本発明は帯電防止および反射防止または反射特性を持つ光学物品に関係し、反射防止または反射コーティングが塗工された少なくとも１つの主表面を持つ基材を含み、前記コーティングが導電層の全重量に対して重量で少なくとも３０％の酸化スズ（ＳｎＯ_３）を含む少なくとも１つの導電層を含有し、前記導電層はイオン−アシスト溶着により堆積されていて、さらに前記基材が前記基材の全重量に対して重量で０．６％以上の水分吸収率を持ち、水分吸収率は前記基材を予備乾燥し次いで５０℃で相対湿度１００％および大気圧下のチャンバー内で８００時間保管後に測定されている。 （もっと読む）

【課題】 高反射光学素子の性能を改善するための適切な高／低屈折率コーティング系を提供する。
【解決手段】 選択された基体およびこの基体上の式（Ｈ_oＬ_o）ⁱＨ_oの非晶質コーティングを有してなる光学素子であって、（Ｈ_oＬ_o）ⁱは、基体上のＨ_o層およびＬ_o層からなる複数ｉのコーティング周期の積層体であり、ｉは１４〜２０の範囲にあり、Ｈ_oは非晶質ＭｇＡｌ₂Ｏ₄であり、Ｌ_oは非晶質ＳｉＯ₂であり、それによって、基体上に非晶質ＭｇＡｌ₂Ｏ₄−ＳｉＯ₂コーティングを形成し、第１の周期のＨ_o層が基体に接触しており、ｉの周期の厚さが６００ｎｍから１２００ｎｍの範囲ある。 （もっと読む）

【課題】近赤外線から遠赤外線までの広帯域における赤外線遮断機能を有し、且つ、所望の選択波長の赤外線を選択的に透過させることが可能な低コストの赤外線光学フィルタおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】Ｓｉ基板からなる基板１の一表面側に形成された各フィルタ部２１，２２は、屈折率が異なり且つ光学膜厚が等しい複数種類の薄膜２１ａ，２１ｂが積層された第１のλ／４多層膜２１と、上記複数種類の薄膜２１ａ，２１ｂが積層された第２のλ／４多層膜２２と、第１のλ／４多層膜２１と第２のλ／４多層膜２２との間に介在し上記選択波長に応じて光学膜厚を各薄膜２１ａ，２１ｂの光学膜厚とは異ならせた波長選択層２３_１，２３_２とを備え、薄膜２１ｂが第１のλ／４多層膜２１および第２のλ／４多層膜２２により設定される赤外線の反射帯域よりも長波長域の遠赤外線を吸収する遠赤外線吸収材料により形成されている。 （もっと読む）

【課題】帯電防止性および耐久性の良好な反射防止層を形成できる光学物品を提供する。
【解決手段】プラスチックレンズ基材１と、この基材１の上にハードコート層２を介して形成された透光性の反射防止層３とを有し、反射防止層３の１つの層３２の表面３３がシリサイド化されているレンズ１０を提供する。このレンズサンプルは、シート抵抗が従来のサンプルに比較し、３桁〜６桁（１０³〜１０⁶）程度小さくなり、光吸収損失の大幅な増加もなく、優れた耐薬品性および耐湿性を備えている。 （もっと読む）

【課題】近赤外線から遠赤外線までの広帯域における赤外線遮断機能を有する低コストの赤外線光学フィルタを提供する。
【解決手段】８００ｎｍ〜２００００ｎｍの波長域の赤外線を制御する赤外線光学フィルタであって、半導体基板１と、当該半導体基板１の一表面側に形成された広帯域遮断フィルタ部２と、当該半導体基板２の他表面側に形成された狭帯域透過フィルタ部３とを備えている。広帯域遮断フィルタ部２は、屈折率が異なる複数種類の薄膜２ａ，２ｂが積層された多層膜からなり、当該複数種類の薄膜２ａ，２ｂのうち１種類の薄膜２ａが遠赤外線を吸収する遠赤外線吸収材料（例えば、Ａｌ_２Ｏ_３など）により形成され、残りの１種類の薄膜２ｂが上記遠赤外線吸収材料よりも屈折率の高い高屈折率材料（例えば、Ｇｅなど）により形成されている。 （もっと読む）

【課題】高温・高湿環境でガスバリア性に対して優れた耐久性を有するガスバリア積層体を提供することを目的とする。
【解決手段】プラスチックフィルム基材の両面または片面に酸化珪素膜を積層するガスバリア積層体において、前記プラスチックフィルム基材の前記酸化珪素膜を積層する面の中心線平均粗さＲａが３〜３０ｎｍであり、高分解能ラザフォード後方散乱法（ＨＲ−ＲＢＳ法）測定によって算出される前記酸化珪素膜の密度が１．９〜２．６ｇ／ｃｍ^３の範囲内であること、酸素と珪素の比（Ｏ／Ｓｉ）が１．４〜２．０の範囲内であることにより、高温高湿環境下でガスバリア性の劣化を抑えることができるガスバリア積層体を提供することができる。 （もっと読む）

本発明は、保護層、封入層、配向層のような機能層を、低エネルギー粒子ビーム付着プロセスによって電子デバイスの表面に製作する方法、前記方法によって得ることができる機能層、および該機能層を備えている電子デバイスに関する。
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【課題】帯電防止性、反射防止性および耐薬品性に優れる透明な光学物品およびその製造方法を提供する。
【解決手段】眼鏡レンズ１００は、レンズ基材１１０と、このレンズ基材１１０の表面に設けられたハードコート層１２０と、このハードコート層１２０の上に設けられた反射防止膜１３０とを備えて構成されている。反射防止膜１３０は、可視光領域の屈折率が１．３〜１．５である低屈折率層１３１，１３３，１３５，１３８と、屈折率が１．８〜２．６０である高屈折率層１３２，１３４，１３６と、アモルファスシリコン層１３７とから構成される。 （もっと読む）

【課題】レンズ等の曲率を有する基体に、均質なフッ化物薄膜を無加熱で成膜する。
【解決手段】レンズ４を、揺動機構５によって揺動及び回転させながら、遮蔽板３の開口３ａを通して抵抗加熱蒸発源２からの蒸着粒子を被着させ、フッ化物薄膜を成膜する。遮蔽板３の開口３ａは、クラスターイオン源１から照射されるクラスターイオンが３０度以下の入射角でレンズ４に入射する領域にのみ開口する。入射角３０度以下のクラスターイオンアシストを用いた蒸着領域がレンズ４の有効面全体に及ぶように、揺動機構５によってレンズ４を揺動させる。 （もっと読む）

耐プラズマコーティング材料、耐プラズマコーティング、及びそのようなコーティングをハードウェア部品上に形成する方法。一実施形態では、ハードウェア部品は静電チャック（ＥＳＣ）であり、耐プラズマコーティングはＥＳＣの表面上に形成される。耐プラズマコーティングは、熱溶射以外の方法によって形成され、これによって有利な材料特性を有する耐プラズマコーティングを提供する。
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【課題】 より高いイオンアシスト効果を得ることができる成膜装置を提供する。
【解決手段】 成膜装置１は、真空容器１０内に回転可能に配設され、基板１４を保持するための基板ホルダ１２と、この基板ホルダ１２に保持される基板１４に対して成膜材料を供給し、これを基板１４の成膜面に堆積させる蒸着源３４と、イオンビームを基板１４の一部に対し部分的に照射可能に配置されたイオン源３８とを備える。
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【課題】 排気時間を最大限に短縮することが可能なイオンアシスト蒸着装置１を提供する。
【解決手段】 イオンアシスト蒸着装置１は、排気口２９を持つ真空容器２と、排気口２９を介して真空容器２内を真空引きする排気系４と、真空容器２内の圧力を調整する圧力調整手段２０と、圧力調整手段２０を移動させるアクチュエータ２０４と、アクチュエータ２０４を移動させるタイミングを制御するコントローラ２０６とを有する。圧力調整手段２０は、排気口２９の断面に平行な方向に沿って排気口２９の開位置と閉位置の間で移動可能に構成されている。コントローラ２０６は、排気系４による真空引きを行うに際し、圧力調整手段２０を排気口２９の開位置に移動させる指令をアクチュエータ２０４に送出するとともに、真空容器２内での成膜を行うに際し、圧力調整手段２０を排気口２９の閉位置に移動させる指令をアクチュエータ２０４に送出する。 （もっと読む）

【課題】断続重切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐欠損性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】超硬合金、サーメット、立方晶窒化ほう素基超高圧焼結体からなる基体表面に、（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ層を硬質被覆層として蒸着形成した表面被覆切削工具において、（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ層を組成式（Ｔｉ_ＸＡｌ_１−Ｘ）Ｎで表した場合、Ｘ＝０．５０〜０．７０を満足する全体平均組成を有し、同時に、下部側（工具基体側）から上部側（表面側）に向うにしたがって、Ｘが０．４から１．０まで漸次増加する傾斜組成を有し、また、該層についてＥＢＳＤによる結晶方位解析を行った場合、表面研磨面の法線方向から０〜１５度の範囲内に結晶方位＜１１１＞を有する結晶粒の面積割合が５０％以上であり、また、隣り合う結晶粒同士のなす角θを測定した場合に、０＜θ≦１５゜の割合が５０％以上である結晶配列を示す。 （もっと読む）

【課題】連続重切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐欠損性、耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】超硬合金、サーメット、立方晶窒化ほう素基超高圧焼結体からなる基体表面に、（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ層を硬質被覆層として蒸着形成した表面被覆切削工具において、（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ層を組成式（Ｔｉ_ＸＡｌ_１−Ｘ）Ｎで表した場合、Ｘ＝０．５０〜０．７０を満足する全体平均組成を有し、同時に、下部側（工具基体側）から上部側（表面側）に向うにしたがって、Ｘが１．０から０．４まで漸次減少する傾斜組成を有し、また、該層についてＥＢＳＤによる結晶方位解析を行った場合、表面研磨面の法線方向から０〜１５度の範囲内に結晶方位＜１１１＞を有する結晶粒の面積割合が５０％以上であり、また、隣り合う結晶粒同士のなす角θを測定した場合に、０＜θ≦１５゜の割合が５０％以上である結晶配列を示す。 （もっと読む）

本発明のシリコーン薄膜の製造方法は、基板を提供する段階と；前記基板上にシリコーンソースを供給する段階と；前記シリコーンソースを供給してシリコーン薄膜を形成するとともに、電子ビームとイオンビームを照射したり、シリコーンソースを供給してシリコーン薄膜を形成した後後処理として前記基板上に電子ビームとイオンビームを照射する段階とを含む。本発明によって、前記供給されたシリコーンソースによって前記基板上にシリコーン薄膜が蒸着されながら前記照射された電子ビームが前記蒸着中のシリコーン薄膜にエネルギーを供給してこのシリコーン薄膜を蒸着工程中に（ｉｎ−ｓｉｔｕ）結晶化させたり、非晶質シリコーン薄膜が形成された後後処理として電子ビームとイオンビームを照射することによって結晶化させることができる。また、電子ビームを照射するとともに、イオンビームをともに照射することによって、基板表面に蓄積される電子ビームの電荷がイオンビームの電荷によって中和されるようにして、電子ビームの電荷が基板表面に蓄積されて不必要な表面電流を形成することを防止し、效率的に非晶質シリコーン薄膜を結晶化させることができる。
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【課題】 実用に耐えうる耐摩耗性を備えた撥油性膜を持つ撥油性基材を製造することができる成膜方法を提供する。
【解決手段】 成膜方法は、基板１０１の表面にエネルギーを持つ粒子を照射する第１の照射工程と、前記第１の照射工程後の基板１０１の表面に乾式法を用いて第１の膜１０３を成膜する第１の成膜工程と、第１の膜１０３の表面に撥油性を有する第２の膜１０５を成膜する第２の成膜工程とを、有する。
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【課題】蒸着装置の導入及び保守コストの増大を防ぎながら有機ガスによって流量センサに詰まりが発生したことを確実に検知する蒸着装置を提供する。
【解決手段】タンク１６０へ供給するバブリングガスの流量を測定する第１流量センサを含んで流量を制御する第１流量制御部と、タンク１６０から蒸着室へ供給する有機ガスの流量を測定する第２流量センサを含んで流量を制御する第２流量制御部と、第１及び第２流量制御部を制御する制御部とを有し、タンク圧が目標タンク圧となるように第１流量制御部に流量の指令を行い、第１流量センサが測定したバブリングガスの流量と、第２流量センサが測定した有機ガス１８０の流量と、タンクの温度及び気相部容積からタンク内圧の変化量を理論タンク圧変化量として演算し、タンク圧の実際の変化量を実タンク圧力変化量として求め、それらの変化量の差が予め設定した許容範囲になければ、異常が発生したと判定する。 （もっと読む）

【課題】帯電防止性、反射防止性および耐久性に優れ、むくみの発生しない光学物品およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】眼鏡レンズは、レンズ基材１１０と、このレンズ基材１１０の表面に設けられたハードコート層１２０と、このハードコート層１２０の上に設けられた反射防止層１３０とを備えて構成されている。反射防止層１３０は、屈折率が１．３〜１．５である低屈折率層と、屈折率が１．８〜２．４５である高屈折率層とを順に積層したものである。この反射防止層１３０は、レンズ基材１１０側から外側に向けて順に配置された第１層１３１、第２層１３２、第３層１３３、第４層１３４、第５層１３５、第６層１３６、第７層である透明導電層１３７及び第８層１３８から構成される。 （もっと読む）

【課題】帯電防止性、反射防止性および耐久性に優れた光学物品およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】眼鏡レンズは、レンズ基材１１０と、このレンズ基材１１０の表面に設けられたハードコート層１２０と、このハードコート層１２０の上に設けられた反射防止層１３０とを備えて構成されている。反射防止層１３０は、屈折率が１．３〜１．５である低屈折率層と、屈折率が１．８〜２．４である高屈折率層とを順に積層したものである。この反射防止層１３０は、レンズ基材１１０側から外側に向けて順に配置された第１層１３１、第２層１３２、第３層１３３、第４層１３４、第５層１３５、第６層である第１透明導電層１３６、第７層１３７、第８層である第２透明導電層１３８及び第９層１３９から構成される。 （もっと読む）

【課題】膜厚分布が顕著化しやすい場合においても高精度な膜厚制御を行うことが可能な成膜装置を提供する。
【解決手段】本発明に係る真空蒸着装置１は、真空チャンバ１０１と、基板ホルダ１０３と、成膜源ホルダ１１３と、遮蔽機構１０９と、第１膜厚測定機構１０４と、補正制御部１１０と、を備えている。遮蔽機構１０９は、基板ホルダ１０３と成膜源ホルダ１１３との間に設けられており、成膜源１１４からみて基板上における成膜される領域の少なくとも一部を遮蔽し、基板ホルダ１０３の回転軌道円の接線方向における大きさを個々に変更可能な小片３０３ａ〜３０３ｌを有する。第１膜厚測定機構１０４は、複数の位置における成膜層の膜厚を測定する。補正制御部１１０は、第１膜厚測定機構１０４の測定結果に基づいて小片３０３ａ〜３０３ｌのそれぞれの大きさを個々に補正する。 （もっと読む）