【課題】 メンテナンス時には十分なスペースを確保してメンテナンス作業を容易に行えるとともに、小スペース内に設置することを可能とするスリムな基板処理装置を提供する。
【解決手段】 粗引きポンプ１５、第１の処理室１２Ａ、第２の処理室１２Ｂ等を搭載した第１のキャビネット１０と、電源部や制御部等を搭載した第２のキャビネット２０とが電源ケーブルおよび信号ケーブルを介して連結されている。第２のキャビネット２０の空きスペースＳ内に第１のキャビネット１０を収納した収納状態に設定すると基板処理装置１をスリム化することができる。また第１のキャビネット１０と第２のキャビネット２０とを分離させた分離状態に設定すると、十分なスペースを確保することが可能となるため第１のキャビネット１０に搭載された各種機器のメンテナンス作業を容易とすることができる。 （もっと読む）

【課題】真空成膜装置の排気コンダクタンスの悪化を押さえながら排気中の水分の除去効率を高める真空成膜装置用コールドトラップ及び真空成膜装置用排気システムを提供する。
【解決手段】成膜室１０と成膜室１０の内部を排気する排気手段２との間の排気流路７ｃ内に磁界を発生させるようにして排気流路７ｃの内部に配置された１以上の永久磁石１ａと、永久磁石１ａの近傍に配置され、冷媒を流通させて排気流路７ｃを流通する排気中の水分子を冷媒配管１ｂに凝結させて除去する冷媒配管１ｂとを備えている。 （もっと読む）

【課題】 成膜室の容積を小さくして同成膜室の雰囲気を速く減圧にすることのできるコンパクトな真空成膜装置、薄膜素子の製造方法及び電子機器を提供する。
【解決手段】 各第１〜第３蒸発源室３Ａ〜３Ｃに基板搬送室２と独立させるためのゲートバルブＧＢを備えた。また、各第１〜第３蒸発源室３Ａ〜３Ｃに吸排気口１２及び吸排気口１２から配管を介して各第１〜第３蒸発源室３Ａ〜３Ｃ内の雰囲気を個別に減圧または大気圧に制御する真空ポンプに接続した。 （もっと読む）

可撓性基板（１７Ｓ）を通過させるための連続加工ユニットにおいて、前記基板を展開し、巻き取る２つの巻取りステーション（１０、１０’）と、これらの２つのステーション間の前記基板の通路に提供された少なくとも１つの加工ステーション（Ｂ）と、前記巻取りステーションおよび少なくとも１つの加工ステーションの内側に異なる圧力レベルを達成する目的で、巻取りステーション（１０、１０’）と少なくとも１つの加工ステーションとの間に提供された仕切弁（１８）とを特徴として有し、前記巻取りステーションがベース（１１）上に配置され、例えば前記基板を交換するために前記巻取りステーションを延ばすことができる連続加工ユニットを提供する。 （もっと読む）

ワークピース（４０、１２０、１４２）の表面をコーティングする装置（１０）であって、ワークピースを通る内部通路（４４、４６、４８）内に圧力勾配を形成するものであり、これにより内部通路内のコーティングが平滑さや硬度に関連する特徴などの意図する特徴を呈するものである。上記装置は協働するシステムを含んでおり、これにはプラズマ発生システム（１２）、操作可能なワークピース支持システム（３４、９０、１２２）、ワークピース内または周囲のイオン化を増加するイオン化励起システム（６６、１１６）、選択された電圧パターンをワークピースに印加するバイアスシステム（５２）および２房室システム（９６、９８）があり、２房室システムはプラズマ発生を第１の選択された圧力で起こさせかつ第２の選択された圧力で堆積を起こさせるものである。
（もっと読む）

【課題】 真空チャンバ内に設けられた各部材のうち成膜プロセスに応じて遮蔽する必要があるものを確実に遮蔽するとともに、装置のコンパクトさを損なうこともない真空成膜装置を提供することである。
【解決手段】 真空成膜装置３５の真空チャンバ１の内壁１ｂには、各機器を真空チャンバ１内に配置するためのポートが形成されている。そして、第一のポートにはスパッタリング用電極が設けられており、第二のポートにはプラズマ重合用電極が設けられている。
また、真空チャンバ１内には、アーム２７及び遮蔽板２５を有する遮蔽手段が設けられている。遮蔽板２５は、アーム２７によって中心Ｃ１の回りに回転し、真空チャンバ１の内壁に沿って移動する。
そして、プラズマ重合用電極を動作させてプラズマ重合による成膜を行う場合には、遮蔽手段により第一のポートを遮蔽する。これにより、スパッタリング用電極をプラズマ重合のプロセスで生成したプラズマ雰囲気から保護することができる。 （もっと読む）

本発明は、多重元素の薄膜発光体組成物の堆積中に蒸発する大気から望ましくない原子種をゲッタリングするための方法である。前記方法は、堆積チャンバ内の発光体膜組成物の堆積直前及び／又は堆積中に、１又は２以上のゲッター種を蒸発することを含む。前記方法は、高誘電率定数を持つ厚膜誘電体層を用いるフルカラー交流エレクトロルミネセントディスプレイに使用される発光体材料の輝度及び放出スペクトルを向上する。 （もっと読む）

この発明は、真空成膜設備を通して搬送方向に移動可能な基板に成膜するための真空成膜設備用ゲートシステム（１）であって、入力側と出力側に、それぞれ一次真空ゲートチェンバー（２）と成膜チェンバー（４）に隣接した搬送チェンバー（３）とを備えており、その場合に、搬送方向に対して入力側の搬送チェンバーの前と、搬送方向に対して出力側の搬送チェンバーの後で精密真空に設定可能であるゲートシステムに関する。一次真空ゲートチェンバー（２）が、搬送チェンバー（３）に直接隣接しており、一次真空ゲートチェンバー（２）内で精密真空に設定可能である。
（もっと読む）