【目的】樹脂加工板や樹脂加工ケースの静電破壊対策として有効な非導通金属光沢メッキ及び非導通金属光沢メッキ形成方法を提供する。
【構成】非導通金属光沢メッキは、成膜対象の基板表面に塗布乾燥して形成された第一の樹脂塗膜層と、真空中でスズ又はスズとインジウムを含む合金を加熱して前記基板上の前記第一の樹脂塗膜層の上に真空蒸着してなる極薄膜の金属光沢を有する非導通金属蒸着膜と、前記非導通金属蒸着膜の上に塗布乾燥して形成された第二の樹脂塗膜層と、を有する構成であり、前記非導通金属蒸着膜は前記第一の樹脂塗膜層の上に前記スズ又はスズとインジウムの合金のグレインが金属膜として連続してつながる前に成膜が止められているので金属光沢を有しながらも非導通となって静電気が表面を通電せず、且つ電磁シールド作用を有しない特徴を有する。 （もっと読む）

【課題】 高品位の結晶性を有し、優れた光・電気特性を示すβ−FeSi₂を高効率で得ることができ、しかも広範囲な基板への集積が可能な低温での合成が簡便に行える、工業的に有利なβ−FeSi₂の製造方法を提供する。
【解決手段】 レーザーアニーリングによりβ−FeSi₂種結晶を有する薄膜からβ−FeSi₂を製造する方法において、該レーザーアニーリングを、β−FeSi₂種結晶を有する薄膜表面の少なくとも一部が液相状態となる条件下で行う。好ましくは、レーザーアニーリングに用いる照射レーザーフルエンスを０．３J/cm²〜１．５J/cm²、パルスレーザー光の照射回数が１〜１００ショットとする。 （もっと読む）

切削工具のための、工作物の耐摩耗性を改善するための多層構造を備える多層硬物質被覆に、ＸがＮ、Ｃ、Ｂ、ＣＮ、ＢＮ、ＣＢＮ、ＮＯ、ＣＯ、ＢＯ、ＣＮＯ、ＢＮＯ、ＣＢＮＯのいずれか一種の元素、望ましくはＮまたはＣＮである、少なくとも一つの（Ａｌ_ｙＣｒ_１−ｙ）Ｘ層（０．２≦ｙ≦０．７）、及び／または、一つの（Ｔｉ_ｚＳｉ_１−ｚ）Ｘ層（０．０１≦Ｚ≦０．３）が含まれている。該硬物質被覆はさらに、一つの（ＡｌＣｒＴｉＳｉ）Ｘ混合層、その次にさらに一つの（Ｔｉ_ＺＳｉ_１−Ｚ）Ｘ層、その次にさらに一つの（ＡｌＣｒＴｉＳｉ）Ｘ混合層、その次にさらに一つの（Ａｌ_ｙＣｒ_１−ｙ）Ｘ層からなる、少なくとも一つの層パッケージを備えている。
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【課題】 連続的に蒸着トレーにアルカリ金属やアルカリ土類金属を供給でき、取扱いが
容易な蒸着材と蒸着材の使用方法、製造方法を提供する。
【解決手段】 酸化が激しく取扱い難いアルカリ金属やアルカリ土類金属を、芯材として
金属外装材で覆うことで取扱いが容易になる。蒸着機内で外装材から芯材を蒸着トレーに
押し出して供給することで、抵抗加熱や電子ビーム加熱も可能となる。芯材を連続的に供
給することで長時間の蒸着作業が可能となる。 （もっと読む）

本発明は、機能膜（３２）として加工物（３０）上でアーク−ＰＶＤ法によって析出される硬質材料膜において、この膜が本質的に、周期系の亜族ＩＶ、Ｖ、ＶＩの遷移金属およびＡｌ、Ｓｉ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｏ、Ｙの金属（Ｍｅ）の少なくとも１つからなる電気的に絶縁する酸化物として形成され、かつ前記機能膜（３２）が希ガスおよびハロゲンを含有しない硬質材料膜に関する。
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【課題】 長期間にわたって優れた硬度および美的外観を保持することができる装飾品を提供すること、前記装飾品を提供することができる製造方法を提供すること、また、前記装飾品を備えた時計を提供すること。
【解決手段】 本発明の装飾品１Ａの製造方法は、基材２上に、主としてＴｉＮで構成された第１の被膜３を形成する第１の被膜形成工程と、第１の被膜３上に、乾式めっき法により、８．０〜１２ｗｔ％のＰｔと、６．０〜８．０ｗｔ％のＰｄと、２．０〜４．０ｗｔ％のＣｕと、１．５〜２．５ｗｔ％のＡｇと、１．０〜３．０ｗｔ％のＭ（ただし、Ｍは、ＺｎおよびＩｎよりなる群から選択される少なくとも１種）とを含むＡｕ−Ｐｔ−Ｐｄ−Ｃｕ−Ａｇ−Ｍ系合金で構成された第２の被膜４を形成する第２の被膜形成工程とを有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 従来よりも低コストでＡｌ−Ｓｎ合金被膜を形成する。
【解決手段】 蒸発源１６を構成する銅製の坩堝１８内には、ＢＮ製のハースライナ２０が収容されており、このハースライナ２０の中に、Ａｌ−Ｓｎ合金被膜の材料となる蒸発材料２２が充填されている。つまり、蒸発材料２２と坩堝１８との間に、低熱伝導率のハースライナ２０が介在している状態にある。従って、蒸発材料２２の熱が坩堝１８に伝わり難くなり、これによって当該蒸発材料２２を十分に加熱し、蒸発させることができる。その結果、従来よりも高い成膜速度を得ることができ、ひいては成膜コストを低減することができる。 （もっと読む）

【課題】 低い温度で成膜が可能なので、高温の熱源を必要とせず、形成される薄膜の機械的、電気的特性を向上させることができる薄膜形成方法及び有機電界発光素子の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明による薄膜形成方法は、蒸着物質と添加物質とを混合した成膜物質を蒸着させて薄膜を形成する段階を含み、前記添加物質は、前記蒸着物質と共融点を有する物質を使用する。これにより、従来、蒸着物質だけを使用して成膜する場合より、さらに低い温度で成膜が可能である。 （もっと読む）

本発明は、低合金鋼およびステンレス鋼に短穴をドリル加工する、靭性を要する使用に適した被膜付き切削工具インサートおよびその製造方法に関する。このインサートは基材と被膜とを含む。基材は、ＷＣと、８〜１１wt％のＣｏと、０．２〜０．５wt％のＣｒとから成り、ＷＣの平均粒径が０．５〜１．５μｍ、ＣＷ比が０．８０〜０．９０である。被膜は、多結晶であって形態が非反復性であるＴｉＮ＋Ｔｉ_１−ｘＡｌ_ｘＮ＋ＴｉＮ＋Ｔｉ_１−ｘＡｌ_ｘＮの多層構造を有し、ｘ＝０．４〜０．６であり、個々のＴｉＮ層およびＴｉ_１−ｘＡｌ_ｘＮ層の厚さが１〜３０ｎｍでほぼランダムに変動しており、該多層被膜の全厚が１〜５μｍある。個々の層はアーク蒸着法を用いて被着する。 （もっと読む）

【課題】 高温においても劣化し難く所望の耐摩耗性を維持、発揮し得る耐摩耗性膜で被覆された耐摩耗性膜被覆物品を提供する。
【解決手段】窒素、酸素、炭素及びホウ素のうち少なくとも窒素及び酸素を含むクロムアルミニゥムの化合物の層を最上層として含む耐摩耗性膜Ｆで被覆されており、該耐摩耗性膜Ｆの室温でのマイクロビッカース硬度が２０００以上である耐摩耗性膜被覆物品（例えばエンドミルＥＭ）。 （もっと読む）

【課題】 有機発光素子用の被処理基板上に有機層を蒸着において、部分的な材料劣化や、歩留まり低下、コスト上昇起こすことなく大面積蒸着が可能とする。
【解決手段】 有機発光素子用の被処理基板上に有機層を蒸着させる装置であって、真空チャンバー１０と、該真空チャンバー内に設けられた、該被処理基板を支持するための基板支持部材と、該真空チャンバー内に該被処理基板と対向するように設けられた、気化すべき有機材料を配するための少なくとも１つの蒸着源１２と、該蒸着源に隣接または近接して設けられた、各々独立に温度制御可能な複数の温度制御手段１３であって、該温度制御手段の各々の温度制御により、該蒸着源の該被処理基板に対向する面における複数の領域を、各々独立に温度制御可能とする温度制御手段とを備えてなる装置、ならびに有機発光素子用の被処理基板上に有機層を蒸着させる方法が提供される。 （もっと読む）

チタン−銅−ニッケルベースの合金の使用を提供する。前記チタン−銅−ニッケルベースの合金は、高分子基板上に少なくとも１つの抵抗薄膜を形成することに使用される。前記合金は、５０から８０重量％のチタンと、１０から２５重量％の銅と、１０から２５重量％のニッケルと、を含み、前記薄膜の厚さは、約１００から１６０ナノメートルである。前記合金は、有利には、６９重量％のチタンと、１５．５重量％の銅と、１５．５重量％のニッケルとを含む。 （もっと読む）

【課題】 基板と画素パターンを蒸着するためのマスクと、基板とマスクの位置合わせをするためのアライメント機構を備えたマスクホルダと蒸着源とを用いて、有機エレクトロルミネッセンス素子を作製する真空蒸着方法において、複数個の基板面内上での膜厚分布均一性を高める。
【解決手段】 基板とマスクとマスクホルダからなる構造体を、蒸着源の上部に同心円状に複数個配置して、かつ、基板とマスクとマスクホルダからなる構造体を、蒸着源の中心部から外側に向けて傾きを持たせた状態で蒸着を行う。 （もっと読む）

アーク放電が作用する表面を有するターゲットからなり、前記ターゲットは磁界発生装置の作用範囲内に配置され、前記磁界発生装置は反対極性を有する少なくとも２つのマグネットシステムからなると共に、発生する当該磁界の前記表面に対する垂直成分Ｂ_^が前記表面の大部分にわたって基本的にコンスタントに小さな値を有するかまたはゼロとなるように形成されている真空アークソースならびにその作用方法が開示される。
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【課題】蒸着膜の膜厚を均一化することができる蒸着装置および蒸着方法を提供する。
【解決手段】蒸着装置３０は、前面基板２を収納する蒸着室３１と、蒸着室内を真空排気する真空排気装置３２と、を備えている。蒸着室３１内には、前面基板２の被蒸着面２ａと対向したるつぼ３７と、前面基板およびるつぼの間に位置し、複数のスリット４１を構成した複数の棒４０が配置されている。 （もっと読む）

【課題】 メンテナンス時には十分なスペースを確保してメンテナンス作業を容易に行えるとともに、小スペース内に設置することを可能とするスリムな基板処理装置を提供する。
【解決手段】 粗引きポンプ１５、第１の処理室１２Ａ、第２の処理室１２Ｂ等を搭載した第１のキャビネット１０と、電源部や制御部等を搭載した第２のキャビネット２０とが電源ケーブルおよび信号ケーブルを介して連結されている。第２のキャビネット２０の空きスペースＳ内に第１のキャビネット１０を収納した収納状態に設定すると基板処理装置１をスリム化することができる。また第１のキャビネット１０と第２のキャビネット２０とを分離させた分離状態に設定すると、十分なスペースを確保することが可能となるため第１のキャビネット１０に搭載された各種機器のメンテナンス作業を容易とすることができる。 （もっと読む）

本発明は、金属物品に適用するための、溶解されたＺを含むＮｄ_ｘＺｒ_１−ｘＯ_ｙの式を有するセラミックコーティングによる遮熱セラミックコーティングを提供し、ここで０＜ｘ＜０．５及び１．７５＜ｙ＜２であり、そしてここにおいて、Ｚは、Ｙ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｈｆ及びこれらの混合物からなる群から選択される金属の酸化物である。一つの態様において、Ｎｄが７モル％の濃度まで加えられる。もう一つの態様において、Ｚは、イットリウムであり、そして少なくとも６重量％の濃度で加えられる。 （もっと読む）

組成Ａｌ_xＳｉ_yＭｅ_zＮの窒化アルミニウムベースの硬い耐摩耗性コーティングが提案される。ｘ、ｙおよびｚは原子分率を表し、その和は０．９５から１．０５であり、Ｍｅは、ＩＩＩからＶＩＩＩ族およびＩｂ族の遷移金属の金属ドーパントまたはこれらの組合せである。この金属は、コーティングプロセス中に、金属ドーピングのないコーティングよりも高い固有導電率（intrinsic electrical conductivity）を提供する。ケイ素含量は０．０１≦ｙ≦０．４であり、１つまたは複数の金属ドーパントＭｅの含量は、０．００１≦ｚ≦０．０８、好ましくは０．０１≦ｚ≦０．０５、最も好ましくは０．０１５≦ｚ≦０．０４５である。
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本発明は、高温時の腐食及び酸化から構造部材を保護する保護層に関する。この保護層は、重量％にて０．５〜２％のレニウム、２４〜２６％のコバルト、１５〜２１％のクロム、９〜１１．５％のアルミニウム、０．０５〜０．７％のイットリウム及び／又はスカンジウムと希土類の元素とを含む群からの少なくとも１つの等価金属、０〜１％のルテニウム、残りニッケル並びに製造に由来する不純物からなる。本発明による保護層は、クロム−レニウム析出物により殆ど脆弱化を示すことはない。従って本発明は、腐食及び酸化時に耐高温性に優れ、十分に長期安定性であり、更に高温時のガスタービン内に予想される機械的応力に格別良好に適合する保護及びその製造方法を提供する。
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顕著に向上した有効寿命及び耐食性を有する金属蒸発用の耐火性容器であって、耐火性ホウ化物、窒化ホウ素、及び酸化物、窒化物、炭化物又はこれらの混合物の１種から選択される希土類金属化合物約０．１０〜１０ｗｔ％から実質的になる耐火性容器。 （もっと読む）