【課題】本発明の目的は、高度な耐摩耗性を付与することができる被膜を備えた表面被覆切削工具を提供することにある。
【解決手段】本発明の表面被覆切削工具は、基材と該基材上に形成された被膜とを備えるものであって、該被膜は、１以上の層を含み、該層のうち少なくとも１の層は、結晶構造が正方晶型である化学式Ｖ_XＮｂ_1-XＺ_Y（ただし、Ｘ、Ｙはそれぞれ原子比を示し、Ｘは０．５≦Ｘ≦０．６５であり、Ｙは０．１≦Ｙ≦２である。また、Ｚは硼素、酸素、炭素、および窒素からなる群より選ばれる少なくとも１種の元素を示す。）で示される第１化合物を含むニオブ含有バナジウム層であることを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】高硬度焼入鋼の切削における耐摩耗性に秀れる切削工具用硬質皮膜の提供。
【解決手段】基材上に形成される切削工具用硬質皮膜であって、第一皮膜層と第二皮膜層とが交互に各２層以上積層して成る多層皮膜層を含み、前記第一皮膜層は金属成分として少なくともＡｌとＣｒとを含み非金属成分としてＮを含み不可避不純物を含む皮膜層であり、第二皮膜層は金属及び半金属成分として少なくともＴｉとＳｉとを含み非金属成分としてＮを含み不可避不純物を含む皮膜層であり、前記第一皮膜層及び前記第二皮膜層の夫々一層当りの膜厚は１ｎｍ以上２０ｎｍ以下に設定され、前記多層皮膜層を断面ＴＥＭ法で観察したとき、前記第一皮膜層と前記第二皮膜層とが混在した混在組織部が存在し、この混在組織部の面積が前記多層皮膜層の断面積の５％以上８０％以下であるもの。 （もっと読む）

【課題】
高速度切削、高送り切削、被削材の高硬度化などの厳しい切削加工条件において長寿命を実現できる切削工具用の被覆部材の提供を目的とする。
【解決手段】
基材の表面に被膜を被覆した被覆部材において、被膜の少なくとも１層はＡｌ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗの中から選ばれた少なくとも１種の金属元素Ｍと、Ｃ、Ｎ、Ｏの中から選ばれた少なくとも１種の非金属元素Ｘとからなる(立方晶の金属化合物の硬質膜であり、硬質膜の（１１１）面に関する正極点図のα軸のＸ線強度分布はα角８０〜９０度の範囲に最高強度を示す被覆部材。 （もっと読む）

【課題】金属表面に耐食性や耐磨耗性を有する硬質被膜を効率的に形成できるスパッタリングターゲットを提供する。
【解決手段】クロムを主成分とし、けい素を１〜５０原子％含有し、ジルコニウム、ハフニウム、ニオブ、タンタル、タングステンおよびモリブデンから成る群より選択される少なくとも１種の元素を０．１〜３０原子％含有する原料粉末を調製する工程と、得られた原料粉末を真空度が５×１０^−２Ｐａ以下の真空中で脱ガス処理を実施する工程と、脱ガス処理した原料粉末に２０〜３５ＭＰａの加圧力を作用せしめ温度１１００℃〜１５００℃に加熱して焼結し板状の合金ターゲット材を調製する工程とを備えることにより、相対密度が９５．０％以上であり、欠陥の最大幅が０．１ｍｍ以下であり、ビッカース硬度（Ｈｖ０．０５）が１０００以上の硬質被膜を形成するスパッタリングターゲットを製造する。 （もっと読む）

【課題】高温領域での酸化劣化を抑えながらも高耐衝撃性を発現できる表面被覆材料及びこれを利用する切削工具並びに工作機械を提供する。
【解決手段】高速度工具鋼や超硬合金からなる基材１１と、基材１１の表面に設けられてアルミニウム（Ａｌ），ジルコニウム（Ｚｒ），クロム（Ｃｒ），珪素（Ｓｉ），チタン（Ｔｉ）のうちの少なくとも一種の窒化物（Ｎ）からなる金属窒化物層１２と、金属窒化物層１２の表面に設けられてスズ（Ｓｎ）及びジルコニウム（Ｚｒ）の少なくとも一方とアルミニウム（Ａｌ）との酸化物（Ｏ）からなる金属酸化物層１３とを備えてなる表面被覆材料１０とした。 （もっと読む）

【課題】
高速度切削、高送り切削、被削材の高硬度化などの厳しい切削加工条件において長寿命を実現できる切削工具用の被覆部材の提供を目的とする。
【解決手段】
基材の表面に被膜を被覆した被覆部材において、被膜の少なくとも１層はＡｌ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗの中から選ばれた少なくとも１種の金属元素Ｍと、Ｃ、Ｎ、Ｏの中から選ばれた少なくとも１種の非金属元素Ｘとからなる立方晶の金属化合物の硬質膜であり、硬質膜の（２２０）面に関する正極点図のα軸のＸ線強度分布はα角８０〜９０度の範囲に最高強度を示す被覆部材。 （もっと読む）

【課題】高品質のMg_aZn_1-aO単結晶薄膜を確実に形成することができる単結晶薄膜の作製方法を提供する。
【解決手段】プラズマアシスト付き反応性蒸着法によって成膜する反応性蒸装置を使用し、蒸着源であるルツボ６をヒータ８により加熱し、その内部に入れた合金材料（Mg_xZn_1-x）を蒸発させ、高周波酸素プラズマ中を通して、ベルジャ１０内の上部に置かれた基板の表面に付着させて、Mg_aZn_1-aO単結晶薄膜を成膜する。 （もっと読む）

【課題】従来のアルミ酸化物ベースの酸化物皮膜よりも耐摩耗性に優れる酸化皮膜、酸化
物皮膜被覆材および酸化物皮膜の形成方法を提供する。
【解決手段】[1] （Ｚｒ_1-a-b-c Ａｌ_a Ｍｇ_b Ｙ_c ）（Ｏ_1-x Ｎ_x ）からなり、Ｚｒおよ
びＡｌとＭｇ、Ｙの１種以上とを含有する金属ターゲットを使用し、カソード放電型のア
ークイオンプレーティング法またはマグネトロンスパッタリング法によって形成された酸
化物皮膜であって下記式(1) 〜(5) を満たすことを特徴とする酸化物皮膜。
０．１≦ａ≦０．７ ------ 式(1) ０≦ｂ≦０．１５ ------- 式(2)
０≦ｃ≦０．１５ ------- 式(3) ０＜ｂ＋ｃ ------------ 式(4)
０≦ｘ≦０．５ --------- 式(5)
〔但し、上記において、ａはＡｌの原子比、ｂはＭｇの原子比、ｃはＹの原子比、１−
ａ−ｂ−ｃはＺｒの原子比を示し、ｘはＮの原子比、１−ｘはＯの原子比を示すものであ
る。〕 [2] 前記酸化物皮膜においてｘが０であるもの等。 （もっと読む）

【課題】耐摩耗性および潤滑性が高く、かつ耐欠損性に優れた切削工具を提供する。
【解決手段】基体２と、この基体２の表面を被覆する被覆層６とからなり、被覆層６が、Ｔｉ_{１−ａ−ｂ−ｃ−ｄ}Ａｌ_ａＷ_ｂＳｉ_ｃＭ_ｄ（Ｃ_１−ｘＮ_ｘ）（ただし、ＭはＮｂ、Ｍｏ、Ｔａ、ＨｆおよびＹから選ばれる少なくとも１種、０．４５≦ａ≦０．５５、０．０１≦ｂ≦０．１、０≦ｃ≦０．０５、０．０１≦ｄ≦０．１、０≦ｘ≦１）からなる第１層７と、（Ａｌ_１−ｈＭ’_ｈ）_ｖＯ_ｗ（ただし、Ｍ’はＴｉ、Ｃｒ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔａ、ＨｆおよびＹから選ばれる１種以上、０≦ｈ≦０．６５、１≦ｗ／ｖ≦２．５）からなる第２層８とからなる切削工具１である。 （もっと読む）

【課題】耐熱合金の高速断続切削加工で硬質被覆層がすぐれた潤滑性、耐チッピング性、耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】工具基体表面に、下部層として、（Ａｌ_１−ＸＴｉ_Ｘ）Ｎあるいは（Ａｌ_{１−Ｘ−Ｚ}Ｔｉ_ＸＭ_Ｚ）層（但し、０．３≦Ｘ≦０．５、０．００１≦Ｚ≦０．１、かつ、Ｍは、Ｚｒ、Ｙ、Ｖ、Ｗ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｃｒ、ＳｉまたはＢから選ばれる１種または２種以上の元素）を形成し、上部層として、（Ｃｒ_１−ａＢ_ａ）Ｎ_ｂ相（但し、０．４≦ａ≦０．７、０．１５≦ｂ≦０．５５）素地に、下部層との界面から上部層最表面へ向かうにしたがって、ＢＮ相の分散分布面積割合が次第に増加するＢＮ分散ＣｒＢＮ層を形成する。 （もっと読む）

【課題】マスクを用いた堆積を含む方法によって基材上に材料の組み合わせライブラリを構築する方法に関し、ライブラリに含まれる個々の材料の組成範囲を任意に設定できる命令セット生成方法を提供する。
【解決手段】マスクを用いた堆積を含む方法によって基材上に材料の組み合わせライブラリを構築するための命令セットの生成方法であって、（ａ）コンピューターが、材料を構成する３つの成分群の堆積速度を入力等されるステップ、（ｂ）コンピューターが、３つの成分群のそれぞれを頂点とする三角組成図３０において、ライブラリを構築する組成範囲を、三角組成図における所定形状３１の位置及び大きさとして入力されるステップ、及び（ｃ）コンピューターが、三角組成図における所定形状の位置及び大きさ等に基づいて、マスクの移動速度に関する命令セットを生成するステップ、を含む。 （もっと読む）

【課題】 切刃における耐摩耗性と切屑が衝突する部分においても被覆層が剥離しない耐剥離性を兼ね備えた切削工具を提供する。
【解決手段】 すくい面と逃げ面との交差稜線部を切刃とし、基体６の表面に被覆層７を被覆してなり、被覆層７を外表面から顕微鏡にて観察した組織が、切刃部５においては平均粒径０．５〜２μｍの粒状粒子として観察され、切刃部５から離れた中央部８では平均粒径０．１〜０．８μｍの粒状粒子として観察される切削工具１である。 （もっと読む）

本発明は、マイクロ電子工学の基板およびデバイスに、薄膜を選択的に堆積するための自己整合金属マスクアセンブリに関し、上記自己整合金属マスクアセンブリは、ａ）メタライズされるパターンを規定する穴または領域と、センタリング穴とを有する上方金属マスクと、ｂ）メタライズされる基板またはデバイスと同じサイズおよび形状の穴と、上記アセンブリをセンタリングするためのさらなる補助穴とを有する下方金属マスクと、ｃ）上記のパーツをセンタリングするために、上記補助穴と対応するロッドを備えるピースまたはベースとを備え、完全なアセンブリを固定し維持するための上方ピースまたはフレームは、ネジおよびわずかな圧力によって整合される。上記アセンブリは続いて、蒸着機のサンプルホルダに固定することができる。
（もっと読む）

【課題】基板表面に異物があった場合でも陰極と陽極とのショートを防止可能な成膜装置および有機ＥＬ装置の製造方法を提供すること。
【解決手段】成膜装置１００は、蒸着装置１１０と蒸着装置１２０とを備えた成膜装置であって、蒸着装置１１０と蒸着装置１２０とのそれぞれは、蒸着槽２０，６０と、蒸着槽２０，６０内に配置され基板３２を保持する保持部３０，７０と、蒸着槽２０，６０内に保持部３０，７０に対向して配置され膜材料を蒸発させる蒸着源４０，４２，９０と、を備え、蒸着装置１１０における保持部３０の基板保持面３０ａと蒸着源４０，４２との距離は、蒸着装置１２０における保持部７０の基板保持面７０ａと蒸着源９０との距離よりも短いことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】圧延膜において、ピンホール部が効果的に封孔された、水素透過効率が高い、ピンホールのない水素分離膜の製造方法を提供すること。
【解決手段】水素分離膜を製造する製造方法であって、第１金属を圧延して膜１を形成する膜形成工程と、前記膜１に生じたピンホール部２に有機物を主成分とする液状又は顔料を主成分とする粉末状の塗布剤３を塗布する塗布工程と、ピンホール部２に前記塗布剤３を塗布した前記膜１に、第２金属４を蒸着する蒸着工程と、を備えることを特徴とする、水素分離膜製造方法。 （もっと読む）

【課題】鋼およびステンレス鋼の機械加工性能を高めた被膜付き工具を提供する。
【解決手段】超硬合金基材と被膜とを有し、特に鋼またはステンレス鋼を湿式または乾式で機械加工するのに有用な切削工具インサートにおいて、
上記被膜が、
総厚さ０．５〜５μｍ、望ましくは１〜４μｍで、柱状粒のＴｉ_１−ｘＡｌ_ｘＮの層であって、０．２５≦ｘ≦０．７、望ましくはｘ＞０．４である第１層すなわち最内層と、
厚さ１〜５μｍ、望ましくは１．５〜４．５μｍ、最も望ましくは２〜４μｍで、柱状粒の（Ａｌ_１−ｙＣｒ_ｙ）_２Ｏ_３層であって、０．１≦ｙ≦０．６、望ましくはｙ＝０．５である層と
を含むことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】溶着性の高い被削材の高速重切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐欠損性と耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン基サーメットからなる工具基体の表面に、（ａ）下部層として、（Ａｌ_１−ＸＴｉ_Ｘ）Ｎを満足する（但し、Ｘは原子比で０．３≦Ｘ≦０．７）ＡｌとＴｉの複合窒化物層、（ｂ）中間層として、（Ａｌ_１−αＣｒ_α）Ｎまたは（Ａｌ_{１−β−γ}Ｃｒ_βＭ_γ）Ｎ（ここで、Ｍは、Ｃｒを除く周期律表４ａ，５ａ，６ａ族の元素、Ｓｉ、Ｂ、Ｙのうちから選ばれた１種又は２種以上の添加成分）を満足する（但し、α、β、γは原子比で０．２≦α≦０．６、０．１０≦β≦０．５４、０．０１≦γ≦０．２５、０．２≦β＋γ≦０．６）を満足するＡｌとＣｒ（とＭ）の複合窒化物層、（ｃ）上部層として、ＡｌとＣｒ（とＭ）の合金層を設ける。 （もっと読む）

【課題】低硬度で溶着を起こしやすい被削材の高速切削加工で、硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン基サーメットで構成された工具基体の表面に、１〜５μｍの平均層厚を有し、かつ、組成式：（Ｃｒ_1−ＸＹ_Ｘ）Ｎ（但し、原子比で、０．０１≦Ｘ≦０．１）を満足するＣｒとＹの複合窒化物層からなる硬質被覆層を形成してなる表面被覆切削工具。 （もっと読む）

【課題】重切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐欠損性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】超硬合金、サーメット、立方晶窒化ほう素基超高圧焼結体からなる切削工具基体表面に、組成式（Ａｌ_１−Ｘ Ｔｉ_Ｘ ）Ｎ（ただし、原子比で、Ｘは０．４０〜０．６０）を満足するＡｌとＴｉの複合窒化物層からなり、かつ、該層についてＥＢＳＤによる結晶方位解析を行った場合、表面研磨面の法線方向から０〜１５度の範囲内に結晶方位＜１１２＞を有する結晶粒の面積割合が５０％以上であり、また、隣り合う結晶粒同士のなす角を測定した場合に、小角粒界（０＜θ≦１５゜）の割合が５０％以上であるような結晶配列を示すＡｌとＴｉの複合窒化物層で硬質被覆層を構成する。 （もっと読む）

【課題】基材を保持するとともに、基材の平坦面の露出領域の面積を任意に変更することが可能な保持治具を提供する。
【解決手段】保持治具５０は、透明基材１０ａ下面の反射領域１０ａ以外の領域をマスクするマスク部材５３Ａ、５３Ｂを有している。このマスク部材５３Ａ、５３Ｂはフレーム５１に対して着脱可能であるため、反射膜１０ｂを形成した後にマスク部材５３Ａ、５３Ｂをフレーム５１から取り外すことで、透明基材１０ａを別の保持治具などに載せ替えることなく、接着領域１０ｃを露出させることが可能となる。これにより、作業効率を向上させるとともに、透明基材１０ａへの薄膜形成工程の工数を削減することができ、ミラー１０の製造コストを削減することが可能となる。 （もっと読む）