【課題】 製造が容易で、しかもウェハに反りが生じることなく、要求される分光特性を満足するＵＶＩＲカットフィルタを提供する。
【解決手段】 水晶やガラス等からなる基板（ウェハ）１の出射面側に１層から５２層の光学薄膜から成るＵＶＩＲコート２を形成するようにした。そしてウェハ１に成膜した５２層のＵＶＩＲコート２のうち、１〜２８層までは耐候性を挙げるためにイオンアシスト成膜により薄膜を成膜し、２９層〜５２層まではウェハ１に応力が生じないように、上記イオンアシスト成膜よりイオン化エネルギーは極めて低くした弱イオンアシスト成膜により、或いは一般的な加熱蒸着により薄膜を成膜するようにした。 （もっと読む）

【課題】 多層膜の成膜において、膜の密着性を高め、クラックの発生を抑制し、成膜後の波長シフトの小さい光学素子の製造を可能とする。
【解決手段】 多層膜の成膜方法であって、通常蒸着により圧縮応力を示す蒸着膜を形成するステップ、及びプラズマを用いた蒸着により引張応力を示す蒸着膜を形成するステップからなる多層膜の成膜方法において、圧縮応力を示す蒸着膜と引張応力を示す蒸着膜とを交互に積層するようにした。 （もっと読む）

【課題】 レンズが着色せず、良好な帯電防止性及び撥水性を有する薄膜及び光学部材の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明は、（ａ）パーフルオロアルキル基を有する化合物と、（ｂ）界面活性剤と、（ｃ）フラーレン類、カーボンナノチューブ類及び黒鉛化合物から選ばれる少なくとも１種類の導電性物質とを混合してなる撥水剤溶液を作製し、該撥水性溶液を蒸着原料として真空蒸着法にて薄膜を形成する薄膜の製造方法、並びに、光学基板と、該光学基板上に多層反射防止膜を形成してなる光学部材の製造方法において、該多層反射防止膜上に、前述の薄膜の製造方法により薄膜を形成する光学部材の製造方法である。 （もっと読む）

【課題】 膜厚制御誤差が小さい多層膜の形成装置を提供する。
【解決手段】 基板上に多層膜を形成する装置であって、蒸着源４を有するチャンバ１内に、(a) 複数の基板を回転自在に保持するホルダ５と、(b)基板上に形成される各層の膜厚をモニタするために、各層を形成するごとに切り替わってホルダ５の開口部5aに露出する複数の第一のモニタ基板11と、(c)基板上に形成される多層膜の光学特性をモニタする第二のモニタ基板12とを有し、第二のモニタ基板12がホルダ５上の基板の設置範囲内に設置されていることを特徴とする多層膜の形成装置。 （もっと読む）

【課題】内部応力の緩和された多層膜を備えた光学多層膜フィルタおよびその製造方法を提供すること。
【解決手段】多孔質層１３には空隙が存在するので、多層膜２の他の層で発生した内部応力が多孔質層１３に加わっても、多孔質層１３内部に伝わる応力が空隙の存在によって分散できる。分散された応力はあらゆる方向を向くため、多孔質層１３内で応力を打ち消すことができ、多層膜２全体としての内部応力を緩和できる。したがって、内部応力による品質への影響が少なくなり、基板の歪、膜全体あるいは膜の一部の剥離等の問題を低減できる。
また、多孔質層１３の蒸着中に、基板１０の表面が高周波振動によって微細な振動をしているので、蒸着材料が基板１０に到達した際に微細粒子化でき、形成中の層に空隙を発生させることができる。 （もっと読む）

【課題】 イオンアシストを併用した斜方蒸着によりＳｉＯ₂からなる無機配向膜を形成する際のイオン照射角度を最適化する。
【解決手段】 蒸着源（ＳｉＯ₂）１２の蒸着方向（蒸着粒子堆積方向）１２ａが基板面と成す角度（蒸着角度）をθとした場合に、イオンガン１４のイオン照射方向１４ａが基板面と成す角度（イオン照射角度）が２θ（許容誤差：±０．２θ）となり、尚且つ角度範囲が２０°≦θ≦４０°となるように、例えばθ＝２０°で２θ＝４０°（許容誤差：±４°）となるようにして斜方蒸着とイオン照射とを同じ側の方向から行う。これにより、無機配向膜表面のカラム構造間に生じる微小な隙間４が減少し、無機配向膜としての機能（品質）を向上させることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】 電子ビームを用いた薄膜形成装置において、昇華性材の蒸着材料に電子ビームを照射時、電子チャージアップ現象が生じ、安定した蒸着が行えないという問題点を解決し、昇華性材上の電子の中和を可能とする薄膜形成装置を提供する。
【解決手段】 真空チャンバ内に設けられた電子ビーム発生装置とおよび柱状をなし中央部の上面から下面に達する貫通孔が設けられた蒸着材料を収納したるつぼを備え、電子ビーム発生装置の出射する電子ビームを蒸着材料に照射する。 （もっと読む）

電気導電性ウェブを、エネルギーが５００ｅＶ以下の第１のイオンビームに付し、次に、エネルギーが少なくとも５００ｅＶ以上の、第１の金属のイオンを含む第２のイオンビームに付し、そして、エネルギーが少なくとも５００ｅＶ以上の、貴金属のイオンを含む第３のイオンビームに付すことを特徴とするアイオノマー性成分が実質的に除去された混合金属被膜をガス拡散媒体上に形成する方法及びガス拡散電極。 （もっと読む）

【課題】 シリコン基板の表面に向けて脂肪族飽和炭化水素または不飽和炭化水素からなる気体を照射して炭化珪素層を形成する場合に、シリコン基板の表面を均一に被覆することができるようにする。
【解決手段】 本発明は、シリコン基板１００の表面１００ａに炭化珪素層を形成する炭化珪素層製造方法において、高真空中で、５００℃以上で１０５０℃以下の温度に加熱されたシリコン基板１００の表面１００ａに向けて、炭化水素系気体を照射しつつ、併せて電子線を照射して、シリコン基板の表面に立方晶の炭化珪素層を形成する、ことを特徴としている。 （もっと読む）

本発明は、環境に有害な物質を使用せず、より単純な膜構成で、高温高湿環境下での実用的な耐久性に優れ、しかも可視領域で９８％以上の分光反射率を有する銀鏡を提供することを課題とする。 本発明は、例えば図１に示すように、基体１上に少なくとも反射膜として銀膜３が形成されてなる銀鏡において、前記銀膜３の両面に直接酸化アルミニウムを主体とする膜２、４が形成された構造を有することを特徴とする。また、前記銀膜３の両面側に形成された酸化アルミニウムを主体とする膜２、４が、いずれも膜密度がバルク比０．９５以上（好ましくはバルク比０．９７以上）の膜であることを特徴とする。
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【課題】 位相差素子として用いた場合に、光線透過率の低下、リターデイション値の変化など、品質の低下を引き起こすことがなく、しかも、極めて簡単にかつ効率良く製造することのできる斜め蒸着膜素子を提供する。
【解決手段】 斜め蒸着膜素子は、石英ガラス等からなる透明なガラス基板２１と、ガラス基板２１の上に形成された斜め蒸着膜層とを備える。前記斜め蒸着膜層は、急傾斜の第１種の斜め蒸着膜２２（傾斜角６０°以上）と緩傾斜の第２種の斜め蒸着膜２３（傾斜角２５°以下）とが交互に形成されてなる多層膜からなる。緩傾斜の第２種の斜め蒸着膜２３は、イオンアシスト蒸着によって形成される。 （もっと読む）

【課題】 従来の撥水膜に対し、滑り性を向上させ、かつ耐久性の特性を向上させた薄膜の製造方法、及びこれを用いた光学部材の製造方法を提供すること。
【解決手段】 下記一般式(Ｉ)で示されるフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物を含む溶液を減圧下、加熱して、基材上に該有機ケイ素化合物を蒸着させる薄膜の製造方法であって、該有機ケイ素化合物は、電子銃にて加熱され、加熱温度が、該有機ケイ素化合物の蒸発開始温度から該有機ケイ素化合物の分解温度までの温度範囲であり、該有機ケイ素化合物の蒸発開始後、蒸着完了まで、該有機ケイ素化合物の温度が分解温度を超えることがなく、かつ、該有機ケイ素化合物の加熱開始から９０秒以内に該有機ケイ素化合物の加熱蒸発を完結させることを特徴とする薄膜の製造方法。
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【課題】耐熱性の向上したプラスチック製眼鏡レンズを提供すること。
【解決手段】レンズ基材と、レンズ基材の物体側の面及び眼球側の面に反射防止膜を備え、物体側の面に備えられた反射防止膜が圧縮応力を有し、かつ眼球側の面に備えられた反射防止膜が、物体側の面に備えられた反射防止膜に比べ小さい圧縮応力を有することを特徴とする。圧縮応力が高いと耐熱性は高くなるが、生産性を低下させる。そのため物体側の面は高い圧縮応力を持つ反射防止膜を形成し、眼球側の面は物体側の面に比べ小さい圧縮応力を有する反射防止膜を形成することによって、耐熱性と生産性を両立することができる。 （もっと読む）

【課題】 膜の緻密性をより向上でき、成膜レートが速いなどの有機ＥＬパネル製造装置、有機ＥＬパネル製造方法を提供する。
【解決手段】 有機ＥＬパネル製造装置は、有機ＥＬパネルのバリア膜を形成するガスクラスターイオン援用による蒸着膜形成を行う、蒸着室３を設けている。無機膜１２０の材料となる物質を蒸着源３０２から蒸発させる。これとは別にガスクラスターイオン照射装置３０３で、無機膜１２０を蒸着させる基材１０表面に向けてガスクラスターイオンを照射３０９する。照射されたガスクラスターイオンを援用することにより、無機膜１２０の蒸着を行うことで、膜の緻密性をより向上できる、成膜レートが速いなどの有機ＥＬパネル製造装置、有機ＥＬパネルの製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】基材の表面に所定の光学特性を有する多重薄膜層を成膜バッチに関わらず安定して形成することが可能である、高品質な分光フィルタを歩留まり良く製造可能なイオンアシスト成膜装置及び成膜方法を提供する。
【解決手段】真空チャンバＡ内で蒸発源と、基材と、前記蒸発源から前記真空チャンバ内への成膜材料の拡散を許容及び遮断する許容／遮断手段と、イオン源と、前記イオン源からの前記イオンビームの発射条件を調整する調整手段とを備えるイオンアシスト成膜装置１００であって、前記イオンビームの前記基材への照射強度を検出する照射強度検出手段１８ａ，１８ｂを更に備え、前記許容／遮断手段により前記真空チャンバの内部への前記成膜材料の拡散を遮断した後に前記照射強度が少なくとも所定の照射強度になるように前記調整手段により前記イオン源からの前記イオンビームの発射条件を調整する。 （もっと読む）

【課題】背景技術による内包フラーレンの製造方法では、真空容器中で堆積基板に直流のバイアス電圧を印加して内包原子からなるイオンを含むプラズマを堆積基板に向けて照射し、同時にフラーレン蒸気を堆積基板に向けて噴射していた。そのため、堆積時間が長くなると堆積膜がイオンの電荷によりチャージアップし、堆積膜の剥離が起きるという問題があった。
【解決手段】堆積基板に正と負のバイアス電圧を交互に印加することにした。イオンに加速エネルギーを与える状態と堆積膜のチャージを中和する状態を交互に繰り返すことにより、堆積膜に過度のチャージが蓄積しないので、堆積膜の剥離を防止できる。 （もっと読む）

【課題】色の再現性及び光源の利用効率が良く、長期間使用してもが画質が低下しない投射型表示装置を提供する。
【解決手段】 光源から投影レンズとの間に設ける偏光部材として、基板上の少なくとも一面に、第１の酸化アルミニウム層と、銀層または銀合金層と、第２の酸化アルミニウム層と、フッ化マグネシウム層と、チタン酸化物層またはタンタル酸化物層またはチタンとランタンとの複合酸化物層とを、基板側から順に積層した表面鏡を使用する。 （もっと読む）

シート状基材を処理するための方法および設備を提供する。前記方法および設備は、シート状基材の両主表面上へのコーティングの蒸着に有用である。また、両主表面上にコーティングを有する基材を提供する。好ましくは、基材の対向する主表面上のコーティングは、構造が異なるが、少なくとも２つの膜領域、いくつかの実施形態においては、少なくとも３つの膜領域の構造配列が共通している。
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【課題】該中断時間を短縮できる分子線結晶成長装置を提供する。
【解決手段】成長室１３は、窒素を含むIII−Ｖ化合物半導体を成長するために用いられる。各粒子ビーム源１５は、成長室１３に接続されており、III−Ｖ化合物半導体を成長するための構成元素を提供する。窒素源装置１７は、成長室１３に接続されている。窒素源装置１７は、ラジカルガン１９と、ハウジング２３と、シャッタ２５とを含む。ラジカルガン１９は、窒素ラジカルを発生する。ハウジング２３は、分子線結晶成長装置１１の成長室１３に設けられた開口２１に接続可能であり、またラジカルガン１９を収容する。シャッタ２５は、開口２１とラジカルガン１９との間に設けられ、またラジカルガン１９からの粒子フラックスを調整するためにアパーチャのサイズを変更できる。 （もっと読む）

非常に高い堆積レートで、二軸配向フィルムを連続的に移動する金属テープ基板上に堆積する方法が開示される。これらの方法は、フィルムを基板上に、基板法線から約５°から約８０°の斜め入射角を持つ堆積フラックスで堆積し、同時に、該堆積フィルムを該フィルムの最良イオン配向方向または第２の最良イオン配向方向のいずれかに沿って設けられたイオンビーム入射角でイオンビームを使って照射し、それにより二軸配向フィルムを形成することを含み、堆積フラックス入射面は二軸配向フィルムが早い面内成長速度を持つ方向に沿って平行に設けられる。基板、前記方法で前記基板上に堆積された二軸配向フィルム、及び二軸配向フィルム上に堆積された超伝導層を含む超伝導物品が同様に開示される。
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