【課題】樹脂基板上に高い密着性と緻密性を有する光学薄膜を成膜する。
【解決手段】成膜基板２３を基板ドーム２２に配置する。ＳｉＯからなる蒸着材料３４に電子銃３６から電子ビームを照射してこれを加熱し蒸発させると共に負極性の矩形直流電圧を基板ドームに印加した状態で３００ｎｍ以上の膜厚のＳｉＯ_Ｘ膜を形成する。続いて、ＺｒＯ_２等の蒸着材料を電子ビームで加熱すると共にイオンソース４０からイオンを供給することによりイオンアシスト効果を付与しＺｒＯ_２膜を形成する。以後、同様の工程で、必要な膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】無機反射防止層が基材から剥がれにくい無機反射防止層付き製品およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】無機反射防止層付き製品１０、１０’、１０”は、基材１と、基材１上に形成された１〜５０ｎｍ厚のポリシロキサン層２、２’、２”と、ポリシロキサン層２、２’、２”の上に形成された無機反射防止層３とを備える。無機反射防止層付き製品１０、１０’、１０”の製造方法は、基材１上に、シランカップリング剤を蒸着してポリシロキサン層２、２’、２”を形成するポリシロキサン層形成工程と、ポリシロキサン層２、２’、２”の上に蒸着により無機反射防止層３を形成する無機反射防止層形成工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】簡単に薄膜の光学的特性の向上を図り、特に多層構造とした場合に光学特性の向上を可能にする。
【解決手段】真空容器内１０に保持した基板１４に高屈折率物質と低屈折率物質とを交互にイオンアシスト蒸着法によって蒸着する光学薄膜形成方法において、基板１４に形成した低屈折率物質の蒸着薄膜に高屈折率物質の蒸発粒子とイオンとを同時に供給する蒸着工程の前に、イオンを所定時間供給する予備的イオン照射工程を設けた。 （もっと読む）

【課題】多くの電子電流を引き出すことが可能であると共に、長寿命化を図ることが可能なニュートラライザを提供する。
【解決手段】一方の端部から電子電流を引き出し可能な放電管４と、放電管４内にガスを導入するガス導入管３と、この放電管４の内部でプラズマを発生させる高周波誘導コイル５と、放電管４の内部に配設されたカソード電極６と、放電管４の開口４ａ側に配設された第一のキーパ電極７と、カソード電極６よりも正電位となるように第一のキーパ電極７に電圧を印加する引出し電源１３と、第一のキーパ電極７と離間して配設された第二のキーパ電極８と、この第二のキーパ電極８にカソード電極６よりも正電位となる自己バイアス電圧を印加するコンデンサ１６と、を備える。第二のキーパ電極８の自己バイアス電圧により多くの電子電流が引き出すことができると共に、第二のキーパ電極８はスパッタされにくくなるため、長寿命化を図ることが可能となる。 （もっと読む）

【課題】 ガスバリア性に優れた透明ガスバリア性フィルムを効率良く製造することが可能な透明ガスバリア性フィルムの製造方法を提供する。
【解決手段】 同一の真空槽１２を用いて、透明基材フィルム１８の片面または両面にガスバリア性有機薄膜層およびガスバリア性無機薄膜層を形成する透明ガスバリア性フィルムの製造方法において、前記ガスバリア性有機薄膜層の形成は、前記ガスバリア性有機薄膜層形成材料を気化して発生した蒸気を前記透明基材フィルム１に接触させて塗膜を形成し、前記塗膜を硬化して前記透明ガスバリア性有機薄膜層を形成することで実施され、前記塗膜形成を真空槽１２内で実施し、前記塗膜形成において、前記真空槽１２内の圧力よりも低い雰囲気圧力条件下で前記蒸気を前記透明基材フィルム１８に接触させる。前記真空槽１２内の圧力よりも低い雰囲気条件下は、例えば、真空槽１２の真空引きとは別に設けた真空ポンプ１９により実現する。 （もっと読む）

【課題】耐擦傷性を改善できる光学物品の製造方法を提供する。
【解決手段】光学基板の上に直にまたは少なくとも１つの他の層を挟んで形成された機能
層であって、少なくとも１つの層を含む機能層を有する光学物品の製造方法である。当該
製造方法は、機能層を形成する工程を有する。機能層を形成する工程は、機能層に含まれ
る１つの層を真空蒸着により形成する層形成工程と、層形成工程で得られた層の表面を窒
化処理する工程とを含む。 （もっと読む）

【課題】クラスターイオンアシストによる成膜方法において、成膜中の電子チャージによるフッ化物膜のフッ素欠損を防ぐ。
【解決手段】ホルダー２に保持された被処理基板Ｗに、電子ビーム蒸発源２０からの蒸発粒子２０ａとクラスターイオン生成装置３０からのクラスターイオン３０ａを入射させることで、クラスターイオンアシストによるフッ化物膜の成膜を行う。電子ビーム加熱源２２からの反跳電子が被処理基板Ｗに到達してしまうと膜形成に悪影響を及ぼすため、被処理基板Ｗに反跳電子が到達するのを防ぐための反跳電子制御板２３を設けて、被処理基板Ｗのチャージ電位を制御する。 （もっと読む）

【課題】樹脂基板等の耐熱温度の低い基板でもイオンアシスト成膜を可能とする。
【解決手段】真空槽３０と、基板ドーム２１との間に高周波電源４１から高周波電圧を印加し、真空槽３０内のガスをプラズマ化し、陽イオンにより、蒸着分子の成膜基板２２への堆積をアシストする。高周波電圧の印加により発生する基板ドーム２１のセルフバイアス電圧を検出し、セルフバイアス電圧が減少すると、これを補償するように高周波電源４１の出力電力を増加する。 （もっと読む）

【課題】 透明樹脂成形体表面に形成された無機化合物膜の密着性に優れ、且つ高温下にさらしてもクラックが入らない光学部品を提供すること。
【解決手段】 脂環構造含有重合体からなる成形体の表面にに、基材と第一層との界面に形成される混合層の厚さが１５ｎｍ以下になるように、五酸化タンタルなどの無機化合物層（第一層）を蒸着速度０．１〜３．０Å／秒でイオンビームアシスト蒸着し、さらにその上に別の無機化合物、例えば、酸化ケイ素層（第二層）、五酸化タンタル層（第三層）、酸化ケイ素層（第四層）などを蒸着して、複数層からなる蒸着膜が形成された光学部品を得る。 （もっと読む）

【課題】強いポテンシャル変調を有するとともに、ヘテロ界面においても急峻なN原子の濃度勾配を有する、GaNAs等のIII-V(N)族化合物半導体多層体の製造方法を提供する。
【解決手段】真空容器にGa(III族元素)粒子ビーム源、As(V族元素)粒子ビーム源、及びN(窒素)粒子ビーム源を設け、GaNAs層(N含有層)を形成する際にのみプラズマを点火して窒素粒子ビームを生成し、GaAs層(N非含有層)を形成する際にはプラズマを消火することによりGaAs層のN原子含量を1%未満としかつGaNAs層のN原子含量を1〜10%とする化合物半導体多層積層体の製造が可能となった。 （もっと読む）

【課題】製造時や廃棄時における赤外線フィルタの取り扱いを容易にする。
【解決手段】赤外線フィルタ１は、赤外線を透過する基板２と、基板２表面上に交互に多層積層されたＧｅ膜及びＨｆＯ_２膜とを備え、ＨｆＯ_２膜は（１１１）面と（−１１１）面を主とする面方向に配向した結晶構造を有する。これにより、多層膜構造を形成する際にＺｎＳを使用しないので、製造時や廃棄時における赤外線フィルタの取り扱いを容易にすることができる。また、ＨｆＯ_２膜は（１１１）面と（−１１１）面を主とする面方向に配向した結晶構造を有するので、Ｇｅ膜とＨｆＯ_２膜の密着力が高まり、高強度の赤外線フィルタを提供することができる。 （もっと読む）

【課題】光学薄膜の内部応力のために基板が歪んだり膜剥がれが発生する等のトラブルを効果的に回避できる光学部品の製造方法を提供すること。
【解決手段】基板１の成膜面の反対側に、光学薄膜３を単独で基板１に形成した場合に基板１に生ずる反りとは逆の方向に反りを与える反り付与層２を、蒸着またはスパッタリングにより予め形成する工程と、反り付与層２の形成後に基板１の成膜面に蒸着またはスパッタリングにより光学薄膜３を形成する工程と、光学薄膜３の形成後に反り付与層２を除去する工程とを備える。 （もっと読む）

【課題】すぐれた偏光分離特性を有する膜割れのない光学多層膜を実現する。
【解決手段】基板１０１上に下地層１０２を介して、低屈折率膜１１１と、高屈折率膜および中屈折率膜を含む挿入膜１１２または少なくとも高屈折率膜および中屈折率膜の一方を含む挿入膜１１２ａとを交互に積層した第１の誘電体膜群１１０を形成する。第１の誘電体膜群１１０上には、低屈折率膜１２１と高屈折率膜１２２を交互に積層した第２の誘電体膜群１２０を形成する。第１の誘電体膜群１１０の各低屈折率膜１１１を、引張応力を有するＭｇＦ₂ 膜と、圧縮応力を有するＳｉＯ₂ 膜を接合した２層構造にすることで、膜内応力を緩和する。 （もっと読む）

【課題】レンズが着色せず、良好な帯電防止性及び撥水性を有する薄膜及び光学部材の製造方法を提供する。
【解決手段】（ａ）パーフルオロアルキル基を有する撥水剤、（ｂ）シランカップリング剤、側鎖及び／又は両末端に有機基を導入した変性シリコーンオイル及びパーフルオロエーテル化合物との混合物、及び（ｃ）フラーレン類、カーボンナノチューブ類及び黒鉛化合物から選ばれる少なくとも１種類の導電性物質とを混合してなる撥水剤溶液を用い、真空蒸着法にて薄膜を形成する薄膜の製造方法、並びに、光学基板上に多層反射防止膜を形成する光学部材の製造方法において、該多層反射防止膜上に、前述の本発明の薄膜製造方法により薄膜をさらに形成する光学部材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】薄膜の内部応力のために基板が歪んだり膜剥がれが発生する等のトラブルを効果的に回避できる光学多層膜フィルタの製造方法を提供すること。
【解決手段】光学多層膜フィルタの製造方法は、基板１上に１層以上の無機薄膜を形成する工程と、無機薄膜の最下層と前記基板との間に、前記無機薄膜から前記基板への応力伝達を阻止する有機化合物からなる粘弾性緩衝層２を形成する工程とを備え、粘弾性緩衝層２を形成する工程において、化学気相成長法（ＣＶＤ法）を用いる。ＣＶＤ法を用いているので、粘弾性緩衝層２の成膜速度が速く、実用的な厚さの膜を効率よく作成することができる。 （もっと読む）

【課題】基板の高温加熱を行わなくても、可視だけでなく紫外領域においても光学吸収が低く、緻密で、環境耐久性が高いクラスタビームによる弗化物膜の形成方法を提供する。
【解決手段】真空蒸着法による膜形成方法とクラスタビームを用いて、つぎのように弗化物膜を形成する。
すなわち、弗化物膜の形成に際し、クラスタイオンビーム源５から合成石英基板７にクラスタイオンビーム照射しながら、抵抗加熱ボード３から弗化物膜材料を真空蒸発させ、合成石英基板７上に弗化物膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、Ａｇ層の密着性を高めることができ、またＡｌ_２Ｏ_３層とＴｉＯ_２層間の白濁も防止でき、耐環境特性に優れた銀ミラーを提供することにある。
【解決手段】 本発明の銀ミラーは、基板１と、この基板１上に設けられた下部バッファ層２と、この下部バッファ層２上に設けられたＮｉ−Ｃｒ合金層からなる金属層３と、この金属層３上に設けられたＡｇ層４と、このＡｇ層４上に形成されたＡｌ_２Ｏ_３層５ａとＳｉＯ_２層５ｂとからなる上部バッファ層５と、この上部バッファ層５のＳｉＯ_２層５ｂ上に設けられたＴｉＯ_２層からなる増反射層６と、を有することを特徴とする。
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【課題】装飾用に適するに素材シートを作成する技術を提供する。
【解決手段】絹、織物または不織布の各繊維等の繊維シート１と、その上に設けられた密着・色再現向上層２と、その上に設けられた貴金属層３とを順次積層した構成を有している。 （もっと読む）

【課題】耐摩耗性が優れると同時に耐焼付性も優れ、かつ相手攻撃性も小さく、しかも摩擦係数も小さい摺動部材を提供する。
【解決手段】第１基材１１及び第１基材１１上に形成された第１摺動層１２を有する第１部材（シフトフォーク）１と、第２基材２１及び第２基材２１上に形成され第１摺動層１２と摺動する第２摺動層２２を有する第２部材（ハブスリーブ）とからなる。第１摺動層１２は硫化鉄層、リン酸マンガン層、ｃ−ＢＮ層又はＡｇめっき層であり、第２摺動層２２はダイヤモンドライクカーボン層である。 （もっと読む）

【課題】オレフィン系プラスチック基板と樹脂層との密着性を向上させることができる積層方法及びその積層方法を用いて作製された光学部品を提供する。
【解決手段】オレフィン系プラスチック基板１０の表面にイオンビームアシスト蒸着法によってＴｉＯ₂ 層２０とＳｉＯ₂ 層３０とをこの順序で積層する。次に、ＳｉＯ₂ 層３０の表面にシランカップリング処理を行なう。その後、ＳｉＯ₂ 層３０の表面に紫外線硬化型樹脂層５０を形成する。 （もっと読む）