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Fターム[4K029FA05]の内容

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Fターム[4K029FA05]に分類される特許

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【課題】耐水性等の諸性能が良好な反射防止層、および反射防止層を備えたレンズなどの光学物品を提供する。
【解決手段】レンズ10は、n+1層の低屈折率層31とn層(nは2以上の整数)の高屈折率層32から構成される反射防止層3を含む。低屈折率層31と高屈折率層32とが交互に積層され、複数の高屈折率層32のうちの少なくとも1層は酸化ジルコニウムを主成分とする第1の蒸着源のみを用いて蒸着形成された第1タイプの層であり、その他の高屈折率層32は酸化チタンを主成分とする第2の蒸着源のみを用いて蒸着形成された第2タイプの層である。複数の低屈折率層31はそれぞれ酸化シリコンを主成分とする第3の蒸着源のみを用いて蒸着形成された第3タイプの層である。 (もっと読む)


【課題】基板の処理に好適なプラズマ源を提供すること。
【解決手段】基板を処理するための直線形状のプラズマ源であって、 内部にマグネトロンプラズマが生成される放電キャビティであるとともに、内面上に配置されたカソード電極(16)上にマグネトロンプラズマが生成され、アノード電極が放電キャビティの外部に配置されている、放電キャビティと;放電キャビティの外部に配置された複数の磁石(1,2)であるとともに、放電キャビティ内に無磁界ポイントを形成する、複数の磁石と;を具備し、処理の一様性が、プラズマに対して基板を移動させることにより、あるいは、基板に対してプラズマを移動させることにより、得られている。 (もっと読む)


【課題】硬質難削材の断続切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐剥離性とすぐれた耐チッピング性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン基サーメットからなる工具基体の最表面に、少なくとも、0.5〜5μmの平均層厚を有するNb硼化物層を被覆してなる切削工具であって、前記Nb硼化物層は、複数の平均粒径を有する結晶粒組織の複合組織として構成され、該複合組織は、5〜20nmの平均粒径を有する一次結晶粒の集合体からなる平均粒径40〜80nmの二次結晶粒と、該二次結晶粒の集合体からなる平均粒径150〜800nmの三次結晶粒とから構成されている。 (もっと読む)


【課題】硬質難削材の高速高送り切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐剥離性とすぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】炭化タングステン基超硬合金または炭窒化チタン基サーメットからなる工具基体の最表面に、少なくとも、0.5〜5μmの平均層厚を有するCr硼化物層を被覆してなる切削工具であって、前記Cr硼化物層は、複数の平均粒径を有する結晶粒組織の複合組織として構成され、該複合組織は、5〜15nmの平均粒径を有する一次結晶粒の集合体からなる平均粒径30〜70nmの二次結晶粒と、該二次結晶粒の集合体からなる平均粒径100〜600nmの三次結晶粒とから構成されている。 (もっと読む)


【課題】高硬度難削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐熱性および耐溶着性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】工具基体の表面に、(a)組成式:(Al1−α−βCrαβ)N(但し、Mは、Alを除く周期律表4a,5a,6a族の元素、Si、B、Yのうちから選ばれた1種又は2種以上の添加成分を示し、原子比で、0.45≦α≦0.75、0.01≦β≦0.25)を満足するAlとCr(とM)の複合窒化物層からなるA層、(b)組成式:(Zr1−γγ)N(但し、原子比で、0.01≦γ≦0.15)を満足するZrとYの複合窒化物層からなるB層、前記A層を下部層とし、B層を上部層とする2層もしくは、前記A層およびB層の交互積層で構成された硬質被覆層を形成してなる表面被覆切削工具。 (もっと読む)


【課題】ステンレス鋼、耐熱鋼等の難削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐熱性及び耐溶着性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】工具基体の表面に硬質被覆層を形成してなる表面被覆切削工具において、該硬質被覆層は、0.5〜5μmの平均層厚を有するとともに、組成式:(Zr1−γγ)N(但し、原子比で、0.01≦γ≦0.15)を満足するZrとYの複合窒化物層の単層から構成する。 (もっと読む)


【課題】ステンレス鋼、耐熱鋼等の難削材の高速切削加工で硬質被覆層がすぐれた耐熱性及び耐溶着性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】工具基体の表面に硬質被覆層を形成してなる表面被覆切削工具において、該硬質被覆層は、組成式:(Ti1−αAlα)Nで表されるTiとAlの複合窒化物層、あるいは、組成式:(Ti1−α−βAlαβ)Nで表されるTiとAlとMの複合窒化物層からなるA層(但し、Mは、Tiを除く周期律表4a,5a,6a族の元素、Si、B、Yのうちから選ばれた1種又は2種以上の添加成分を示し、原子比で、0.45≦α≦0.75、0.01≦β≦0.25)と組成式:(Zr1−γγ)N(但し、原子比で、0.01≦γ≦0.15)を満足するZrとYの複合窒化物層からなるB層との2層構造または、A層とB層との交互積層として構成する。 (もっと読む)


【課題】高硬度鋼の高速切削加工でRaが0.5〜1.3μmの優れた仕上げ面精度を長期にわたって発揮する表面被覆立方晶窒化ほう素基超高圧焼結材料製切削工具を提供する。
【解決手段】窒化チタン13〜30%、アルミニウムおよび/または酸化アルミニウム6.5〜18%、残部窒化ほう素(以上、いずれも質量%)からなる圧粉体の超高圧焼結材料で構成され、分散相を形成する立方晶窒化ほう素相と連続相を形成する窒化チタン相との界面に超高圧焼結反応生成物が介在した組織を有する切削チップ本体の表面に硬質被覆層を蒸着形成した表面被覆立方晶窒化ほう素基超高圧焼結材料製切削工具において、(a)硬質被覆層は、1.5〜3μmの平均層厚を有する下部層と0.3〜3μmの平均層厚を有する上部層とからなり、(b)下部層は、組成式:[Ti1−XAl]N(ただし、原子比で、Xは0.40〜0.60)を満足するTiとAlの複合窒化物層からなり、(c)上部層は、一層平均層厚がそれぞれ0.05〜0.3μmの薄層Aと薄層Bの交互積層構造を有し、薄層Aは、組成式:[Ti1−XAl]N(ただし、原子比で、Xは0.40〜0.60)を満足するTiとAlの複合窒化物層、薄層Bは、Ti窒化物(TiN)層からなる。 (もっと読む)


【課題】ロール状のフィルムに金属を蒸着する製造工程において、良好な外観とガスバリア性能の金属膜を提供する。
【解決手段】蒸着装置6のフィルム室14と蒸着室13の間に隙間11,12を設け、そのコンダクタンスをフィルムが蒸着室に入る側にて、フィルムの出る側に対して3倍以上とすることで蒸着初期の処理面のみに反応ガスの酸素を接触させて酸化膜を形成してフィルム面への密着力を確保し、その上に金属蒸着膜を形成することで、金属膜全体の酸化の度合いを下げて良好な外観とガスバリア性能を得る。 (もっと読む)


【課題】高硬度鋼の高速切削加工で優れた耐剥離性を発揮する表面被覆立方晶窒化ほう素基超高圧焼結材料製切削工具を提供する。
【解決手段】立方晶窒化ほう素の含有量が50〜85容量%のcBN基超高圧焼結体の表面に硬質被覆層を形成してなる切削工具において、(a)硬質被覆層は、1.5〜3μmの平均層厚を有する下部層と上部層とからなり、(b)下部層は、組成式:[Ti1−XAl]N(Xは原子比で0.30〜0.60)を満足するTiとAlの複合窒化物層からなり、(c)上部層は、一層平均層厚がそれぞれ0.03〜0.3μmの薄層Aと薄層Bの交互積層構造を有し、薄層Aは、組成式:[Ti1−XAl]Nを満足するTiとAlの複合窒化物層、薄層Bは、Ti窒化物(TiN)層からなり、(d)皮膜表面の表面粗さ、残留応力、ナノインデンテーション硬さを所定の値とする。 (もっと読む)


【課題】本発明はかかる事情に鑑みてなされたものであり、耐摩耗性に優れた硬質皮膜形成部材および硬質皮膜の形成方法を提供する。
【解決手段】基材1上に硬質皮膜4を備えた硬質皮膜形成部材10(10a)であって、硬質皮膜4は、組成がTiCrAlSi(B)(ただし、a、b、c、d、e、u、v、wは所定量の原子比)を満足するA層2と、組成がTiCrAl(B)(ただし、f、g、h、x、y、zは所定量の原子比)を満足するB層3とを備え、厚さが0.5μm以下の中間層5を介してまたは中間層5を介さずにB層3の上にA層2が積層され、A層2の厚さが0.5〜5.0μmであり、B層3の厚さが0.05〜3.0μmであることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】耐久性に優れた表面被覆部材及びその製造方法を提供する。
【解決手段】表面被覆部材は、鋼系部材もしくは超硬合金部材からなる基部にPVD法によりTi、Zr、Hf、V、Nb、Ta、AlおよびCrの少なくとも1種以上の窒化物、炭化物または炭窒化物からなる第1層と、第1層上に被覆されたAl−Cr系窒化物の第2層と、または第1層上に被覆された傾斜層であるAl−Cr系窒化物の第2層を有する。表面被覆部材の製造方法は、鋼系部材もしくは超硬合金部材からなる基部にPVD法によりTi、Zr、Hf、V、Nb、Ta、AlおよびCrの少なくとも1種以上の窒化物、炭化物または炭窒化物からなる第1層を被覆し、第1層上にAl−Cr系窒化物の第2層を被覆し、または第1層上に傾斜層であるAl−Cr系窒化物の第2層を被覆することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】 切削工具や冷間および温熱間における鍛造、プレス加工といった金属の塑性加工に使用される工具において耐久性に優れる被覆工具およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基材表面に皮膜を被覆した被覆工具であり、該皮膜は、硬度が30GPa以上であるAlCr系の窒化物または炭窒化物の硬質皮膜と、該硬質皮膜と基材の界面にある中間皮膜からなり、該中間皮膜は膜厚が2〜40nm、結晶粒子の平均幅が40nm以下のTiの金属、またはTiの窒化物、炭化物、炭窒化物の何れかからなる被覆工具である。 (もっと読む)


【課題】高速加工ですぐれた耐摩耗性を発揮する表面被覆歯切工具を提供する。
【解決手段】 高速度鋼からなる歯切工具基体の表面に、すくい面摩耗性に優れた第一の被覆層と、逃げ面摩耗性に優れた第二の被覆層とを被覆形成した表面被覆歯切工具において、切れ刃エッジから1mmの位置における上記第一の被覆層のすくい面側の膜厚をT1、逃げ面側の膜厚をt1、また、上記第二の被覆層の逃げ面側の膜厚をT2、すくい面側の膜厚をt2とした場合に、逃げ面側の膜厚が、T2/t1>1、かつ、すくい面側の膜厚が、t2/T1<1を満足し、さらに、切れ刃エッジ部において、第一の被覆層と第二の被覆層の界面が連続して繋がっている層構造を有する。 (もっと読む)


【課題】軟鋼や低硬度鋼などを切削する場合において、硬質被覆層がすぐれた潤滑性と耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】WC基超硬合金またはTiCN基サーメットで構成された工具基体の表面に、硬質被覆層として、立方晶構造のNbNと六方晶構造のNbNの交互積層構造からなり、かつ、該交互積層構造について電子線回折分析により、各層を判別したとき、全膜中の六方晶構造のNbNの割合が15%以上60%未満であることを特徴とする表面被覆切削工具。 (もっと読む)


【課題】 温度が60℃で湿度が90%(RH)という様な過酷な湿熱環境下でもバリア性が劣化せずに表示デバイス内部に水が浸入しないという良好なバリア性を有すると共に、端面からの酸素及び水蒸気の浸入をも防ぐことができるガスバリア性フィルム積層体を提供することを目的とする。
【解決手段】 プラスチック材料からなる基材フィルムの一方の面に、第1の耐候性コート層、蒸着層、及び、第2の耐候性コート層を、この順に設けたことを特徴とするガスバリア性フィルム積層体を提供することにより上記目的を達成する。 (もっと読む)


【課題】 温度が60℃で湿度が90%(RH)という様な過酷な湿熱環境下でもバリア性が劣化せずに表示デバイス内部に水が浸入しないという良好なバリア性を有すると共に、端面からの酸素及び水蒸気の浸入をも防ぐことができるガスバリア性フィルム積層体を提供することを目的とする。
【解決手段】 プラスチック材料からなる基材フィルムの一方の面に、第1の耐候性コート層、蒸着層、及び、第2の耐候性コート層を、この順に設けたガスバリア性フィルム積層体において、該第1の耐候性コート層、及び又は、第2の耐候性コート層が、架橋性基を有するフッ素含有共重合体と該架橋性基と反応する硬化剤とにより形成されたフッ素系樹脂からなることを特徴とするガスバリア性フィルム積層体を提供することにより上記目的を達成する。 (もっと読む)


【課題】電力が供給されない状況でも記憶内容の保持が可能で、かつ、書き込み回数にも制限が無い、新たな駆動方法を提供する。また、新たな駆動方法により、メモリ素子への書き込み電位のばらつきを低減し、信頼性を向上させる。
【解決手段】半導体装置の駆動方法において、書き込み電位を段階的に上昇させて、同時に読み出し電流を確認し、読み出し電流の結果を書き込み電位に利用して書き込みを行う。つまり、正しい電位で書き込みが行われたか確認しながら書き込みを行うことで、信頼性の高い書き込みを行うことが可能である。 (もっと読む)


【課題】バリアメタル層の金属配線に対する密着性を向上させつつ、金属配線の低抵抗化を図った半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】層間絶縁膜15に形成された凹部16、17内にバリアメタル層20を形成した後、凹部16、17内にCu配線層23を形成する。バリアメタル層20の形成工程は、凹部16、17内にTi含有量が50原子%を超える第1のTiNx膜18を形成した後、側壁部上と比較して底部上に相対的に多く形成されるように、Ti含有量が第1のTiNx膜18より多い第2のTiNx膜(またはTi膜)19を形成する。 (もっと読む)


【課題】フェライト相が多く析出した被削材の高速連続切削加工及び断続切削加工で、すぐれた耐摩耗性、耐欠損性、耐溶着性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】cBN基超高圧焼結材料からなる工具基体の表面に、下部層、中間層および上部層からなる硬質被覆層を蒸着形成し、下部層はTiB層、中間層は、組成式:Ti1−X−Yで表した場合、0.15≦X≦0.60、0.05≦Y≦0.35、0.50≦X+Y≦0.65(X、Yは原子比)を満足する平均組成を有し、さらに、下部層側から上部層側へ向うにしたがって、Xの値は次第に減少、Yの値は次第に増加する傾斜組織を有するTiB−TiN混合層、上部層は、組成式:(Ti1−ZAl)N層で表した場合、Zは0.3〜0.65(原子比)であるTiとAlの複合窒化物層で構成し、すくい面とホーニング面の上部層を除去する。 (もっと読む)


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