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Fターム[4K029DB11]の内容

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【課題】気化材料がるつぼ内を移動して、るつぼの各部分を溶かすことや、そのため温度安定性が不十分となることを防止できる金属気化用るつぼを提供する。
【解決手段】気化るつぼは、囲いを形成するための壁を有する電気伝導性で管軸を具備したチャンバ管120と、第1電気接続部162、182と、第2電気接続部と、少なくとも1個の供給開口134と、上記チャンバ管の少なくとも1個のディストリビュータ口170とを備えており、上記囲いは溶解/気化範囲を含んでいる。 (もっと読む)


【課題】有機発光素子の製造装置において、長時間の蒸着においても膜厚の均一性を失うことなく高い材料利用効率を実現する。
【解決手段】電極を有する基板1上に有機化合物層を備えた有機発光素子を製造する蒸着装置において、蒸着源20と基板1の間に配置した膜厚補正板23を蒸着源20とともに基板1に対してX方向に相対的に移動させる。膜厚補正板23の開口23aが、X方向と直交するY方向に沿って開口幅が変化する太鼓形状を有することで、開口端部における蒸着材料の斜入射成分の蒸着時間を増大させて膜厚を均一化する。また、膜厚補正板23の開口23aの周縁に傾斜面23bを備えることにより、蒸発物が開口23aの周縁に付着することによる開口寸法の変化を抑制する。これにより安定して所定の膜厚分布を得ることが可能となる。 (もっと読む)


【課題】蒸気流の放出の開始時および終了時の切り換えを短時間に行なうことができ、かつ、蒸着材料の無駄な消費を抑えることができる蒸着用蒸気流放出装置、および蒸着装置を提供すること。
【解決手段】蒸着用蒸気放出装置12Aにおいて、加熱容器41は、容器本体42と蓋部材43とから構成され、蓋部材43の上底部43bの一部には蒸気出口43aが形成されているが、成膜停止時、蒸気出口43aは閉塞部材45によって塞がれた閉状態にある。この状態から、閉塞部材45を回転させると、閉塞部材45の蒸気入口45dが蒸気出口43aと重なり、蒸気出口43aは、蒸気入口45dおよび閉塞部材45の内部空間45rを介して連通する開状態になり、蒸気流放出口45eから蒸気流が放出される。 (もっと読む)


【課題】被蒸着体への蒸着速度の制御を正確に行なうことができる真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】真空チャンバー1内に蒸発源2と被蒸着体3とを配置すると共に蒸発源2と被蒸着体3の間の空間を蒸発源2の物質が気化される温度で加熱された筒状体4で囲み、蒸発源2と被蒸着体3を相対的に移動させた状態で、蒸発源2から気化した物質9を筒状体4内を通して被蒸着体3の表面に到達させて蒸着させるようにした真空蒸着装置に関する。筒状体4の被蒸着体3と対向する開口部5に設けられ、開口部5の内側へ向けて折れ込み可能な折れ込み体12と、蒸発源2から気化した物質9を蒸着させてその蒸着厚みを計測する蒸着厚み計測手段7と、蒸着厚み計測手段7で計測される蒸着厚みに応じて折れ込み体12の折れ込みの程度を制御する折れ込み制御手段13とを備える。 (もっと読む)


【課題】成膜の均一性が高く、歩留まりも高い真空蒸着装置及び方法を提供する。
【解決手段】蒸着物質を収容する坩堝2と、坩堝中の蒸着物質を加熱する第1の加熱機構4と、一端6aが坩堝の開口2aに接続されて坩堝から生じた蒸着物質のガスを通過させる導管6と、ガスを放出するノズル8を有する筒状の拡散室10とを備え、拡散室が中心軸を中心に回転するよう、拡散室の一端10aが導管の他端6bに回転可能に支持され、ノズルは拡散室の軸方向に沿って突出し、その先端が長尺スリット状に開口し、導管、拡散室、及びノズルの外側に蒸着物質の付着防止のための第2の加熱機構14、16、18をそれぞれ有する。 (もっと読む)


【課題】従来の蒸着装置では、蒸着中に蒸発材料の液面高さが変化し、その影響で基板に成膜される膜厚の均一性が悪化するという問題があった。
【解決手段】蒸発材料を蒸発させるための加熱源として蒸着装置に設けられる蒸発源38の構成として、高周波誘導加熱に用いられる加熱用容器39と、高周波誘導加熱を行なう誘導コイル40と、成膜用の蒸発材料41を含浸させた状態で加熱用容器39に収容される多孔質体45とを備える。 (もっと読む)


【課題】ポートの数を増やすことなく,還元性ガスを分子線結晶成長装置の成長室内に導入することを可能にする分子線源を提供する。
【解決手段】本発明の分子線源は,結晶成長のための分子線を放出する分子線放出部と,前記分子線放出部に結合され,前記分子線を加熱して分解するクラッキングゾーンとを備え,前記分子線放出部と前記クラッキングゾーンの間に還元性ガスを導入するための還元性ガス導入部を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】蒸気発生部で発生させた成膜材料の蒸気を温度低下させること無く蒸着ヘッドに送ることができる蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸着により被処理体Gを成膜処理する蒸着装置13であって、被処理体Gを成膜処理する処理室30と、成膜材料を蒸発させる蒸気発生室31とを隣接させて配置し、処理室30の内部と蒸気発生室31の内部を減圧させる排気機構36,41を設け、処理室30に、成膜材料の蒸気を噴出させる蒸気噴出口80を配置し、蒸気発生室31に、成膜材料を蒸発させる蒸気発生部70〜72と、成膜材料の蒸気の供給を制御する制御弁75〜77とを配置し、蒸気発生部31で発生させた成膜材料の蒸気を、処理室30と蒸気発生室31の外部に出さずに、蒸気噴出口80に供給させる流路81〜83、85を設けた。 (もっと読む)


【課題】排気効率のよい蒸着装置を提供する。
【解決手段】蒸着装置10は、第1の処理容器100と第2の処理容器200とを有している。第1の処理容器100に内蔵された吹き出し器110と第2の処理容器200に内蔵された蒸着源210とは、連結管220を介して互いに連結される。第1の処理容器100には、その内部を所望の真空度にまで排気する排気機構(図示せず)が接続されている。蒸着源210により気化された有機分子は、連結管220を介して吹き出し器110から吹き出される。吹き出された有機分子は、基板G上に吸着し、これにより基板G上に薄膜が形成される。第2の処理容器200と第1の処理容器100とを別体にて設けることにより、成膜材料補充時、第1の処理容器100内を大気に開放することがないため、排気効率を上げることができる。 (もっと読む)


【課題】基板上に配向膜を形成する際に、異物の発生を抑制し、配向膜を良好に形成できる成膜装置を提供する。
【解決手段】成膜装置は、基板を収容可能であり、収容した基板上に配向膜を形成可能な第1室と、第1室に配置され、基板上に配向膜を形成するための材料を供給可能な材料供給部と、第1室に配置され、材料供給部と基板との間に所定部材が配置されるように所定部材を着脱可能に保持する保持装置と、第1室と別の位置に配置され、所定部材をクリーニング可能なクリーニングシステムと、第1室の保持装置とクリーニングシステムとの間で所定部材を搬送する搬送システムとを備えている。 (もっと読む)


【課題】垂直に案内される基板を被覆するためのものであって、自動で連続してるつぼに材料を供給するコンパクトなベーパライザ装置を提供する。
【解決手段】本装置は、キャリアプレート3の一の側部に着脱自在に広げられるワイヤ供給ハウジング2と、るつぼ40の上方に配置され、前記キャリヤプレート3の他の側部に着脱自在に広げられるリニアベーパライザ1とを有する。このベーパライザ装置の全部品は、キャリア・プレートだけに取り付けられているので、クリーンルーム内で迅速な取り付け又は取り外しが、粒子を生成することなく可能である。それに加えて、螺旋状加熱素子は、保護管に囲まれているので、蒸発される材料と接触することはない。 (もっと読む)


【課題】蒸着原料を無駄無く使うことができると共に、蒸発量の制御を容易に行うことができる蒸着装置及び蒸着方法を提供すること。
【解決手段】本発明の蒸着装置1は、減圧可能に構成されたチャンバー2と、チャンバー2内に被蒸着体Kを保持するホルダ3と、蒸着原料Mを加熱蒸発させる加熱手段41と、蒸着原料Mを加熱手段41に供給する原料供給手段7とを備え、蒸着原料Mを減圧下で加熱蒸発させ、蒸着原料Mによる蒸着膜を被蒸着体Kの被蒸着面K1に形成する蒸着装置1において、原料供給手段7は、蒸着原料Mを1マイクロリットル以下の体積で加熱手段41に供給するように構成されたことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】有機エレクトロルミネッセンス素子の生産性を向上させることのできる真空蒸着装置を実現する。
【解決手段】有機エレクトロルミネッセンス材料1を蒸発させるための蒸着源10に接続パイプ21を接続し、2つの分岐パイプ22a、22bを基板31a、31bとマスク32a、32bからなる2つの被成膜物に向けてそれぞれ有機蒸着膜形成を行う。異なる平面上の複数の被成膜物に蒸着源10からの蒸気を同時に放出し、成膜することで、成膜時間の短縮および装置の小型化を促進する。 (もっと読む)


【課題】 有機化合物を安定して保存できると共に、真空蒸着時に突沸現象の発生を抑えることができ、安定して薄膜を形成することができる真空蒸着用原料ユニット、真空蒸着用蒸発源および真空蒸着装置を提供する。
【解決手段】薄膜原料を蒸発させて基材表面に薄膜を形成する真空蒸着装置または真空蒸着方法に用いられる薄膜原料が収納された略円筒アンプル形状の真空蒸着用原料ユニットであって、上記薄膜原料と共に、該薄膜原料が蒸発するときの突沸を抑制する突沸抑制部材が収納され、不活性ガスまたは乾燥空気と共に密閉封止されている。 (もっと読む)


【課題】蒸発源の材料の減少に伴って蒸発流の密度分布の勾配が大きくなっても、均一な膜厚を形成できる。
【解決手段】真空蒸着室11内で、蒸発源1の材料を加熱して気化し、蒸発源1の上方に配置された基板3の被蒸着面3aに蒸着する時に、蒸発源1から放出された蒸発流の密度分布を複数の水晶振動子15A〜15Cを介して膜厚センサ15で検出し、膜厚制御装置21により、前記密度分布の勾配が大きくなった時に、前記密度分布の勾配に応じて、鉛直距離調整装置14により蒸発源1と被蒸着面3aとの距離を増大させ、蒸発流の密度分布の均一性が低下することを抑制する。 (もっと読む)


【課題】 酸化物、窒化物、塩化物、フッ化物などの化合物の薄膜を分子線エピタキシー装置で作製する場合、気体材料がチャンバ内に雰囲気ガスとして残留し、他方の材料の分子線セルのるつぼに進入し、気体材料との化合物を作る。化合物になった分は材料の損失となる。材料損失が大きいと、原料の補填のためにたびたび超高真空チャンバを大気圧に戻さなければならず作業能率が悪くなる。
【解決手段】 るつぼ底部または上部に到るようにパージガス導入管を設け、パージガス導入管を通して、不活性ガスをるつぼ内へ吹き込み雰囲気ガスがるつぼ内の材料と接触しないように遮断する。 (もっと読む)


【課題】電子ビームの照射に対して分解し易い蒸発材料に好適な電子ビーム蒸発源、蒸着装置、並びに蒸着方法及びその蒸着方法により形成された光学膜を提供する。
【解決手段】電子ビーム照射に対して分解し易い蒸発材料12aを収納した材料収納部12と電子銃とを備え、真空中で材料収納部12内の蒸発材料12aに前記電子銃から出射された電子ビームEBを照射して蒸発材料12aを溶融し蒸発させる電子ビーム蒸発源において、材料収納部12はグランドから電気的に絶縁されており、材料収納部12内の蒸発材料12aは負に帯電した状態で電子ビームEBが照射される。 (もっと読む)


【課題】蒸着装置および方法において、突沸により発生した物質を捕捉するとともに、十分な膜厚を安定して確保する。
【解決手段】蒸着材料5を加熱して、蒸発した該蒸着材料を基板3に蒸着させる蒸着装置1は、蒸着材料5を収容する本体11と、蒸着材料5より上方に配置されて蒸着材料5の突沸により発生する物質を捕捉する捕捉部材12とを有する蒸着ボート6と、蒸着ボート6を加熱する加熱手段7とを備える。蒸着の際に、捕捉部材12の温度が、蒸着材料5の温度以上となるように構成する。 (もっと読む)


【課題】被蒸着部材と蒸発源の少なくとも一方を直線移動させて、複数の異種材料を被蒸着部材に均一な成分量比で蒸着する。
【解決手段】異種の第1,第2蒸着材料を加熱して気化させる蒸発装置12と、真空蒸着容器11内で蒸発装置12から気化された第1,第2蒸発材料を蒸着させるガラス基板13と、ガラス基板13をx方向に移動させる基板保持移動装置とを具備し、蒸発装置12に、各蒸発部21A,21Bから導入された第1,第2蒸発材料をそれぞれ第1拡散容器23A,23Bで拡散した後に、ガラス基板13に向かって第1,第2蒸発材料をそれぞれ放出する第1ノズル筒25aおよび第2ノズル筒25bを近接配置したノズル組25A,25Bを設け、ノズル組25A,25Bをガラス基板13の移動方向に直交する横断方向にライン状に配置した。 (もっと読む)


プロセスチャンバコンポーネントは、使用中、チャンバ内で励起されたガスに露出され、パリレンコーティングを含む第1の表面と、使用中、励起されたガスに露出されない第2の表面とを含む。プロセスチャンバの内部表面は、イン・サイチュで、ポリマーコーティングによりコートすることができる。可搬性設備を用いて、プロセスチャンバにポリマーコーティングを形成することができる。前にコートしたチャンバコンポーネントはまた、ポリマーをオゾン及び/又は酸素により剥離し、ポリマーを再コートすることによって、再生することもできる。
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