【課題】金属カルボニル前駆体を用いて基板上に形成される金属薄膜のＣＯ中毒を抑制する方法及び装置を提供する。
【解決手段】金属薄膜８４０、８６０は、薄膜堆積システム１、１００の基板ホルダー２０、１２０上に載せられた基板２５、１２５上に形成される。基板ホルダー２０、１２０は、基板ホルダー２０、１２０の周辺端部に位置付けられて基板２５、１２５の周辺端部を取り囲む防御リング２１、１２４を有する。防御リング２１、１２４は基板２５、１２５の周辺端部でのＣＯ副生成物の生成を抑制する。 （もっと読む）

【目的】高品質な多結晶珪素膜を得る方法を提供する。
【構成】基板を予備室１０１、１０２から搬入する。そして、ロボットアーム１０９によって前記基板が処理室１０３〜１０７を移動する。この各処理室において、非晶質珪素膜の成膜や該非晶質珪素膜の結晶化が順次行われ、最終的には表面に多結晶珪素膜を有した基板が、一度も外気に暴露することなく得られる。そして、各工程間の処理温度の差を小さくするように温度調節することによって、成膜から結晶化までの工程を高スループットで行うことができるものである。 （もっと読む）

【課題】基板上に形成され開口面積が異なる複数の貫通部を組み合わせた形状のパターンを有するレジスト膜のパターン内への金属膜の埋め込み成膜を短時間で良好に行うことができる金属膜作製方法及び金属膜作製装置を提供する。
【解決手段】開口面積が異なる複数の貫通部を組み合わせた形状のパターンを基板３上にパターニングしたレジスト膜３０のパターンの底部から順に前駆体２４を吸着させてこの前駆体２４の金属成分のみを析出させて金属膜を形成する成膜反応と、金属膜を塩素ラジカルでエッチングするエッチング反応とを共存させながら貫通部内に金属膜を形成し、レジスト膜３０のパターンの中で開口面積が最小の貫通部を金属膜によって完全に埋めた時点で金属膜の表面に金属酸化膜を形成した後、金属膜で完全に埋められていない残りの貫通部内への金属膜の埋め込みを行う。 （もっと読む）

【課題】良質なペロブスカイト型酸化物薄膜を得ることのできる成膜方法、該成膜方法により成膜した薄膜からなる圧電体を有する圧電素子、該圧電素子を有する液体吐出ヘッドおよび該液体吐出ヘッドを有する液体吐出装置を提供する。
【解決手段】（Ａ１_x，Ａ２_y，Ａ３_z）（Ｂ１_j，Ｂ２_k，Ｂ３_l，Ｂ４_m，Ｂ５_n）Ｏ_pで表される組成を有するペロブスカイト型酸化物の薄膜を基板上に成膜する方法であって、前記元素を含む原料を前記基板上に供給する工程を複数種有し、前記元素Ａ１〜Ａ３、Ｂ１〜Ｂ５を複数のグループに分け、該グループに属する元素を含む原料を、前記グループ毎にそれぞれ別工程で前記基板上に供給することを特徴とする成膜方法。 （もっと読む）

ガス貯蔵コンテナーの内部にコーティングする方法であって、上記方法は化学蒸着のための前駆物質を上記貯蔵コンテナーに供給する工程、および金属コーティングを上記コンテナーの内部表面上に形成する工程を含み、上記コーティングは化学蒸着のための前駆物質より形成される、方法。また、内部表面を有するガス貯蔵容器を含むガス貯蔵コンテナーであって、上記貯蔵容器の上記内部表面上に形成されたライナーを有する、ガス貯蔵コンテナー。上記ライナーは約９９重量％またはそれ以上の純度のタングステン金属を含み得る。さらに、化学蒸着前駆物質発生器および上記前駆物質をガス貯蔵コンテナー中に輸送するための前駆物質注入アセンブリを含み得る金属ライニングされたガス貯蔵コンテナーを作製するためのシステム。上記システムは、上記ガス貯蔵容器からガス状の蒸着生成物を除くための排気出口も含み得る。
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洗浄されるべき構造物に洗浄液を接触させる洗浄プロセスのエンドポイントを決定するための装置及び方法を提供する。当該洗浄プロセスは、洗浄されるべき構造物に洗浄液を接触させる工程と、当該構造物の洗浄の程度に対応してセンシブルヒートサーマルエネルギ特性を有する洗浄排出物を生成する工程と、上記洗浄排出物のセンシブルヒートサーマルエネルギ特性を示すレスポンスを発生させるため、上記洗浄液中に、上記洗浄排出物と相互作用する目的物を浸漬させる工程と、洗浄が完了した時点を決定するため上記レスポンスをモニタリングする工程と、を備える。エンドポイントアルゴリズム及びエンドポイントモニタリング、並びに効果的で再現可能な方法でエンドポイント条件を決定するために有益なエンドポイントモニタセンサエレメントについても記載されている。
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【課題】ＡＬＤ工程による非晶質ＮｉＯ薄膜の製造方法及び、該非晶質ＮｉＯ薄膜を利用した不揮発性メモリ素子を提供する。
【解決手段】漏れ電流が少なく、かつ抵抗特性が改善され、スイッチング特性が向上した非晶質ＮｉＯ薄膜の製造方法は、真空チャンバ内に基板を準備する段階、ニッケル前駆体物質を準備する段階、ニッケル前駆体物質を気化させてソースガスを準備する段階、Ｏ_３とＨ_２Ｏガスのうち少なくとも一つを含む反応ガスを準備する段階、パージガスを準備する段階、及び真空チャンバ内にソースガス、パージガス、反応ガス及びパージガスを順次に吹き込む１サイクルの工程を実施し、基板上に単原子層のＮｉＯ薄膜を形成する段階を含む。 （もっと読む）

【課題】強誘電体膜及び強誘電体キャパシタ形成方法そして強誘電体キャパシタを提供する。
【解決手段】強誘電体膜及び強誘電体キャパシタ形成方法及び強誘電体キャパシタを提供する。反応チャンバに強誘電体を形成するための適切な比率で複数の有機金属ソース化合物を供給して強誘電体膜を形成する。有機金属ソース化合物はＮ_ｙＯ_ｘの嵩比が少なくとも５０％であるＮ_ｙＯ_ｘ／Ｏ_２混合酸化ガスと反応する。有機金属ソース化合物と混合酸化ガスは強誘電体膜を形成する蒸着時間の間、反応チャンバ内で蒸着温度及び蒸着圧力を維持される。その結果、強誘電体膜の均一度、例えば、下部電極との界面附近での均一度を向上することができる。 （もっと読む）

化学蒸着（ＣＶＤ）によって形状記憶または超弾性薄膜を堆積する方法、ならびにステント、移植片、ステント移植片、ステントカバー、閉塞およびフィルタメンブレン、および薬物送達デバイスを含めた、それによって作製される医療デバイス。この方法は、ニッケルチタン形状記憶または超弾性合金の被膜の製造時にＣＶＤ反応を使用して基板表面上に薄膜が堆積されることを含む。そのようなニッケルチタンベースの形状記憶または超弾性合金は、二元ニッケルチタン合金であってよく、または三元、四元、もしくはそれよりも高いレベルの合金を形成するために追加の化合物を含んでいてもよい。
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表面上に金属含有フィルムを形成させる原子層蒸着法が提供される。これらの方法は、これらの方法の最も広い態様において、（ａ）表面を表面活性化剤にさらして表面上に表面活性化錯体の蒸着物を形成させる工程と、
ｂ）表面活性化錯体の蒸着物を金属前駆体にさらして表面上に金属錯体の蒸着物を形成させる工程と、
ｃ）蒸着させた金属錯体を還元剤と反応させて、表面上に酸化物を含まない金属含有フィルムを形成させる工程とを含んでなり、ここで、金属はＣｏ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｐｄ、ＩｒおよびＷよりなる群から選択される。 （もっと読む）

【課題】 １つのチャンバ内で被処理部材への成膜処理とエッチング処理とを適宜行って被処理部材に対して所定の処理を良好に行うことができる被処理部材の処理装置及び被処理部材の処理方法を提供する。
【解決手段】 基板３等の被処理部材が収容されるチャンバ１内に成膜原料の成膜成分及びハロゲンを含む前駆体２１とハロゲンラジカルとを所望の分布に生成すると共に、チャンバ１内で生成した前駆体２１とハロゲンラジカルとの所望の分布に基づいて被処理部材に前駆体２１の少なくとも成膜成分を成膜する成膜処理と被処理部材にハロゲンラジカルを衝突させてエッチングを行うエッチング処理とを選択するようにした被処理部材の処理方法被処理部材の処理装置及び被処理部材の処理方法とする。 （もっと読む）

【課題】 ＣＶＤ法により金属薄膜を製造する方法に有利に用いることのできる新規なβ−ジケトナト金属錯体を提供する。
【解決手段】 下記式で表わされる金属錯体：
【化１】


［上記式において、
Ｘは、特定構造のシリルエーテル基を表し、
Ｙは、上記のシリルエーテル基或はアルキル基を表し、
Ｚは、水素原子或はアルキル基を表し、
Ｍは、Ｌｕ、Ｉｒ、Ｐｄ、Ｎｉ、Ｖ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｚｎ、Ｍｎ、Ｉｔ、Ｃｒ、Ｍｇ、Ｃｏ、Ｆｅ、またはＡｇを表し、
ｎは、金属原子Ｍの価数を表す。
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【課題】 球レンズの表面に，真空蒸着法等を用いてコーティングして無反射フィルタ膜等を形成する従来の方法では，全面に均一なフィルタ膜を成膜するのが困難である，微小外径の球レンズに適用することができない，球レンズに蒸着カス等が付着する等の課題がある。
【解決手段】 そこで本発明では，真空チャンバ１内におけるフィルタ膜材料２の供給源３の上方に球レンズ８の支持容器９を自転運動及び公転運動可能に支持し，自転運動の回転軸１３は鉛直方向に対して所定角度θ傾斜させると共に，この支持容器は少なくとも底面側に網状部１１を形成し，網状部に球状ガラスを載せて支持容器を回転させることにより，球状ガラスを網状部に対して転動させながら，供給源からフィルタ膜材料を供給して，球状ガラスの全面にフィルタ膜材料のコーティングを施し，成膜する全面フィルタ膜付き球レンズの製造方法を提案する。 （もっと読む）

本発明は、データ媒体や銀行券や証明書などの重要書証及び／又は包装及び同様なものを、偽造防止や追跡調査できるようにすることを目的とするものであって、対象物にコーティングを施して、このコーティングの発色を介して光学的に容易に識別でき、かつ、一義的に関連づけできるように特性表示するシステムに関する。本発明は、また、この特性表示システムのための、セキュリティエレメント及びセキュリティマーキングにも関するものであり、これらは、ＰＶＤ法又はＣＶＤ法による蒸着によって製造することができるもので、本発明は、それらの製造方法及びそれらの使用にも関する。 （もっと読む）

【課題】高揮発性及び高温安定性を有し、穏和な条件下で高品質のニッケル薄膜を形成するのに有用な新規な有機ニッケル化合物の提供。
【解決手段】化(Ｉ)の揮発性ニッケルアミノアルコキシド錯体は有機金属化学気相蒸着法（ＭＯＣＶＤ）により高品質のニッケル薄膜を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】有機金属前駆体と、シリコン、金属窒化物及び他の金属層などの基材上にコンフォーマルな金属含有膜を製造するための堆積方法を提供する。
【解決手段】当該有機金属前駆体は、次の式


（Ｍはコバルト、鉄、ニッケル、マンガン、ルテニウム、亜鉛、銅、パラジウム、白金、イリジウム、レニウム、オスミウム、Ｒ^1-5は水素、アルキル、アルコキシ、フルオロアルキル及びアルコキシ、脂環式、並びにアリール）により表されるＮ，Ｎ’−アルキル−１，１−アルキルシリルアミノ金属錯体である。 （もっと読む）

【課題】温度上昇や被加工物の高硬度化による摩耗増大を抑制することのできる最適な耐摩耗皮膜及び耐摩耗皮膜を被覆した被覆切削工具及び耐摩耗皮膜の製造方法を提供することである。
【解決手段】耐摩耗皮膜の金属成分が（ＳｉＸＭ１−Ｘ）、非金属成分が（ＮＹＧ１−Ｙ）で示され、但しＸの値は金属成分のみの原子％を１００とした場合、１５原子％以上、９５原子％以下であり、Ｙの値は非金属成分のみの原子％を１００とした場合、１０原子％以上、９９．９原子％以下であり、ＭはＴｉ、Ｃｒ、Ａｌ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｙ、Ｃｕ、Ｎｉから選択される１種以上であり、ＧはＣ、Ｏ、Ｂ、Ｃｌ、Ｓ、Ｐ、Ｈ、Ｆから選択される１種以上であり、該耐摩耗皮膜はＳｉ含有量が１０原子％未満の結晶粒子とＳｉ含有量が１０原子％以上の非晶質相とが存在することを特徴とする耐摩耗皮膜である。 （もっと読む）

【課題】 従来、事実上不可能であった、または極めて実現困難であった単体としての薄膜の形成を、簡便に実施することのできる薄膜の形成方法を提供する。
【解決手段】 本発明の薄膜の形成方法では、基板１上に基準温度以上において粘着力を喪失する接着層２と薄膜３とを順に積層したのち、自らの基準温度以上となるように接着層２を加熱することにより、この接着層２から薄膜３を分離するようにする。このため、各種溶剤を用いて接着層２を溶解除去する場合のように接着層２の厚みや表面積に依存することもなく、容易かつ短時間で単体としての薄膜３を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】基材に対して第２相をより確実に付与するための方法とそれによって得られる複合材料を提供する。
【解決手段】反応系内に有機金属錯体、金属アルコキシド及び金属ハロゲン化物の少なくとも１種の化合物又はこれを加熱して得られるガスの存在下で基材を熱処理することにより、前記基材の表面に金属、合金及び無機化合物の少なくとも１種を含む粒子又は皮膜を形成することを特徴とする複合材料の製造方法及びそれにより得られる複合材料に係る。 （もっと読む）

【課題】 不純物の少ない合金の金属薄膜を均一にしかも高速に作製する。
【解決手段】 Ｆｅ製の被エッチング部材２１とＮｉ製の被エッチング部材２２とを備え、Ｃｌ₂ガスをプラズマ化してそれぞれの被エッチング部材２１、２２をエッチングした前駆体の金属成分を基板９にそれぞれ吸着させ、その後、基板９を移動させてＦｅ薄膜とＮｉ薄膜を積層することで合金６０を作製し、緻密な多元層膜構造を形成する。 （もっと読む）