本発明は、基板と、対応する電極構造物とを有する電子音響部品（１）、特に、表面音波またはバルク音波で動作する部品に誘電体層（３）を形成する製造方法に関し、多重部品システムとしてのホウケイ酸ガラスなどの蒸着ガラス材料や、二酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸化アルミニウムなどの単部品システムからなる、蒸着材料のグループから選ばれる少なくとも一つの蒸着材料が、熱蒸着により析出するので、上記誘電体層（３）が、少なくとも部分的に形成される。本発明は、さらに、電子音響部品に関する。
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【課題】膜厚分布が顕著化しやすい場合においても高精度な膜厚制御を行うことが可能な成膜装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る真空蒸着装置１は、真空チャンバ１０１と、基板ホルダ１０３と、成膜源ホルダ１１３と、遮蔽機構１０９と、第１膜厚測定機構１０４と、補正制御部１１０と、を備えている。遮蔽機構１０９は、基板ホルダ１０３と成膜源ホルダ１１３との間に設けられており、成膜源１１４からみて基板上における成膜される領域の少なくとも一部を遮蔽し、基板ホルダ１０３の回転軌道円の接線方向における大きさを個々に変更可能な小片３０３ａ〜３０３ｌを有する。第１膜厚測定機構１０４は、複数の位置における成膜層の膜厚を測定する。補正制御部１１０は、第１膜厚測定機構１０４の測定結果に基づいて小片３０３ａ〜３０３ｌのそれぞれの大きさを個々に補正する。 （もっと読む）

【課題】重切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐欠損性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】超硬合金、サーメット、立方晶窒化ほう素基超高圧焼結体からなる切削工具基体表面に、組成式Ｔｉ（Ｃ_１−ＸＮ_Ｘ）（ただし、原子比で、Ｘは０．４０〜０．９８）を満足するＴｉの炭窒化物層からなり、かつ、該層についてＥＢＳＤによる結晶方位解析を行った場合、表面研磨面の法線方向から０〜１５度の範囲内に結晶方位＜１１０＞を有する結晶粒の面積割合が５０％以上であり、また、隣り合う結晶粒同士のなす角を測定した場合に、小角粒界（０＜θ≦１５゜）の割合が５０％以上であるような結晶配列を示す改質Ｔｉ炭窒化物層で硬質被覆層を構成する。 （もっと読む）

【課題】反射防止層の耐熱性及び硬度を向上した光学物品を提供する。
【解決手段】レンズ基材１の表面に低屈折層である第１層３１、第３層３３、第５層３５及び第７層３７と、高屈折層である第２層３２、第４層３４及び第６層３６とが交互に積層される眼鏡レンズあって、高屈折層は五酸化二タンタル（Ｔａ_２Ｏ_５）から形成され、かつ、屈折率が２．１０〜２．３０であり、圧縮応力が１５０〜２５０ＭＰａである。高屈折層の屈折率を２．１０〜２．３０、圧縮応力を１５０〜２５０ＭＰａにすることで、耐熱性・硬度が向上する。 （もっと読む）

【課題】重切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐欠損性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】超硬合金、サーメット、立方晶窒化ほう素基超高圧焼結体からなる切削工具基体表面に、組成式（Ｃｒ_１−Ｘ Ａｌ_Ｘ ）Ｎ（ただし、原子比で、Ｘは０．４０〜０．７０）を満足するＣｒとＡｌの複合窒化物層からなり、かつ、該層についてＥＢＳＤによる結晶方位解析を行った場合、表面研磨面の法線方向から０〜１５度の範囲内に結晶方位＜１１２＞を有する結晶粒の面積割合が５０％以上であり、また、隣り合う結晶粒同士のなす角を測定した場合に、小角粒界（０＜θ≦１５゜）の割合が５０％以上であるような結晶配列を示すＣｒとＡｌの複合窒化物層で硬質被覆層を構成する。 （もっと読む）

【課題】視感反射率が小さく、視感透過率が高いという優れた反射防止膜を有するだけでなく、光学部材のＳｉＯ₂とＡｌ₂Ｏ₃からなる成膜原料を用いてなる低屈折率層の薄膜において、膜密度を向上させ、耐スクラッチ性に優れた光学部材を提供すること。
【解決手段】プラスチック基材と、真空蒸着で形成された反射防止膜とを有する光学部材であって、反射防止膜中の少なくとも１層が、ＳｉＯ₂とＡｌ₂Ｏ₃とからなる成膜原料を用いてなる層を具備し、該層はナノインデンテーション測定法において、押し込み荷重０．９８ｍＮのときの押し込み深さが７０〜９５ｎｍである低屈折率層の反射防止膜を有する光学部材。 （もっと読む）

【課題】従来の撥水膜に対し、滑り性を向上させ、かつ耐久性、耐摩耗性の特性を向上させた薄膜を有する光学部材の製造方法を提供する。
【解決手段】特定のフッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物と、特定のシラン化合物との混合物を含有する蒸着材料を光学部材上に蒸着して第１撥水層を形成し、その上に特定のパーフルオロポリエーテル−ポリシロキサン共重合体変性シランと溶媒を含有する浸漬材料に浸漬して第２撥水層を形成することにより、２層からなる撥水膜を形成する光学部材の製造方法。 （もっと読む）

【課題】最終層である光学多層膜フィルタの表面にＩＴＯ等の透明電極材料を用いずに光学ローパスフィルタからの静電気を除去する。
【解決手段】水晶基板２０に透明薄膜である高い屈折率の二酸化チタン３２を１層目に蒸着し、２層目に低い屈折率の二酸化ケイ素３３を蒸着し、交互に積層して複層にし、最終層のｎ層に低い屈折率のフッ化マグネシウム３１を積層し、（ｎ−１）層には低い屈折率の二酸化ケイ素３３を積層する。ｎ層と（ｎ−１）層は光学多層膜フィルタ３０のなかで唯一、低い屈折率の物質同士を重ね、２種類の物質で所定の薄厚を形成する。 （もっと読む）

【課題】アシスト法を用いて成膜される高屈折率層のプラズマによる低屈折率層へのエッチングを阻止して、光学特性の劣化を防止した光学薄膜の形成方法、およびその光学薄膜を備えた光学素子を提供する。
【解決手段】光学基材上に、ＭｇＦ₂より成る低屈折率層とＮｂ₂Ｏ₅より成る高屈折率層との間に、真空蒸着法を用いて形成された酸化物質のＡｌ₂Ｏ₃層を有するＮｂ₂Ｏ₅／ＭｇＦ₂／Ａｌ₂Ｏ₃構造の誘電体多層膜は、Ａｌ₂Ｏ₃層がイオンアシスト法を用いて成膜されるＮｂ₂Ｏ₅層のプラズマによるＭｇＦ₂層へのエッチングを阻止するバリヤ層として機能する。そして、この誘電体多層膜が形成された光学素子は、例えば、光ピックアップの波長４０５ｎｍの青色半導体レーザに対応した偏光ビームスプリッタとして用いられる。 （もっと読む）

【課題】酸化物超電導テープに高抵抗材を貼り合わせた、電気抵抗値が均一な高抵抗材複合酸化物超電導テープの提供。
【解決手段】金属テープ基材の表面に、酸化物からなる中間層が成膜され、該中間層の表面に酸化物超電導層が成膜され、該酸化物超電導層上に厚さ１０μｍ以下の銀層が成膜された酸化物超電導テープと、体積抵抗率が１μΩｍ以上である電気抵抗合金からなる高抵抗テープとを貼り合わせてなる高抵抗材複合酸化物超電導テープであって、この高抵抗材複合酸化物超電導テープは、室温での電気抵抗が０．２Ω／ｍ以上、限流時の電気抵抗が０．１Ω／ｍ以上であり、長手方向の電気抵抗の分布ばらつきが１０％以下であることを特徴とする高抵抗材複合酸化物超電導テープ。 （もっと読む）

【課題】これまで存在しなかった超高屈折率の酸化ジルコニウムからなる表面層を備えた耐擦傷性物品の製造方法を提供する。さらに、そのような超高屈折率の酸化ジルコニウム層と低屈折率層とからなる反射防止層を備えた耐擦傷性物品の製造方法を提供する。
【解決手段】基板の上に薄層を形成してなる耐擦傷性物品の製造方法であって、前記薄層は単層膜または多層膜からなり、前記単層膜および多層膜は、少なくとも酸化ジルコニウムからなる層を含み、前記酸化ジルコニウムからなる層を、窒素ガス、アルゴンガス、またはこれらの混合ガスを導入しながらイオンアシスト蒸着により前記基板上に形成する。 （もっと読む）

【課題】例えばより抵抗が低く透過率の高いＩＴＯ薄膜のような透明導電膜を、樹脂フィルムの軟化点以下の温度で比較的低コストに均一かつ高速度で成膜する。
【解決手段】真空容器１内の上部に、成膜ローラ１０に巻回された樹脂フィルムＦがその被成膜面Ｓを下向きにして配設するとともに、真空容器１内の下部には、蒸着材料を電子ビームガン４によって蒸発させる蒸発源５と、この蒸発源５において蒸発させられた蒸着材料の材料蒸気Ａに向けてプラズマＢを照射するプラズマ放出源７とを、被成膜面Ｓに対向するように配置し、このうちプラズマ放出源７を、成膜ローラ１０の軸線Ｏを含んで鉛直方向に延びる仮想平面Ｒから間隔をあけて配設する。 （もっと読む）

【課題】高品質な水素化アモルファスシリコン膜の製造技術を提供する。
【解決手段】電子銃４から出射される電子ビームを蒸着源３に照射・掃引し、蒸着源３を溶融する。これにより蒸着源３であるシリコンが蒸発し、基板１０表面にシリコン膜を蒸着する。シリコン膜の堆積速度は、膜厚モニター７によって測定されており、膜厚モニター７から電子銃４への信号に基づいて、ほぼ一定の蒸着速度になるように電子銃４の出力を制御する。シリコン膜の堆積速度は、好ましくは０．０２〜１ｎｍ／ｓであり、より好ましくは、０．０５〜０．５ｎｍ／ｓである。さらに、基板１０にシリコンを蒸着する際に、基板１０上に水素化アモルファスシリコン膜を形成するために、シリコン膜の堆積と同時にイオンビームアシスト蒸着法によって水素イオンを含むイオンビームを照射する。 （もっと読む）

【課題】真性に近い単結晶ＧaＮ膜を有し、かつこの膜をｎ形又はｐ形に選択的にドープした半導体デバイスを提供する。
【解決手段】次の要素を有する半導体デバイス：基板であって、この基板は、（１００）シリコン、（１１１）シリコン、（０００１）サファイア、（１１−２０）サファイア、（１−１０２）サファイア、（１１１）ヒ化ガリウム、（１００）ヒ化ガリウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、および炭化シリコンからなる群から選択される物質からなる；約２００Å〜約５００Åの厚さを有する非単結晶バッファ層であって、このバッファ層は前記基板の上に成長した第一の物質を含み、この第一の物質は窒化ガリウムを含む；および前記バッファ層の上に成長した第一の成長層であって、この第一の成長層は窒化ガリウムと第一のドープ物質を含む。 （もっと読む）

【課題】 固体ポリマー電解質またはその他のイオン導電性ポリマー表面上に金属、金属酸化物または金属合金を被覆するための新規方法を提供することである。
【解決手段】 薄い金属または金属酸化物のフィルムを備えたイオン導電性の膜を製造するための方法であって、減圧下、イオン導電性膜を低エネルギーの電子ビームに賦して、その膜表面を清浄とし、この清浄とした膜を、減圧下、析出されるその金属のイオンを含有する高エネルギービームに賦して、金属フィルムを形成することを含む方法。この方法によって得られる金属化された膜構造物およびそれを内蔵する燃料電池も、また、本発明の範囲に含まれる。 （もっと読む）

【課題】 高い耐久性能が得られつつ、基板と形成膜との密着力を充分に確保することのできる反射膜の形成方法を提供する。
【解決手段】 基板上に酸化アルミニウムからなる第１のバリア層をイオンアシスト蒸着により形成する第１ステップと、該第１ステップにより形成された前記バリア層の上に金属材料からなる密着層及び反射層を順に形成する、または金属材料からなる反射層を形成する第２ステップと、該第２ステップにより形成された前記反射層の上に屈折力の異なる酸化物膜を積層してなる増反射層をイオンアシスト蒸着により形成する第３ステップと、を有する。 （もっと読む）

【課題】従来よりも高い精度でc軸が薄膜の面内の一方向に配向したウルツ鉱薄膜を製造する方法を提供する。
【解決手段】イオンビームを、少なくともその一部が基板２１の表面に対して10°以下の角度でその基板表面に入射するように照射しつつ、薄膜の原料を基板表面に堆積させる。その際、イオンビームのうち基板表面に入射しない一部のイオンビームを薄膜の原料から成るターゲット２２に入射させることによりターゲット２２をスパッタし、スパッタされた薄膜原料を基板２１の表面に堆積させることもできる。このようなイオンビーム照射により、基板表面へのイオンビームの正射影に沿ってc軸が配向したに薄膜が形成される。 （もっと読む）

【課題】大面積の基板を用いた場合でも、蒸着距離を大きくすることなく、配向の均一性を確保可能な膜の形成方法を提供する。
【解決手段】被蒸着基板上に膜を形成する方法であって、蒸着源からの蒸着種が該被蒸着基板の膜を形成する面に向かう方向が、該被蒸着基板の法線方向に対して傾斜するように被蒸着基板を保持する工程と、該被蒸着基板の膜を形成する面に面内の位置によって異なるエネルギーを与える工程と、該蒸着源から蒸発させた蒸着種を該被蒸着基板上に付着させ膜を形成する工程とを有する膜の形成方法。 （もっと読む）

【課題】無溶媒で均質なフッ素系高分子薄膜およびその製造方法を提供する。
【解決手段】 基材表面に、フッ素系モノマーと架橋剤とを真空蒸着させてなるフッ素系高分子薄膜である。フッ素系モノマーと架橋剤を同時に蒸発させ、両者あるいはその一方の蒸気に電子線あるいは紫外線を照射し、前記フッ素系モノマーと架橋剤を同時に基板表面に堆積させて形成することができる。また、フッ素系高分子薄膜はフッ素系モノマーを２個または３個のアクリル基を有する化合物で架橋結合してなることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】耐熱性、耐摩耗性、および耐溶着性に優れているとともに、高い付着強度が得られる高寿命の硬質被膜を提供する。
【解決手段】ドリル１０のボディ１６に設けられた硬質被膜２６は、工具基材２２の表面にＤＬＣ層２６が設けられるとともに、窒素含有量が３〜４０at％のＣＮ層２８が外表面を構成するように最上層に設けられ、且つ、それ等の中間的な組成のＤＬＣ／ＣＮ傾斜層２７がそのＤＬＣ層２６とＣＮ層２８との間に設けられており、全体の膜厚Ｄが０．０１〜２μｍの範囲内とされているため、ＣＮ層２８により優れた耐熱性、耐摩耗性、耐溶着性が得られる一方、ＤＬＣ層２６により高い付着強度が得られて剥離等が抑制され、優れたに耐久性が得られる。しかも、ＤＬＣ／ＣＮ傾斜層２７が介在させられているため、ＣＮ層２８が高い付着強度でＤＬＣ層２６に付着され、硬質被膜２４全体の付着強度が高くなって耐剥離性が一層向上する。 （もっと読む）