、光学ガラス基板の表面上のインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）などの透過性電極を持つ光学ガラス基板上のポリマー分散型液晶（ＰＤＬＣ）などの揮発性のゼラチン状層全体に、任意のコーティングを施すことを可能にするために、中間の応力吸収ポリマー材料の層が、先ず揮発性物質の蒸発および漏れ防止のために、揮発性のゼラチン状層を覆うように施されて、その後、超高真空下で、例えば物理的気相成長（ＰＶＤ）またはスパッタリングと呼ばれる技術を使用して、コーティングが施される。
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【課題】
【解決手段】
反応性スパッタ堆積によってルチル相の二酸化チタンの薄膜を形成する装置（１００）及びプロセス。一態様においては、スパッタリングターゲット（１０２、１０４）と補助プラズマ発生器（１１０、１１２）とが、スパッタリングチャンバ（１０１）内の被覆ステーション内に配置され、被覆チャンバ内を通る基板上に堆積されたチタンが、プラズマ発生器（１１０、１１２）によって生成されスパッタプラズマと混合された補助プラズマに曝露することによって酸化される。プラズマは、ルチル型二酸化チタンの形成を支援する単原子酸素を含むことができる。また、ターゲット又は１対のターゲット（１０２、１０４）をパルス直流電源又は交流電源によって動作させることができる。 （もっと読む）

Ｓｉスパッタリングターゲットは、スパッタ面の結晶面方位をＸ線回折法で測定した際に、Ｓｉの（１１１）面のピーク強度（Ｉ_{（１１１）}）と（２２０）面のピーク強度（Ｉ_{（２２０）}）の比率（Ｉ_{（１１１）}／Ｉ_{（２２０）}）が１．８±０．３の範囲である。Ｓｉスパッタリングターゲットは、例えば相対密度が７０％以上９５％以下の範囲のＳｉ焼結材を具備する。このようなＳｉスパッタリングターゲットによれば、Ｓｉ酸化膜等のスパッタ膜の膜厚特性や成膜コスト等を改善することが可能となる。 （もっと読む）

【課題】 照射波長３００ｎｍ以下でのリトグラフィーにおいて用いる埋め込み型の減衰移相マスクブランク、及び同マスクブランクのイオンビーム蒸着による作製方法を提供する。
【解決手段】 マスクブランクを基板及び薄膜系から構成し、該薄膜系をＭｇ、Ｙ、Ｌａ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｚｎ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、これら金属の酸化物、窒化物、硼化物及び炭化物、及びこれら金属及び化合物の混合物から選択される１または２以上の金属または金属化合物を含む透過制御下位層と、Ｇｅ、Ｓｉ及び／またはＡｌの硼化物、炭化物、酸化物及び／または窒化物あるいはこれらの混合物を含む移相制御下位層から構成する。 （もっと読む）

ＩＴＯスパッタリングターゲット中に、王水でエッチングしたとき又はスパッタエッチングしたときに表出する、粒径１００ｎｍ以上の粒子の個数が１個／μｍ^２以下であることを特徴とするＩＴＯスパッタリングターゲット及び密度が７．１２ｇ／ｃｍ^３以上であることを特徴とするＩＴＯスパッタリングターゲット。スパッタ特性、特にアーキングの発生を抑制し、このアーキングに起因するＩＴＯ膜の欠陥の発生を抑え、ＩＴＯ膜の品質低下を効果的に抑制する。 （もっと読む）

本発明は、電子ビームによる発生プラズマを用いて基板上に薄膜及び被覆を堆積する手段に関する。プラズマは、スパッタ応用におけるイオン源として用いることができ、イオンは、膜又は被覆を形成するため基板上に縮合できる材料をターゲットから放出させるのに用いられる。代わりに、プラズマは、スパッタ又は蒸着技術に基づくものを含む既存の蒸着源と組合わされ得る。いずれの構成においても、プラズマは、反応性蒸着プロセスにおいて成長する膜表面におけるイオン及びラジカル種の源として機能する。電子ビーム大面積堆積システム（ＥＢＥＬＡＤＳ）は、数ｍ^２まで及び数ｍ^２を含む薄膜又は被覆を生成する新しい方法である。 （もっと読む）

例えば、マグネトロン蒸着装置に用いられるターゲット組立体が、主張される。ターゲット組立体は、管の軸受、管の回転、電気接点、冷媒シール、及び真空シールのような機能の少なくとも１つが管自体の内部に一体化されていることを特徴としている。このような組立体は、エンドブロックが内蔵される容積を低減させることによって、真空空間をさらに有効に用いるという利点を有している。組立体の小形化によって、現在、平面ターゲット組立体のみしか使用できない小型の設備にも、用いることができる。 （もっと読む）

一側面において、本発明は電気分解により水の分割に用いる光電気化学(PEC)電極すなわち光電極を提供する。該光電極は電解質溶液と接触する導電性表面を有する。この表面はドープしたスズ酸化物であって、該光電気化学電極の半導体太陽電池物質と電気的に接触している。本発明の変形において、透明な反射防止性の導電性を有する金属酸化物の別の層が該ドープしたスズ酸化物層と該半導体物質との間に配置されている。 （もっと読む）

本発明はガラスからできているタイプの透明基板に関する。本発明の基板は、ケイ素またはアルミニウムまたはこの２つの混合物の［窒化物、炭窒化物、酸窒化物または酸炭窒化物］をベースとする少なくとも１つの層Ｃを上に配設した被覆層と共に含む被膜を含んでなる。本発明は、この被覆層が酸化物ベースの機械的保護層であり、この酸化物が場合によっては化学量論以下または化学量論以上の酸素含量を有し、および／または場合によっては窒化物であることを特徴とする。本発明を使用して、多層または合わせグレージングを製造することができる。 （もっと読む）

プラズマを用いて基板を処理するための処理システム（１０）は、両端が開口した円筒型のターゲット（３２）と、中空陰極マグネトロン（ＨＣＭ）を形成する米国特許５，４８２，６１１に開示されたタイプのマグネットアレイ（３４）とを用いて提供される。その円筒型ターゲットの開口端部の１つには、米国特許６，０８０，２８７や６，２８７，４３５に記載されているように誘導結合ＲＦエネルギーソース（４０）が配置される。その円筒型ターゲットの一端の誘電体窓（４１）は、外気と処理システムの間にシールを形成するように作用し、真空空間内に位置する蒸着バッフルシールド（４４）によって蒸着から保護され、チャンバー内にコイルからのＲＦエネルギーの供給を可能にするように設計される。ＲＦソースに対向するその円筒型のターゲットの開口端部（１３）は、真空チャンバー（１１）内の処理空間に面する。
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【課題】本発明では、軽量で、高い透明性、水蒸気バリア性を有する積層体を提供することにある。また、従来の包装用途だけでなく、ディスプレイ用途にまで応用のできるバリア性の積層体を提供することを目的とする。
【解決手段】基材の少なくとも片面に、第１層として硫黄原子またはリン原子含有層、第２層として金属酸化物層を設けてなることを特徴とする積層体である。さらには、前記第１層である硫黄含有有機層またはリン含有有機層が、プラズマ重合法により形成されてなることを特徴とする積層体である。 （もっと読む）

【目的】（ＴｉＡｌ）Ｎ皮膜等耐酸化性の優れる硬質皮膜の耐摩耗性並びに密着性を犠牲にすること無く、更に高温状態での耐溶着性並びに硬質皮膜中への被加工物元素の拡散を改善し、切削加工の乾式化、高速化、高送り化に対応する硬質皮膜被覆工具を提供することが目的である。
【構成】金属成分がＴｉとＢで構成される窒化物、炭窒化物、酸窒化物、酸炭窒化物のいずれかであるａ層と、金属成分がＡｌとＴｉで構成される窒化物、炭窒化物、酸窒化物、酸炭窒化物のいずれかであるｂ層とが、それぞれ一層以上交互に被覆され、該ａ層のＸ線回折における（２００）面の格子定数Ａが、０．４２００≦Ａ≦０．４２７０ｎｍの範囲にあり、かつ該ａ層のラマン分光分析においてｃ−ＢＮ並びにｈ−ＢＮのピークが検出され、該ｃ−ＢＮのピーク強度をＱ１、ｈ−ＢＮのピーク強度をＱ２としたとき、ピーク強度比Ｑ１／Ｑ２＜１．０であることを特徴とする硬質皮膜被覆工具。 （もっと読む）

【課題】 高保磁力で、熱揺らぎの影響を受けにくく、かつ大幅なＳ／Ｎ比の改善をもたらす磁気記録媒体を提供する。
【解決手段】 基板上に少なくとも、下地層及び磁性層を順次積層してなる磁気記録媒体において、前記下地層と前記基板との間にプリコート層を介在させ、前記プリコート層がＮｉとＰとを含む下層と、Ｃｒ合金からなる上層とを順次積層することにより構成されることを特徴とする磁気記録媒体。 （もっと読む）

【課題】 ドリル、エンドミル等に好適で、耐摩耗性、高滑り性、高焼き付き性、被削材の加工精度などを向上できる表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】 基材と、その基材上に形成された4a、5a、6a族元素およびAlからなる群の中から選択される1種以上の元素の窒化物または炭窒化物を主成分とする耐摩耗性被膜とを具える。耐摩耗性被膜中には、B₄C、BN、TiB₂、TiB、TiC、WC、SiC、SiN_X（X＝0.5〜1.33）およびAl₂0_３をよりなる群から選択される少なくとも1種の超微粒化合物を含む。この超微粒化合物の粒径は0.5〜50nmが好ましい。基材としては、WC基超硬合金、サーメットなどが利用できる。 （もっと読む）

【課題】 切削工具、摺動部材、金属加工工具等に形成する皮膜の硬さ（耐摩耗性）、耐酸化性、母材との密着性等を向上させるとともに、バランスの取れた特性を備え、安定した皮膜の形成と該皮膜を形成した工具等の寿命を向上させる。
【解決手段】 Ａｌ_ｘＴｉ_{１−ｘ−ｙ}Ｓｉ_ｙ（ｘ及びｙがそれぞれ０．０５≦ｘ≦０．７、０．１<ｙ≦０．２５）であるスパッタリングターゲットを窒素雰囲気中でスパッタリングし、（Ａｌ_ｘＴｉ_{１−ｘ−ｙ}Ｓｉ_ｙ）N、（ｘ及びｙがそれぞれ０．０５≦ｘ≦０．７、０．１<ｙ≦０．２５）の組成を有する耐摩耗性ＡｌＴｉ系合金硬質皮膜を形成する。 （もっと読む）