【課題】放出されるプラズマ粒子の純度を高め、不純物の混入を防止し、イオン濃度の制御性を良くした薄膜形成装置とこれを用いたＺｎＯ系薄膜を提供する。
【解決手段】中空の放電管１の外側周囲を高周波コイル２で巻き回されており、高周波コイル２の端子は、高周波電源に接続されている。また、放電管１の上部には放出孔４が、下部にはガス導入孔５が形成されている。ガス導入孔５にはガス供給管１２が接続され、ここから薄膜構成元素となる気体が供給される。放出孔４と所定の距離を隔てて阻止体３が、放出孔４を遮るように設けられている。薄膜形成時には、中空の放電管１内部からプラズマ粒子が放出されるが、気体元素以外の粒子が阻止体３に阻止され基板へ到達できない。 （もっと読む）

【課題】放出されるプラズマ原子の純度を高め、不純物の混入を防止し、イオン濃度の制御性を良くしたラジカル発生装置を提供する。
【解決手段】放電管１０の外側周囲を高周波コイル４で巻き回されており、高周波コイル４の端子は、高周波電源９に接続されている。放電管１０は、放電室１、蓋２、ガス導入用底板３で構成されている。また、支持台８が設けられており、支持台８には支柱６が配置され、支柱６にはシャッター５が接続されている。斜線が付されている構成部品、すなわち、シャッター５、蓋２、放電室１、ガス導入用底板３については、これらのすべて、又は一部について石英等のシリコン系化合物で形成されている。 （もっと読む）

本発明は、非反射性または反射性を有し、かつ、少なくとも１つの主面を有する光学製品の製造方法であって、基材の１つの主面上に１層の副層を堆積する工程と、イオンボンバードメント処理によって前記副層を処理する工程と、前記副層上に、少なくとも１層の高屈折率層および少なくとも１層の低屈折率層を含む多層スタックを堆積する工程とを含む製造方法に関する。好ましい実施形態に従って、副層の堆積は、堆積する工程中に気体が供給される真空チャンバー内で行われる。 （もっと読む）

【課題】透湿及び透酸素防止特性が優秀な保護層を具備した有機電界発光表示装置及び
その製造方法を提供する。
【解決手段】基板と、基板上に備えられた第１電極と、第１電極に絶縁されるように形
成された第２電極と、第１電極と前記第２電極との間に介在され、少なくとも発光層を含
む一つ以上の有機層と、第２電極を覆うように形成された保護層とを含み、保護層はネットワークフォーマ含有絶縁物質よりなる有機電界発光表示装置及びその製造方法。これにより、本発明の有機電界発光表示装置は優秀な寿命特性を持つ。 （もっと読む）

【課題】波長板を構成する圧電基板に開口フィルタを成膜しても反りが生じないようにすることを目的とする。
【解決手段】波長板を形成する第１の水晶基板３の一方の表面上には、位相調整膜６と波長選択膜７とからなる開口フィルタ５が成膜されている。また、第１の水晶基板３の他方の面には、第１の水晶基板３の一方の面に成膜された開口フィルタ５により生ずる圧縮応力を打ち消すために所定の材質の矯正用光学薄膜８を成膜するようにした。 （もっと読む）

【課題】特にプラスチック等の熱変形温度の低い材料で形成された基板に対して変形等を生じさせにくい薄膜形成装置及び薄膜形成方法を提供する。
【解決手段】基板Ｓに蒸着物質Ｐを蒸着させるイオンアシスト蒸着装置１であって、真空チャンバ２内に配設され基板Ｓを保持するための基板ホルダ３と、基板ホルダ３を回転させる基板ホルダ回転モータ５と、基板ホルダ３に保持された基板Ｓに蒸着物質Ｐを供給して表面に蒸着させる蒸発源６と、基板Ｓからの熱輻射により基板Ｓを冷却するための近接冷却面１３ａが形成された冷却板１３、冷媒管１２及び冷凍機１１とを備え、近接冷却面１３ａは、真空チャンバ２内の基板ホルダ３近傍であって基板Ｓとは非接触となる位置に設けられ、かつ基板Ｓや基板ホルダ３からの輻射熱を吸収可能な温度とされている。基板Ｓの全体を均一に冷却することができるため、基板Ｓが局所的に冷却されることによる変形等が生じにくい。 （もっと読む）

【課題】蛍光体層と基板とを隔離するパリレン膜を有することにより、蛍光体層による基板の腐食を防止すると共に、パリレン膜の密着性が高く、かつ、パリレン膜の形成に先立つ処理に起因する点欠陥等の画質劣化を防止できる放射線画像変換パネルを提供する。
【解決手段】基板の洗浄をケイ酸塩を含有する洗浄剤で行い、パリレン膜の密着性を向上するためのプライマとして、トリメトキシシリルプロピルメタクリレートを用いることにより、前記課題を解決する。 （もっと読む）

【課題】光学フィルターの耐久性を向上させる。
【解決手段】イオンビームアシスト蒸着法を利用して第１のイオンビーム照射条件で基板２の表面に光学多層膜３を成膜する第１工程と、第１工程完了後、イオンビームアシスト蒸着法を利用して第２のイオンビーム照射条件で基板２の裏面に光学多層膜３を成膜する工程とを有し、基板２の表面に成膜された光学多層膜３の内部応力と基板２の裏面に成膜された光学多層膜３の内部応力とが釣り合うように第１及び第２のイオンビーム照射条件を制御する。 （もっと読む）

【課題】従来のバッチ方式による場合は、連続してコーティングができず作業効率が悪く、装置も大型化していた。
【解決手段】本発明の連続コーティング方法は、ロール状に巻いたフィルムを真空室内に連続的に引出し、真空室内を通過させて真空室外へ連続的に引出し、真空室内においてそのフィルムの片面又は両面に気化されたコーティング剤を付着させる方法である。また、ロール状のフィルムを真空室と区画してその外部に設けた供給室内に収容し、真空室と区画してその外部に設けた巻取り室内で巻取り可能とした。更に供給室内及び巻取り室内を真空室内よりも高圧にしてそれら室内に真空室内からのコーティング剤の浸入を阻止するようにした。本発明の連続コーティング装置は、真空室と、フィルム供給機構と巻取り機構の一方又は双方と、コーティング剤供給装置又は気化装置とを備えたものである。また、供給室と巻取り室も設けた。 （もっと読む）

【課題】結晶ｃ軸を一定方向に配向させることができる薄膜製造方法を提供する。
【解決手段】本発明に係る薄膜製造方法は、電子ビーム蒸着法によって基板に薄膜を堆積させつつ基板１０に対してイオンビームを照射するとともに、基板１０とイオンビームの照射方向とのなす角度を略垂直とすることで、基板１０上に形成される薄膜の結晶ｃ軸を基板面内方向で一方向に配向させる。 （もっと読む）

【課題】高硬度，耐湿性，耐熱性，化学的安定性等の性質を備え、紫外線領域から赤外線領域の広い波長領域の光を透過可能な保護膜を備える光学素子を提供する。
【解決手段】光学素子は、光学素子基板１と、光学素子基板１の表面にイオンビームアシスト蒸着法により成膜された、光学素子基板１の保護膜として機能する酸化ハフニウム（ＨｆＯ_２）膜２とを備える。 （もっと読む）

【課題】 Ｉｂ族元素とＩＩＩｂ族元素とＳｅを含むＶＩｂ族元素とからなるカルコパイライト構造の半導体薄膜半導体薄膜の製造及び光電変換素子の製造に際し、ＣＩＧＳ系薄膜等の半導体薄膜の製膜過程におけるセレン原料の浪費を防止することを課題とする。
【解決手段】 Ｉｂ族元素とＩＩＩｂ族元素とＳｅを含むＶＩｂ族元素とからなるカルコパイライト構造の半導体薄膜の製造方法であって、上記半導体薄膜は製膜過程において、プラズマによってクラッキングされてラジカル化したセレンを用いたことを特徴とする半導体薄膜の製造方法。 （もっと読む）

【課題】ＴｉＯ_２膜とＳｉＯ_２膜とを交互に積層してなる光学多層膜において、透過損失を低減する。
【解決手段】ＴｉＯ_２膜とＳｉＯ_２膜とを交互に積層してなる光学多層膜において、ＴｉＯ_２膜中におけるアナターゼ構造とルチル構造のＸ線回折ピーク強度比（アナターゼ構造：ルチル構造）が７０：３０〜１００：０の範囲内であることを特徴としている。 （もっと読む）

【課題】ＴｉＯ膜とＳｉＯ_２膜とを交互に積層した光学積層膜において、光散乱が小さく、透過損失が少ない光学多層膜及びその製造方法を得る。
【解決手段】ＴｉＯ_２膜とＳｉＯ_２膜とを交互に積層してなる光学多層膜において、ＴｉＯ_２膜が非晶質であることを特徴としており、該光学多層膜は、Ａｒガスを４〜２５質量％含有するＯ_２ガス中で真空蒸着することにより、ＴｉＯ_２膜を成膜して得られる。 （もっと読む）

本発明は、その上に薄く滑らかで緻密なコーティングまたは膜を有する光学素子の調製、およびそのようなコーティングまたは膜を製造する方法に関する。被覆素子は、＜１．０ｎｍ ｒｍｓの表面粗さを有する。コーティング材料としては、酸化ハフニウムまたは酸化ハフニウムと別の酸化物材料、例えば、二酸化ケイ素との混合物が挙げられる。本発明の方法は、回転している基板上にコーティングまたは膜を堆積させるための逆マスクの使用を含む。
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【課題】クラスタービーム自体を補助的に噴射／成長させる方法で超伝導膜内にナノ粒子を形成させることにより、磁束線のピン止め力を向上させて超伝導体の臨界電流密度を増大させる、補助クラスタービームの噴射による高温超伝導膜の製造方法、製造装置、及びその方法によって製造される高温超伝導膜の提供。
【解決手段】真空チャンバー内で蒸発法によって高温超伝導膜を形成させる高温超伝導膜製造方法において、高温超伝導体材料物質を蒸発させて高温超伝導体物質を蒸気状態にして基板に蒸着させると同時に、ハウジングの内部に充填されたクラスタービーム材料物質を加熱して気体原子に形成させ、形成された気体原子をハウジングの入り口のノズルを通過させた後、クラスタービームの形で基板側に噴射／成長させることにより、高温超伝導膜の内部にピン止め点を形成させる、補助クラスタービームの噴射による高温超伝導膜製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】製造時や廃棄時における赤外線フィルタの取り扱いを容易にする。
【解決手段】赤外線フィルタ１は、赤外線を透過する基板２と、基板２表面上に交互に多層積層されたＧｅ膜及びＹＦ_３膜とを備える。これにより、多層膜構造を形成する際にＺｎＳを使用することがないので、製造時や廃棄時における赤外線フィルタの取り扱いを容易にすることができる。 （もっと読む）

本発明は、高温耐腐食性向上のためのセラミックコーティング及びイオンビームミキシング装置及びそれを使用した薄膜の界面を改質する方法に関し、本発明によって前記コーティング及びイオンビームミキシング装置を使用する工程を経た試片は、接合性が向上して母材を強化させて高温での熱応力に対する抵抗性のみならず、水素生産のための硫酸分解器に使用される素材の高温耐腐食性を大きく向上させることができる。
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【課題】光学的性質を劣化させずに長期間に渡って帯電防止効果を保つことができる光学多層膜フィルタと、該フィルタを簡便に製造する光学多層膜フィルタの製造方法、さらに、このような光学多層膜フィルタを組み込んだ電子機器装置を提供すること。
【解決手段】光学多層膜フィルタ１０は、基板１上に形成された複数層からなる無機薄膜２を有し、前記無機薄膜の最表層を構成する酸化ケイ素層の密度が１．９〜２．２ｇ／ｃｍ^３である。 （もっと読む）

【課題】湿度の高い雰囲気中におかれても、レンズ基材の局所的変形を起こさず、優れた
耐擦傷性を持つプラスチックレンズ、およびそのような特性をレンズ基材に付与する多層
反射防止層を提供すること。
【解決手段】多層反射防止層３は、高屈折率層（３Ｈ１、３Ｈ２、３Ｈ３）と低屈折率層
（３Ｌ１、３Ｌ２、３Ｌ３、３Ｌ４）とを積層してなり、高屈折率層（３Ｈ１、３Ｈ２、
３Ｈ３）が粒界を有する。プラスチックレンズ１０は、レンズ基材１の上に多層反射防止
層３を備える。 （もっと読む）