安定で管理された蒸着によってマグネシウムの蒸着物を形成する。マグネシウムの含有量が４３．３４質量％以下であるマグネシウム−銅組成物を用いてマグネシウム蒸着を行う。 （もっと読む）

【課題】最適の接着力とエッチング性を有する軟性金属積層板及びその製造方法を提供すること。
【解決手段】軟性金属積層板の製造に必要なポリイミドからなる高分子フィルム１０を用意する第１ステップと、ニッケル−クロム合金を前記高分子フィルムの一面にコーティングする第２ステップと、前記第２ステップで形成されたタイコート層２０の表面に金属シード層３０を形成する第３ステップと、前記金属シード層上に金属伝導層４０を形成する第４ステップと、を含み、また、軟性金属積層板は、前記高分子フィルムの一面にニッケル−クロム合金のコーティングで形成されたタイコート層と、前記タイコート層上に形成された金属シード層と、前記金属シード層の表面に形成された金属伝導層と、を含み、前記タイコート層において、ニッケル−クロム合金比を８０：２０以上、９５：５以下とする軟性金属積層板の製造方法。 （もっと読む）

本発明は、高粘着性抗菌フィルムでポリマ表面をコーティングするように適合されたイオンプラズマ蒸着（ＩＰＤ）法に関する。制御されたイオンプラズマ蒸着（ＩＰＤ）プロセスが、選択された金属／金属酸化物で金属またはポリマをコーティングするために使用される。コーティングされた表面を紫外線に露出させることが、堆積されたコーティングの抗菌特性をかなり改善する。本発明は以下の方法を提供する。該方法は、高粘着性抗菌コーティングを生成する方法であって、第１の実質的にマクロ粒子のない金属コーティングを、選択された基板に堆積させることと、該第１のコーティング上に表面層を形成するために、第２のマクロ粒子が密集した金属コーティングを堆積させることと、該表面層を１２０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲内の紫外光に露出させることとを包含する。
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【課題】本発明は、耐熱性超合金及びステンレス鋼を旋削加工するために、基材及び被膜を含んで成る切削工具インサートに関する。
【解決手段】５〜７のＣｏと、０．１５〜０．６０ｗｔ％のＴａＣと、０．１０〜０．５０ｗｔ％ＮｂＣと、残部ＷＣとを含んで成るこの基材は、１９．５〜２４．５ｋＡ／ｍの保磁力、及び０．８５〜１．００のＣＷ比を有する。この被膜は、ｘ＝０．６〜０．７である均質なＡｌ_ｘＴｉ_１−ｘＮの層、及び＞１μｍであるが＜３．８μｍの厚みとを含んで成る。 （もっと読む）

【課題】高表面積を有す製品を提供する。
【解決手段】基材と、その少なくとも１表面に存在し、最高約５０ミクロンの範囲で総厚を有し、複数の個別の隣接した層から成る多孔質皮膜であって、各個別の層を、多孔質界面を含めて多孔質とし、金属と金属酸化物から成る群から選択する少なくとも１物質から作製する多孔質皮膜と、を含む製品に関する。この製品を、金属を真空条件下で、選択的には酸化性雰囲気中で、所定の時間間隔を置いて蒸発させ、それにより所望の総厚の堆積を基材上に、複数の個別の隣接する層から成る皮膜として形成して、作製する。 （もっと読む）

【課題】鋼のフライス加工のような断続的な加工に典型的である摩耗機構に対して耐え得る切削工具インサートを提供する。
【解決手段】超硬合金基材と被膜とを含む切削インサートであって、
上記基材は、ＷＣと、８〜１１wt％Ｃｏと、０．１〜０．５wt％Ｃｒとを含み、保磁力が１８〜２２ｋＡ／ｍであり、ＣＷ比が０．７８〜０．９０であり、
上記被膜は、Ａ＋Ｂ＋Ａ＋Ｂ＋・・・という多層構造を備え、ここでＡおよびＢはそれぞれＡｌ_ｘＴｉ_１−ｙＮおよびＴｉ_ｙＡｌ_１−ｙＮで表わされる多結晶体で非反復形態であり、ｘ＝０．４〜０．７、ｙ＝０．６〜１、ｘ＜ｙであり、一組のＡ＋Ｂサブ層対の平均厚さが３０〜３００ｎｍでほぼランダムに変動しており、該多層構造被膜の全厚さが、０．５μｍ〜１５μｍであることを特徴とする切削インサート。 （もっと読む）

【課題】本発明は、耐熱性超合金及びステンレス鋼を突っ切り加工及び溝切り加工するために、基材及び被膜を含んで成る切削工具インサートに関する。
【解決手段】この基材は、５〜７のＣｏと、０．１５〜０．６０ｗｔ％のＴａＣと、０．１０〜０．５０ｗｔ％ＮｂＣと、残部ＷＣとからなる。この被膜は、ｘ＝０．６〜０．７を備えた均質なＡｌ_ｘＴｉ_１−ｘＮの層と、１〜３．８μｍの厚みとを含んで成る。 （もっと読む）

【課題】異なる蒸気圧を有する材料の複数の源から被覆を蒸着するための物理蒸着（ＰＶＤ）法と装置を提供する
【解決手段】装置（１２０）の被覆室（１２２）において、第１材料と第２材料の溶融プール（１１４、１１５）を形成すること、被覆室の中で物品（１３０）を支持すること、及びエネルギービーム（１２６）によって溶融プール（１１４、１１５）を蒸発させて物品の上に制御された合成物によって被覆（１３２）を蒸着することを必然的に伴い、この制御された合成物は、１つの第１金属と、第１金属よりも低い蒸気圧を有する比較的少量の反応性金属を含む。第１材料は少なくとも第１金属を含み、第２材料は反応性金属と少なくとも第２金属とを含む。第２金属と反応性金属は結合されて、第２材料は反応性金属の溶融温度よりも低い溶融温度を持ち、また反応性金属よりも広い溶融範囲を有するようになる。 （もっと読む）

ナノ粒子などの粒子を製造するための方法が提供される。該方法は、イオン性液体を蒸着室中へ導入する工程、および物理的蒸着により１種類もしくは複数の材料を該イオン性液体に誘導するか、または１種類もしくは複数の材料を該イオン性液体上に蒸着して、該イオン性液体中にナノ粒子を形成する工程を包含する。ナノ粒子を製造するための方法は、イオン性液体を蒸着室中へ導入する工程、該蒸着室を排気し、１および７ミクロンＨｇの範囲内の真空を形成する工程、ならびに１種または複数の材料を該イオン性液体に誘導するために該蒸着室中の１つまたは複数のカソードをスパッタリングし、該イオン性液体中にナノ粒子を形成する工程を包含する。本発明の組成物は、イオン性液体および物理的蒸着により該イオン性液体中に形成されたナノ粒子を含む。
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【課題】蒸着装置および方法において、突沸により発生した物質を捕捉するとともに、十分な膜厚を安定して確保する。
【解決手段】蒸着材料５を加熱して、蒸発した該蒸着材料を基板３に蒸着させる蒸着装置１は、蒸着材料５を収容する本体１１と、蒸着材料５より上方に配置されて蒸着材料５の突沸により発生する物質を捕捉する捕捉部材１２とを有する蒸着ボート６と、蒸着ボート６を加熱する加熱手段７とを備える。蒸着の際に、捕捉部材１２の温度が、蒸着材料５の温度以上となるように構成する。 （もっと読む）

【課題】基体の耐酸化性を改善するコーティング方法を提供する。
【解決手段】ニッケル基合金基体１０は、表面１２を有し、プラチナ層１４は、好ましくは、電気めっき技術を用いてこの表面１２に堆積される。Ｎｉ‐Ａｌ‐Ｈｆ材料の層１６は、プラチナ層の上に堆積される。酸化アルミニウムのスケール層１８は、セラミック層２０の堆積前、または堆積中に、ボンドコートに形成される。セラミックトップコート層２０は、表面１２に対して実質的に垂直かつボンドコートから外側に向いて延びている、柱状晶のミクロ構造によって特徴付けられる。 （もっと読む）

【課題】 ハンダ膜の融解時間を短縮することにより、ハンダ工程の高速化を実現し、かつ半導体素子等に対する熱影響を確実に回避するとともに、融解温度及び融解時間の安定化による膜品質及び均質性の向上に貢献する。
【解決手段】 Ａｕ−Ｓｎ合金１０を基板２０に蒸着してハンダ膜１を形成するに際し、Ａｕ−Ｓｎ合金１０を構成するＡｕを５０〜８０〔重量％〕含むとともに、ＡｕとＳｎを二つの蒸発源３１ｘ，３１ｙからそれぞれ同時に蒸発させて蒸着を行うことによりＡｕ−Ｓｎ合金１０を形成し、Ａｕ−Ｓｎ合金１０を構成するＡｕとＳｎの結晶成分として、少なくとも、Ａｕ₅Ｓｎ，ＡｕＳｎ及びＡｕＳｎ₂を含有するハンダ膜１を形成する。 （もっと読む）

【課題】 種々の金属組成の合金被膜を希土類系永久磁石などの個片の表面に簡易に蒸着形成するための方法を提供すること。
【解決手段】 本発明の真空蒸着方法は、金属Ａと金属Ｂの２種類の金属を少なくとも含む合金被膜（但し金属Ｂは金属Ａよりも高蒸気圧である）を被処理物である個片の表面に蒸着形成するための真空蒸着方法であって、真空処理室の内部の被膜原料溶融蒸発部において、坩堝内の金属Ａの固体と坩堝の直上方に所定の送り速度で案内される金属Ａと金属Ｂを含む合金ワイヤーに対して電子線を照射し、金属Ａの固体と合金ワイヤーを同時に溶融蒸発させることで、合金ワイヤーの送り速度に応じた金属組成の合金被膜を被膜原料溶融蒸発部の上方に位置する個片の表面に蒸着形成することを特徴とするものである。 （もっと読む）

【課題】ガスタービンエンジンのタービン、燃焼器、およびオーグメンタ部を含む、都合の悪い熱環境で使用される部品（１０）の表面上の環境保護コーティングとして使用するのに適切なコーティング（２４）を提供すること。
【解決手段】コーティング（２４）は、超合金材料でできた基板（２２）の上に被着されたコーティングシステム（２０）内で使用される。コーティング（２４）は、超合金基板（２２）の表面に接触し、超合金材料の５０％より大きい引張強度を有するコーティング材料でできている。コーティング材料は主に、白金、ロジウム、パラジウム、およびイリジウムからなる群から選択された少なくとも１つの金属であり、コーティング（２４）を上に被着させる部品（１０）の強度にかなり貢献するのに十分な強度を有する。 （もっと読む）

【課題】 本発明の目的は、Ａｇ層の密着性を高めることができ、またＡｌ_２Ｏ_３層とＴｉＯ_２層間の白濁も防止でき、耐環境特性に優れた銀ミラーを提供することにある。
【解決手段】 本発明の銀ミラーは、基板１と、この基板１上に設けられた下部バッファ層２と、この下部バッファ層２上に設けられたＮｉ−Ｃｒ合金層からなる金属層３と、この金属層３上に設けられたＡｇ層４と、このＡｇ層４上に形成されたＡｌ_２Ｏ_３層５ａとＳｉＯ_２層５ｂとからなる上部バッファ層５と、この上部バッファ層５のＳｉＯ_２層５ｂ上に設けられたＴｉＯ_２層からなる増反射層６と、を有することを特徴とする。
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【課題】軟質難削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する被覆切削工具を提供する。
【解決手段】被覆切削工具が、超硬基体の表面に、（ａ）Ｃｒ硼化物層の表面層、（ｂ）組成式：（Ｔｉ_1-X Ａｌ_X ）Ｎ（ただし、原子比で、Ｘは０．４０〜０．７５を示す）、を満足するＴｉとＡｌの複合窒化物層の耐摩耗硬質層、からなる硬質被覆層を形成してなり、さらに、前記表面層の少なくとも切刃稜線部を含むすくい面部分および逃げ面部分の表面粗さを、前記表面層全面に、Ｃｒ窒化物層で構成された研磨材層を蒸着形成した状態で、ウエットブラストにて、噴射研磨材として、酸化アルミニウム微粒を配合した研磨液を噴射し、前記の研磨材層のウエットブラストによる粉砕化Ｃｒ窒化物微粒と、噴射研磨材としての酸化アルミニウム微粒の共存下で研磨して、Ｒａ：０．２μｍ以下としてなる。 （もっと読む）

【課題】改質アルミナイド層が形成される基体の被覆のための、従来と異なる方法を提示し、そのような層を有する加工物を使用可能にすること。
【解決手段】基体を被覆するための方法が提示され、ＰｔＭＡｌの種類の白金により改質されたアルミナイドの層が基体に形成され、ここで、Ｍは鉄Ｆｅ又はニッケルＮｉ又はコバルトＣｏなどの金属、又はこれらの金属の組み合わせを示し、層が気相による物理的な堆積ＰＶＤによって形成され、アルミニウムＡｌ及び金属Ｍの少なくとも２つの成分が気相により物理的に堆積され、堆積が少なくとも０．１ｍｂａｒ、好ましくは少なくとも０．４ｍｂａｒ、特に０．４ｍｂａｒと０．６ｍｂａｒの間のプロセス圧力で実行される。この種類の方法を用いて形成された層を付着した基体を備える加工物、特にタービン翼がさらに提示される。 （もっと読む）

【課題】磁気データ記録層の結晶化度と磁気結晶異方性を高めることにより、垂直磁気記録媒体に要求される熱安定性と雑音特性を達成することを目的とする。
【解決手段】磁気記録媒体のシード層を、タンタル(Ｔａ)と、体心立方のタンタル(Ｔａ)相に対する溶解度が室温で１０原子パーセント以下であり且つ１．５×１０^-7ｍ³/ｋｇ以下の質量磁化率を有する合金化元素とからなるスパッタターゲットで基板上に形成する。合金化元素は、ホウ素(Ｂ)、炭素(Ｃ)、アルミニウム(Ａｌ)、ケイ素(Ｓｉ)、チタン(Ｔｉ)、バナジウム(Ｖ)、マンガン(Ｍｎ)、クロム(Ｃｒ)、ジルコニウム(Ｚｒ)、ニオブ(Ｎｂ)、モリブデン(Ｍｏ)、イッテルビウム(Ｙｂ)、ルテチウム(Ｌｕ)、ハフニウム(Ｈｆ)、ビスマス(Ｂｉ)及びタングステン(Ｗ)から選択される。同磁気記録媒体の製造方法と使用するスパッタターゲットとの構成を特定構成とした。 （もっと読む）

【課題】熱による微量の遊離ハロゲンとの反応による反射率の低下を抑制し且つ耐熱性を改善しつつ、高い反射率および低い電気抵抗を有し、しかも熱や湿度に対しても高い安定性を有する反射膜、配線用または電極用薄膜及び半反射型半透過膜、ならびにかかる膜の製造に有用なスパッタリングターゲット材および蒸着材料を提供すること。
【解決手段】Ａｇに、特定少量のＣｕとＴｅ、Ｓｅ、Ｐの少なくとも１種とＭｎを添加し、さらに必要に応じてＩｎ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄ、ＲｕおよびＩｒの少なくとも１種および／またはＮｉ、Ｆｅ、ＢｉおよびＣｒの少なくとも１種を少量追加添加してなるＡｇ基合金から構成された、スパッタリングターゲット材または蒸着材料ならびに反射膜、配線用膜、電極用膜または半反射型半透過膜。 （もっと読む）

【課題】高反応性被削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】表面被覆切削工具が、超硬基体の表面に、あるいは、高速度工具鋼基体の表面に、（ａ）いずれも（Ｃｒ，Ａｌ，Ｔａ）Ｎからなる上部層と下部層で構成し、前記上部層は０．５〜１．５μｍ、前記下部層は２〜６μｍの平均層厚をそれぞれ有し、（ｂ）上記上部層は、いずれも一層平均層厚がそれぞれ５〜２０ｎｍ（ナノメ−タ−）の薄層Ａと薄層Ｂの交互積層構造を有し、上記薄層Ａ及び上記薄層Ｂは、特定な組成式を満足する（Ｃｒ，Ａｌ，Ｔａ）Ｎ層、からなり、（ｃ）上記下部層は、単一相構造を有し、組成式：［Ｃｒ_{1-（Ｘ＋Ｙ）}Ａｌ_ＸＴａ_Ｙ］Ｎ（ただし、原子比で、Ｘは０．５０〜０．６５、Ｙは０．０１〜０．１０を示す）を満足する（Ｃｒ，Ａｌ，Ｔａ）Ｎ層、からなる硬質被覆層を蒸着形成してなる。 （もっと読む）