【課題】十分な耐久性を有し、波長400〜700 nmで製造ばらつきを考慮しても最大反射率が0.2%以下の反射防止特性を有し、分光反射特性の製造安定性に優れた反射防止膜を提供する。
【解決手段】550 nmの波長における屈折率1.4〜2.2の基板上に、前記基板側から順にSiO₂及びTiO₂を交互に11層積層してなる反射防止膜であって、最上層がSiO₂層であり、総物理膜厚が500〜630 nmであることを特徴とする反射防止膜。 （もっと読む）

【課題】紫外線遮蔽機能をもち、酸性雨に対する耐性の高いハードコート構造を備えた透明体を提供する。
【解決手段】透明基材１と、基材１上に順に配置された、紫外線吸収層２とハードコート層３とを有する透明体であって、紫外線吸収層２として、アモルファスなＴｉＯ_２膜を用いる。紫外線吸収層２とハードコート層３との間には、アモルファスなＴｉＯ_２と、ハードコート層を構成する材料との混合物からなる混合層４が配置されている。ＴｉＯ_２膜は、耐酸性が高い性質を有し、しかも、アモルファスなＴｉＯ_２膜は光触媒性能を備えないため、基材との密着性が高い。混合層４は、紫外線吸収層２とハードコート層３との密着性を高め、冷熱サイクルを受けた場合の膜剥がれを防止する。 （もっと読む）

【課題】防塵性能の高い光学物品を提供する。
【解決手段】基板１の上に複数層からなる無機薄膜２を有する防塵ガラス１０であって、無機薄膜２は、複数の酸化ケイ素層２Ａと、複数の金属酸化物の層２Ｂと、が積層され、金属酸化物は、ジルコニウム、タンタルまたはチタンのいずれかを含んだ金属酸化物であり、酸化ケイ素の層２Ａには、低密度の酸化ケイ素層と、この低密度の酸化ケイ素層より密度の高い高密度の酸化ケイ素層とがあり、無機薄膜２の最表層２Ｓは、低密度の酸化ケイ素層であり、無機薄膜２の最表層２Ｓの表面粗さは０．５５ｎｍ以上０．７０ｎｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】基板がプラスチックで安定性の高い高反射率の裏面反射鏡を提供する。
【解決手段】本発明は、プラスチック基板に構成された裏面反射鏡であって、増反射ミラーコートがプラスチック基板の表面上に設けられ、前記増反射ミラーコートは、基板密着層と、増反射中間層と、反射層と、保護層とからなり、前記増反射中間層は、前記プラスチック基板の屈折率より高い屈折率をもち、波長が４２０nmから７５０nmにおいて、又は、波長が４００nmから７８０nmにおいて、０．３％以下の吸収性をもつ高屈折率層と、前記プラスチック基板の屈折率より低い屈折率をもつ低屈折率層とが交互に積層されてなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高硬度材の高速切削加工で、すぐれた耐チッピング性と仕上げ面精度を発揮する表面被覆立方晶窒化ほう素基超高圧焼結材料製切削工具を提供する。
【解決手段】バインダー相であるＴｉＮを２０〜５０ｖｏｌ％含有するｃＢＮ工具基体の表面から１μｍ以内の深さ領域において、上記バインダー相は０．１〜５原子％のＳｉを含有し、さらに、該工具基体表面上に、（Ｔｉ_１−ＸＳｉ_Ｘ）Ｎ層（但し、Ｘは０．００１〜０．０５）を下部層として蒸着形成し、ｃＢＮ工具基体と下部層の付着強度を高め、この上にさらに、ＴｉＮ、ＴｉＣＮおよび（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎの何れかからなる上部層を蒸着形成する。 （もっと読む）

【課題】高い耐久力を有し、湿分、酸およびアルカリに対して不感性であり、放射能が低く、広スペクトル範囲において透明かつ非吸収性であり、溶融および蒸発中に最初の組成を変化させず、低い焼結温度しか必要とせず、それを利用して１．７〜１．８の範囲にその屈折率を特定して設定することができる前記特性を有する中程度屈折率の層を得ることができる、中程度屈折率の光学層の製造のための蒸着材料を提供する。
【解決手段】酸化アルミニウム、ならびに、酸化ガドリニウム、酸化ジスプロシウムおよび酸化イッテルビウムからなる群より選択される少なくとも一つの化合物を含む、中程度の屈折率の光学層を製造するための蒸着材料。 （もっと読む）

【課題】本発明は、結晶配向性に優れ、超電導特性に優れた酸化物超電導層を形成するための基となるＩＢＡＤ−ＭｇＯなどの中間層の下地として望ましい層を備え、ＩＢＡＤ−ＭｇＯなどの中間層の結晶配向度を更に高めることができる構造を備えた酸化物超電導導体用基材の提供を目的とする。
【解決手段】本発明は、金属基材２１上に、ＸＯ_２−Ｙ_２Ｏ_３混合酸化物（但し、Ｘは、ＴｉまたはＨｆを示す。）のベッド層２２とイオンビームアシスト法により成膜された中間層２３とが備えられ、酸化物超電導層が積層されて酸化物超電導導体の基材として利用されることを特徴とする。 （もっと読む）

蒸着源、処理ドラム、駆動ローラー、およびシャドウマスクを備える、連続ロールツーロール蒸気ベース蒸着プロセスにおいてパターン形成コーティングをＯＬＥＤ基材に施すための装置が形成され、シャドウマスクは、基材上へのコーティングの蒸着を選択的に妨げるマスクライン特徴体を備える。コーティングを施すための方法も提示される。 （もっと読む）

【課題】帯電防止性の良好な層を形成できる光学物品の製造方法を提供する。
【解決手段】光学基材の上に、直にまたは他の層を介して透光性の第１の層を形成する工程と、チタン、ニオブ、チタンの酸化物およびニオブの酸化物からなる群から選ばれる少なくとも１つの組成をイオンアシスト蒸着することにより、第１の層の表層の少なくとも一部を低抵抗化する工程とを有する光学物品の製造方法を提供する。チタン−ニオブ系でありながら高温プロセスを用いずに表面の電気抵抗を下げることができ、また、高価なインジウムを用いずに表面の電気抵抗を下げることができる。 （もっと読む）

【課題】優れた耐擦傷性を有する反射防止層および、その製造方法、さらには、該反射防止層が形成されたプラスチックレンズを提供する。
【解決手段】本発明の光学物品は、基材上に反射防止層を備えた光学物品の製造方法であって、前記反射防止層の、最も基材側にある層を低屈折率層とし、低屈折率層と高屈折率層とを交互に蒸着により７層形成する蒸着工程を備え、前記蒸着工程は、設計主波長λ₀を４８０ｎｍ以上５５０ｎｍ以下の範囲として、前記最も基材側にある低屈折率層の光学膜厚をλ₁としたときに、０．７λ₀≦λ１≦１．２λ₀の範囲に蒸着する工程と、前記高屈折率層をイオンアシスト蒸着により蒸着する工程とを含む、ことを特徴とする光学物品の製造方法。 （もっと読む）

【課題】粒界を有し、優れた耐擦傷性を有する多層反射防止層および、その製造方法、さらには、該多層反射防止層が形成されたプラスチックレンズを提供すること。
【解決手段】多層反射防止層３は、高屈折率層３Ｈ１、３Ｈ２と低屈折率層３Ｌ１、３Ｌ２、３Ｌ３とを交互に積層してなるとともに、高屈折率層３Ｈ１、３Ｈ２が粒界を有し、粒界を形成する粒子の粒子径が３０ｎｍ以下である。 （もっと読む）

【課題】超電導層の安定化と交流損失の低減が可能で、且つ簡便に製造できる超電導線材の提供。
【解決手段】金属基材１１の表面１１ｃ側に金属酸化物からなる中間層１２、超電導層１３及び第一の金属安定化層１４がこの順に積層され、中間層１２に達して第一の金属安定化層１４及び超電導層１３を幅方向に分割する第一の溝１８及び第二の溝１９が、第一の金属安定化層１４及び超電導層１３に、長手方向に沿って一体に形成され、金属基材１１の裏面１１ｄ側に第二の金属安定化層１６が積層され、第二の金属安定化層１６が、超電導層１３と電気的に接続されていることを特徴とする超電導線材１。 （もっと読む）

【課題】同一の成膜材料を用いて繰り返し成膜を行った場合でも、各対象物における成膜速度を均一化することのできる成膜装置を提供する。
【解決手段】ターゲット１０１の表面に対向するように配置され、基板１００を設置する基板ホルダ６と、基板１００上の成膜環境を測定可能なセンサ部８とを備え、対象物ホルダ６は、ターゲット１０１に対して移動可能に構成されるとともに、基板ホルダ６の移動量及び移動方向と、センサ部８の移動量及び移動方向とが同一に設定されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】生体分子の微量検出に表面プラズモン共鳴が利用されている。この測定には、プリズムに金属膜を成膜した、いわゆるクレッチマン配置を用いている。このプリズムとして、基材上に密着性の良い金属膜を直接設ける製造方法及びその製造方法によって作製される素子を提供する。
【解決手段】基材２０上に遷移金属又はその合金からなる薄膜が形成された素子の製造方法において、成膜前に基材２０の成膜面を、成膜する金属のイオン雰囲気に晒す工程を有するものとする。 （もっと読む）

【課題】 本発明は合金化溶融亜鉛めっき鋼板に係り、さらに詳しくは耐溶接スパッタ付着性に格段に優れた合金化溶融亜鉛めっき鋼板を提供することを目的とするものである。
【解決手段】 鋼板の片面または両面にＡｌ：０．０５〜０．５質量％、Ｆｅ：５〜１７質量％、残部がＺｎおよび不可避的不純物からなる合金化溶融亜鉛めっき層を有する合金化溶融亜鉛めっき鋼板の表面に、溶融鉄との接触角が９０度以上、その表面積がめっき層の表面積の１．４〜１００倍である皮膜を形成させる。 （もっと読む）

【課題】大面積の基板に対して効果的にアシスト成膜を行うことができる薄膜形成方法を提供する。
【解決手段】クラスターイオンアシスト蒸着によって、クラスターイオンビームＬのビームスポットよりも大きいサイズの基板７に薄膜を形成する際に、基板７を回転させながら基板７の表面７Ａに膜材料を蒸着して薄膜を形成する。そして、基板７の回転中心Ｒと周端の一点７ａとを含む領域にビームスポットを形成し、基板７の回転により薄膜全体にクラスターイオンを照射する。 （もっと読む）

【課題】光学的性質を劣化させずに長期間に渡って帯電防止効果を保つことができるとともに耐薬品性に優れる光学多層膜フィルターと、該フィルターを簡便に製造する光学多層膜フィルターの製造方法を提供すること。
【解決手段】光学多層膜フィルター１０は、ガラス基板１と、ガラス基板１の上面に複数層の光学薄膜２と、防汚層３と、を備えて構成される。光学薄膜２は、ガラス基板１側から高屈折率層２Ｈ１がまず積層され、積層された高屈折率層２Ｈ１の上面に低屈折率層２Ｌ１が積層され、以下、高屈折率層、低屈折率層が順次、交互に積層され、低屈折率層２Ｌ３０と高屈折率層２Ｈ３０との間にa−Ｓｉ層２１が積層され、高屈折率層と低屈折率層とが各々３０層とa−Ｓｉ層２１との計６１層の光学薄膜２を形成している。 （もっと読む）

【課題】シート抵抗の低い反射防止層を備えた光学物品を提供する。
【解決手段】プラスチックレンズ基材１と、このレンズ基材１の上にハードコート層２を介して形成された透光性の反射防止層３とを有し、反射防止層３の１つの層３２上にゲルマニウムを含む透光性の導電層３３が形成されているレンズ１０を提供する。このレンズサンプルのシート抵抗値を１２乗程度あるいはそれ以下に低下させることが可能であり、ごみの付着を防止するのに十分な帯電防止機能を備えた光学物品を提供できる。 （もっと読む）

【課題】制御が複雑となる反復計算を用いることなく、また、真空蒸着にありがちな成膜速度変動等の影響を受けることなく、光学膜厚を制御しながら屈折率を高精度に制御し、厳しい仕様が求められる光学素子を安定して製造する。
【解決手段】まず、成膜しようとする薄膜の物理膜厚に対するモニタ光の目標光量変化を予め設定する（Ｓ１）。次に、薄膜の成膜を開始し（Ｓ２）、成膜途中で薄膜の物理膜厚を検知する（Ｓ３）。同時に、Ｓ３で検知した物理膜厚でのモニタ光の光量を検知する（Ｓ４）。そして、Ｓ３で検知した物理膜厚におけるＳ４でのモニタ光の検知光量と、Ｓ１で予め設定されたその物理膜厚における目標光量との差に基づき、その後の物理膜厚に対するモニタ光の光量変化が予め設定された目標光量変化に追従するように、成膜条件を変更しながら薄膜を成膜する（Ｓ５）。 （もっと読む）

【課題】 実用に耐えうる耐摩耗性を備えた撥油性膜を持つ撥油性基材を製造することができる成膜方法を提供する。
【解決手段】 本発明の成膜方法は、まず第１の成膜工程で、基板１０１の表面に乾式成膜法（イオンアシスト蒸着法を除く）を用いて基板１０１の硬度より高い硬度を持つ第１の膜１０３を所定厚み以上で成膜する。次に第１の照射工程で、成膜した第１の膜１０３に対して加速電圧が所定値以上で電流密度が所定値以下の特定のエネルギーを持つ粒子を照射し、これによって第１の膜１０３の表面に適切な凹凸を形成する。次に第２の成膜工程で、第１の膜１０３の凹凸面に撥油性膜１０５を成膜する。 （もっと読む）