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Fターム[4K030AA10]の内容

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Fターム[4K030AA10]に分類される特許

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【課題】高速断続切削加工において、硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性、耐欠損性、耐剥離性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】工具基体の表面に、少なくとも、下部層(Ti化合物層)と上部層(α型Al層)を蒸着形成した表面被覆切削工具において、例えば、下部層−上部層界面に(Ti,W)CNO粒子を島状に分散分布させることによって、層厚Tの上部層の層厚方向に対する直交面に、極小引張残留応力値、極大引張残留応力値を示す複数の極小位置と極大位置が存在する直交面残留応力分布を形成し、極小引張残留応力値の平均値をσmin、極大引張残留応力値の平均値をσmax、隣接する極小位置と極大位置における引張残留応力差(絶対値)の平均値をδとした時、深さD1の位置の直交面におけるσ1min、σ1max、δ1と、深さD2の位置の直交面におけるσ2min、σ2max、δ2は、T>D2>D1>0で、かつ、σ1min>σ2min、σ1max>σ2max、δ2>δ1を満たす。 (もっと読む)


【課題】形成されるシリコン酸化膜の誘電率、又は成膜レートを、成膜条件を変更することにより制御することができる基板処理装置や半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】基板を処理する処理室と、非シロキサン材料ガスを処理室内へ供給する材料ガス供給部と、酸素含有ガスを処理室内へ供給する酸素含有ガス供給部と、処理室内へ供給されたガスを励起する励起部と、制御部とを備え、材料ガス供給部及び酸素含有ガス供給部から処理室内へ、それぞれ非シロキサン材料ガスと酸素含有ガスを供給する際に、非シロキサン材料ガスと酸素含有ガスの合計流量に対する酸素含有ガスの流量比を、非シロキサン材料ガス分子中のシリコン原子と酸素含有ガス分子中の酸素原子の合計数に対する酸素含有ガス分子中の酸素原子の比が、0.3以上で0.8以下とするとともに、処理室内へ供給されたガスを励起するよう基板処理装置を構成する。 (もっと読む)


【課題】 高速断続切削加工ですぐれた耐欠損性、耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】 工具基体の表面に、下部層と上部層とからなる硬質被覆層を蒸着形成した表面被覆切削工具において、下部層は、Tiの炭化物層、窒化物層、炭窒化物層、炭酸化物層および炭窒酸化物層のうちの1層または2層以上からなり、かつ、0.5〜15μmの全体平均層厚を有するTi化合物層、上部層は、1〜10μmの平均層厚を有する酸化アルミニウム−酸化ジルコニウムの混合組織層であって、該酸化ジルコニウムは、平均粒径が0.5μm以下の粒子として酸化アルミニウム相素地に分散分布し、さらに、該酸化ジルコニウムの含有割合は、1〜10面積%の範囲内で、上部層の層厚方向に沿って表面に向かうほど酸化ジルコニウムの含有割合が低くなる傾斜組成構造を備える。 (もっと読む)


【課題】高特性かつ手頃な価格の複合GaN基板およびその製造方法ならびにIII族窒化物半導体デバイスおよびその製造方法を提供する。
【解決手段】本複合GaN基板1は、比抵抗が1Ωcm未満の導電性GaN基板10と、導電性GaN基板10上に配置された比抵抗が1×104Ωcm以上で厚さが5μm以上の半絶縁性GaN層20と、を含む。本III族窒化物半導体デバイス2は、上記の複合GaN基板1と、複合GaN基板1の半絶縁性GaN層20上に配置された少なくとも1層のIII族窒化物半導体層30と、を含む。 (もっと読む)


【課題】密着性に優れるとともに初期摩耗に優れた切削工具を提供する。
【解決手段】基体2の表面に、基体2側から、平均結晶幅が0.1〜1μmの柱状結晶にて構成される下層TiCN層4と、Al層5と、平均結晶幅が下層TiCN層4の平均結晶幅よりも大きい柱状結晶にて構成される上層TiCN層6とを積層した切削工具1であり、密着性に優れるとともに初期摩耗に優れる。 (もっと読む)


【課題】基板表面のダメージを取り除くためのエッチング工程における表面の荒れを抑制する。
【解決手段】反応室を昇温すると共に、反応室が第1温度となった後に複数の基板に第1エッチングガスを供給する第1エッチング工程と、反応室が第1温度より高い第2温度となった後に、第1エッチングガスと共にシリコン原子含有ガスを複数の基板に向けて供給する第2エッチング工程と、反応室が第2温度より高い第3温度となった後に、シリコン原子含有ガス、及び、炭素原子含有ガスを複数の基板に向けて供給し、複数の基板に炭化珪素膜を形成する第1成膜工程を有する。 (もっと読む)


【課題】酸窒化アルミニウムでコーティングした物品および同物品を作製する方法を提供する。
【解決手段】基材および基材上のコーティング組織を含む、コーティング付き切削工具またはコーティング付き摩耗部品などのコーティング付き物品。コーティング組織は、チタン含有コーティング層と、チタン含有コーティング層上の酸窒化アルミニウムコーティング層とを有する。酸窒化アルミニウムは、六方晶系窒化アルミニウム型構造(空間群:P63mc)、立方晶系窒化アルミニウム型構造(空間群:Fm−3m)、および所望により非晶構造を有する相の混合物を含む。酸窒化アルミニウムコーティング層は、約20原子%〜約50原子%の量のアルミニウムと、約40原子%〜約70原子%の量の窒素と、約1原子%〜約20原子%の量の酸素からなる組成を有する。コーティング付き物品を作製する方法も提供される。 (もっと読む)


【課題】膜内の残留応力が緩和され、かつ、すぐれた耐剥離性、耐摩耗性を発揮するCFRP等の難削材の切削加工に好適なダイヤモンド被覆エンドミルを提供する。
【解決手段】エンドミルの軸方向に沿って、ダイヤモンド皮膜表面のラマン分光分析を行い、1333cm−1付近のピークの半価幅を測定した場合、ピークの半価幅が15cm−1以下の結晶相1領域とピークの半価幅が60〜90cm−1の応力緩和相2領域を、少なくとも上記皮膜表面の上記軸方向に交互に形成し、結晶相1領域と応力緩和相2領域の間のピークの半価幅が15cm−1を越え60cm−1未満の遷移相6領域が0.1〜1.0mmであり、好ましくは、上記軸方向に垂直な皮膜断面で、ピークの半価幅が15cm−1以下の結晶相1からなる断面領域とピークの半価幅が60〜90cm−1の応力緩和相2からなる断面領域を、皮膜の膜厚方向に0.1〜2.0μmの平均膜厚で交互に形成する。 (もっと読む)


【課題】放射温度計の故障およびパラメータ設定ミス等を検知できる基板処理装置と基板製造方法を提供する。
【解決手段】基板が配置される処理室と、処理室又は加熱部の温度を検出する第1放射温度計630b、第2放射温度計630a、及び、第3放射温度計630cと、第1放射温度計による第1検出結果、第2放射温度計による第2検出結果、第3放射温度計による第3検出結果が入力され、加熱部を制御する温度制御部と、を具備し、温度制御部は、第1放射温度計による第1検出結果に基づく温度と第2放射温度計による第2検出結果に基づく温度とを比較し、所定の温度より差が離れていると判断し、かつ、第1放射温度計による第1検出結果に基づく温度と第3放射温度計による第3検出結果に基づく温度とを比較し、所定の温度より差が離れていると判断した場合、第1放射温度計が故障している判断する。 (もっと読む)


【課題】ステンレス鋼、低炭素鋼等の溶着を発生しやすい被削材の切削加工において硬質被覆層がすぐれた耐溶着性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】WC超硬合金、TiCN基サーメットからなる工具基体の表面に、(a)Ti化合物層からなる下部層、(b)酸化アルミニウム層からなる中間層、(c)第1上部層と第2上部層とからなる上部層、からなる硬質被覆層を蒸着形成した表面被覆切削工具において、上記第1上部層は、上記中間層に接して形成され、0.5〜5μmの平均層厚を有し、層中の平均塩素濃度が0.2〜2原子%であるTi化合物層であって、上記第2上部層は、切れ刃稜線部以外では上記第1上部層に接して形成され、0.2〜5μmの平均層厚を有する酸化アルミニウム層または平均塩素濃度が0.1原子%以下のTi化合物層であって、上記上部層は、切れ刃稜線部において第2上部層が存在せず上記第1上部層が露出して形成されている。 (もっと読む)


【課題】処理室下部(炉口部)の熱的ダメージによる部材の劣化が成膜に影響を与えたり、歩留まりを悪くしたりすることを防止し、高品質な成膜が可能であり、生産性の高いSiC縦型熱処理装置の提供。
【解決手段】
基板を積層して収納する処理室と、該処理室内を所望の温度迄加熱する加熱手段と、前記処理室に所望の処理ガスを供給するガス供給手段と、前記処理室内を排気する排気手段とを具備し、前記ガス供給手段は、前記基板の積層方向に立設されたガス供給ノズルと、前記処理室の下部を形成するマニホールドとを有し、前記マニホールドの壁部には、処理室の下部を冷却する水路を有する。 (もっと読む)


【課題】波長240〜300nmの領域における紫外光の透過性に優れた窒化アルミニウム単結晶、該単結晶からなる層を有する積層体、該積層体を製造する方法、および該積層体から紫外光の透過性に優れる窒化アルミニウム単結晶を製造する方法を提供することを目的とする。
【解決手段】
酸素原子、及び炭素原子を含む窒化アルミニウム単結晶であって、酸素原子の濃度を[O]cm−3、炭素原子の濃度を[C]cm−3としたときに、下記式(1)の条件を満足することを特徴とする窒化アルミニウム単結晶。
[O]−[C] > 0 (1) (もっと読む)


【課題】セグメント形態の保護膜のさらに高速な形成が容易であり、保護膜の品質管理をさらに向上させ、さらに自由度の高い(複雑な)セグメント形態を可能とし、二次元形状のみならず三次元形状にも適用可能な、DLC膜などの保護膜、およびそれを成膜する方法を提供すること。
【解決手段】セグメントに分割して形成されるように膜を堆積してなるセグメント形態の保護膜を基材上に形成させる際に、所定の形態のセグメントを得られるようにレーザーを用いて基材に溝加工をした後に、保護膜を堆積してセグメント間の間隔を形成することを特徴とする保護膜およびその製造方法。 (もっと読む)


【課題】高速断続切削加工において硬質被覆層がすぐれた耐チッピング、耐欠損性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】WC超硬合金、TiCN基サーメットからなる工具基体の表面に、(a)Ti化合物層からなる下部層、(b)酸化アルミニウム層からなる上部層、からなる硬質被覆層を蒸着形成した表面被覆切削工具において、上記下部層の層厚方向に0.1μmの厚み幅間隔で、各厚み幅領域に存在する孔径2〜30nmの空孔の空孔密度を測定した場合に、空孔密度が200〜500個/μmの厚み幅領域と空孔密度が0〜20個/μmの厚み幅領域とが、下部層の層厚方向に沿って、交互に少なくとも複数領域形成されている空孔分布形態を有する。 (もっと読む)


【課題】プラズマを遠方まで導くことができ、カソード物質の流出を抑制させるプラズマ源及び成膜装置を提供する。
【解決手段】プラズマを前面側から照射するカソード4と、カソード4の背面側に配置された背面磁石5と、カソード4の外周を取り囲むように配置された外周磁石6とを有するプラズマ源1において、カソード4には、このカソード4の前面側に開口した中空部3が設けられ、背面磁石5及び外周磁石6は、カソード4側に対面する磁極がすべて同極とされている。 (もっと読む)


【課題】鋼や鋳鉄等の高速連続切削加工において、硬質被覆層がすぐれた耐チッピング性と耐摩耗性を発揮する表面被覆切削工具を提供する。
【解決手段】工具基体の表面に、(a)3〜20μmの合計平均層厚を有するTi化合物層からなる下部層、(b)1〜15μmの平均層厚を有する酸化アルミニウム層からなる中間層、(c)4〜14μmの平均層厚の縦長成長結晶組織をもつ改質Ti炭窒化物層からなる上部層、前記(a)、(b)、(c)の硬質被覆層が化学蒸着により形成された表面被覆切削工具において、(d)上部層を構成する改質Ti炭窒化物層は、表面から層厚方向に沿って内部側に、深さ0.5〜4.0μmの範囲内の間隔をおいて、酸素含有量の複数のピークが現れ、該ピーク位置における酸素含有量OMAXは、OMAX=3〜8原子%である酸素濃化領域を少なくとも1つ備えている。 (もっと読む)


【課題】膜厚の均一な炭素膜を、3次元形状の処理物に成膜する成膜装置,炭素膜の成膜方法及び炭素膜を提供すること。
【解決手段】本発明の炭素膜の成膜装置1は、プラズマCVD法によってワークWの表面に炭素膜を形成する炭素膜の成膜装置1であって、真空槽10と、ワークを保持する第一の電極2と、第一の電極2と間隔を隔てた位置にもうけられ、かつ第一の電極2の外周に立設してもうけられた立設部31を備えた原料ガスをイオン化する第二の電極3と、第一の電極2,第二の電極3のそれぞれに独立して電力を供給する電源装置25,35と、原料ガスを供給するノズル42と、を有することを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】誘導加熱を用いて分解温度の高い成膜ガスを安定に分解し、成膜を行うことが可能な成膜装置を提供する。
【解決手段】内部が減圧空間とされる処理容器と、前記減圧空間に成膜ガスを供給するガス供給手段と、カーボンを主成分とする材料により構成さるとともに、前記減圧空間に設置されて被処理基板を保持する基板保持部と、前記処理容器の外側に設置される、前記基板保持部を誘導加熱するコイルと、前記基板保持部を覆うと共に、前記処理容器から離間させて設置される断熱材と、を有し、前記減圧空間は、前記成膜ガスが供給される成膜ガス供給空間と、前記基板保持部と前記処理容器との間に画成される断熱空間とに分離され、前記断熱空間に冷却媒体が介在されるように構成されていることを特徴とする成膜装置。 (もっと読む)


【課題】高温条件下で行なわれるSiCエピタキシャル膜の成膜処理において、複数枚の基板上にわたって均一なSiCエピタキシャル膜を成膜することができる基板処理装置を提供する。
【解決手段】本実施の形態では、異なる第1のガス供給系と第2のガス供給系を設け、第1のガス供給系からアルゴン(Ar)ガス、四塩化珪素(SiCl)ガス、プロパン(C)ガスの一部および塩化水素(HCl)ガスを供給し、第2のガス供給系から残りのプロパン(C)ガスと水素(H)ガスを供給している。 (もっと読む)


【課題】CFRP材の切削加工において、刃先の耐衝撃性と潤滑性、切屑排出性にすぐれ、長期の使用にわたってすぐれた耐摩耗性を発揮するダイヤモンド被覆切削工具を提供する。
【解決手段】 工具基体表面に、結晶性ダイヤモンド層を被覆したダイヤモンド被覆切削工具において、切れ刃の上記結晶性ダイヤモンド層の表面には、平均粒径1〜50nmのナノダイヤモンド層を被覆形成し、切れ刃の最先端から上記結晶性ダイヤモンド層までの最短距離を3〜15μmとし、さらに、切れ刃の上記ナノダイヤモンド層のすくい面側表層(さらに、ナノダイヤモンド層の逃げ面側表層)には、表面粗さRaが0.1μm以下で膜厚が10〜200nmの非晶質カーボン膜を形成する。 (もっと読む)


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