【課題】 構造が簡単であり、基材に照射されるイオンビームの照射強度と極めて相関関係の高い検出器における照射強度を正確に測定でき、しかも基材に照射されるイオンビームの照射強度が略目標照射強度となるようにすること。
【解決手段】 真空チャンバ内で蒸発材料を蒸発させて基板及びモニタガラス２５に蒸着させ、基板及びモニタガラス２５にイオンビーム１０を照射して蒸発材料の薄膜を基板及びモニタガラス２５に形成するイオンアシスト蒸着装置において、モニタガラス２５に設けられイオンビーム１０の照射強度を検出する検出器２３と、検出器２３に照射されるイオンビーム１０の照射強度が略目標照射強度となるように、検出器２３が検出する照射強度に基づいてイオンガンに制御信号を出力するイオン電流密度制御部とを備えるイオンビームの照射強度測定装置６であり、その制御信号に基づいてイオンビーム１０をイオンガンが出射する。 （もっと読む）

【課題】結晶性と表面平坦性に優れ、大面積基板表面全面に渡って均一なＩｎＮ系化合物半導体薄膜を得ることができる窒化物系化合物半導体製造装置を提供することを目的とする。
【解決手段】窒化物系化合物半導体薄膜を基板１１上に成長させる分子線エピタキシー装置であって、窒素源として複数の窒素ラジカルセル１３を備えることを特徴とする窒化物系化合物半導体製造装置１０。複数の窒素ラジカルセル１３は、基板１１との間隔が変更でき、ＲＦプラズマ励起窒素ラジカルセル、又はＥＣＲプラズマ励起窒素ラジカルセル、又はその双方からなる。窒化物系化合物半導体薄膜は、ＩｎＮ単結晶半導体、ＩｎＮとＧａＮとの混晶半導体、ＩｎＮとＡｌＮとの混晶半導体、ＩｎＮとＧａＮとＡｌＮとの混晶半導体の内の何れかからなる。 （もっと読む）

【課題】 光学基板上に直接、膜厚が変化する誘電体多層膜を積層させた光波長可変フィルターを製造する。
【解決手段】 光学基板１２を保持する基板ホルダー１１１と、基板ホルダー１１１の中心を軸として回転する自転機構１０８と、基板ホルダー１１１の直下にあり、基板ホルダー１１１の中心部が全開しており、その中心から外側に向かって開口角度が狭くなる開口部を有する遮蔽部材１１２とを設けている成膜製造装置を用いる。光学基板１２を基板ホルダー１１１で保持し、自転機構１０８によって回転させた状態で、蒸着源であるルツボ１０４ａ、１０４ｂから発散して光学基板１２に到達する蒸着物質の量を遮蔽部材１１２の開口部により制限する。 （もっと読む）

【課題】 優れた光触媒性能を有するアモルファス酸化チタン薄膜の形成方法を提供することを目的とする。
【解決手段】 基板上または蒸着中の酸化チタンの蒸気流にイオンビームを照射しながら、前記基板上に酸化チタン膜を成膜することを特徴とする光触媒性能を有するアモルファス酸化チタン薄膜の形成方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】レンズ表面に真空蒸着法により膜形成するレンズへの膜形成方法及び装置であって、レンズの膜形成対象表面に、膜厚均一性に優れ、緻密性等の膜質の点でも優れた膜を密着性良好に形成することができるレンズへの膜形成方法及び装置を提供する。
【解決手段】成膜室１０内に膜形成対象レンズ６をレンズ光軸Ｌが蒸着源４０からの蒸着物質垂直上昇方向αに対し傾斜する姿勢で配置し、該レンズ６を自転駆動しつつ蒸着源４０から蒸着物質をレンズ６に蒸着させるとともにイオン又はプラズマをレンズ６に対し照射し、イオン又はプラズマの照射をレンズ光軸方向及び（又は）略レンズ光軸方向から照射する。 （もっと読む）

【課題】 電子ビーム蒸着法をはじめとする真空蒸着法を使用して基板上にＭｇＯ膜を成膜するためにターゲット材として使用する単結晶ＭｇＯ焼結体であって、得られたＭｇＯ膜の密度及び耐スパッタ性を低下させることなく、優れた膜特性、例えば、ＰＤＰ用保護膜として使用した場合の放電特性などを向上させること。また、その単結晶ＭｇＯ焼結体をターゲット材として得られたＰＤＰ用保護膜を提供することである。
【解決手段】 粒径２００μm以上の粒子を含有するとともに、Ｘ線回折法により測定した（２００）面のＸ線強度及び（１１１）面のＸ線強度を、それぞれａカウント毎秒及びｂカウント毎秒としたとき、２０＜ａ／ｂ＜３００であることを特徴とする単結晶ＭｇＯ焼結体、及び、この単結晶ＭｇＯ焼結体をターゲット材として使用し、電子ビーム蒸着法、イオン照射蒸着法、又はスパッタリング法により製造したＰＤＰ用保護膜である。 （もっと読む）

【課題】 耐擦傷性及び撥水性の耐久性により優れた光学部材及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】 プラスチック基材と、このプラスチック基材上に真空蒸着法で形成された多層反射防止膜と、この多層反射防止膜上に形成された撥水層とを有する光学部材であって、前記多層反射防止膜の最外層が、二酸化ケイ素を含有する無機物質と、有機ケイ素化合物及び／又はケイ素非含有有機化合物とを蒸着原料として真空蒸着法で形成され、かつ酸素及び／又はアルゴンイオンが照射されてなるハイブリッド層であり、前記撥水層が、フッ素置換アルキル基含有有機ケイ素化合物を含む撥水原料が電子銃による加熱処理で、前記最外層に蒸着されてなる層である光学部材である。 （もっと読む）

【課題】 優れた特性を有するチタン酸化物薄膜を基板の表面に形成することができる新規な方法を提供すること。
【解決手段】 金属チタンを基板の表面に気相蒸着させるとともに、酸素のクラスターイオンビームを加速して蒸着域に照射することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】
生産の歩留まりが高く、生産コストが低い、しかも、大面積や任意の形状のフィルタを形成することが可能な誘電体多層膜フィルタ及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】
支持体上の低屈折率材料と高屈折率材料とによる誘電体膜２を複数積層した誘電体多層膜フィルタにおいて、該支持体が、０．５ｍｍ以下の厚みを有する自己保持性かつ柔軟性を有する樹脂シート１であることを特徴とする。好ましくは、該樹脂シートが、ポリイミド樹脂又はフッ素化ポリイミド樹脂により構成されていることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 安定した成膜プロセスを実現することによって、高い効率で薄膜を形成することができる蒸着装置を提供する。
【解決手段】 基体保持手段（１３）と、基体保持手段（１３）に対向して設けられて原料蒸発物を発生させる蒸着源（２０）と、を備える蒸着装置１である。
蒸着源（２０）に対峙した基体保持手段（１３）の最大幅（ｄ）に対して、蒸着源（２０）のと基体保持手段（１３）の距離（ｈ）の比率が１未満である。 （もっと読む）

【課題】 従来の反射式と透過式膜厚監視装置の問題を同時に解決でき、且つ、効果的に膜厚監視の精度を高めることができる膜厚監視装置を提供する。
【解決手段】 クランプメカニズムの表面に固定された光学基板の上に蒸着された光学薄膜厚を監視する膜厚監視装置であって、第一径路に沿って前記光学薄膜を透過するビームを発する少なくとも一つの光源、前記クランプメカニズムに相対する前記光源のもう一つ側に設置され、前記ビームを反射し、前記ビームを前記第一径路に平行した第二径路に沿って、再度、光学薄膜に透過させる少なくとも一つの逆反射器、および前記第二径路に沿って前記光学薄膜に透過した前記ビームを受ける少なくとも一つの光受信器を含む。 （もっと読む）

本発明の目的は金属表面およびガラス質被覆を有する基板を提供することにある。この目的のため、本発明は被覆された基板、あるいは被覆された基板を備えた製品を製造する方法に関し、前記基板はガラスで被覆された少なくとも１つの金属表面を有する。この基板は少なくともその金属表面上が蒸着ガラスで被覆されている。 （もっと読む）

【課題】基材との密着性に優れ、精密金型としての寸法精度、離型性に優れた含フッ素薄膜撥が得られる。
【解決手段】 基材表面に形成され、該含フッ素薄膜は基材表面に蒸着法によって堆積できる含フッ素有機物質と、イオンビームスパッタ法によって堆積できる物質とが同時に堆積されてなり、上記含フッ素有機物質がパーフルオロ系高分子であり、該高分子は、少なくとも１個の二重結合もしくは三重結合炭素、−ＣＯＯＨ基、または、−Ｓｉ（ＯＲ）₃基（Ｒはアルキル基を表す）を分子内に含み、上記含フッ素有機物質が非晶質パーフルオロ樹脂である。 （もっと読む）

【課題】真空中で基質の両面を疎水性層で被覆するための装置は、従来から基質保持体と、疎水性層を形成するための物質を蒸発させるための蒸発器とを備えていた。しかし、従来の装置は、基質保持体の一側に唯１個の蒸発器を備えるだけであったため、基質の両面を被覆するために、基質を装置内で裏返しにする必要があり、そのために装置が複雑となり、また種々の問題を生じていた。
【解決手段】この発明は、従来付設されていた蒸発器とは別に第２の蒸発器を設けることとし、第２の蒸発器を基質保持体に対し従来の蒸発器の付設位置と反対側に配置する。 （もっと読む）