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Fターム[4K031CB42]の内容

溶射又は鋳込みによる被覆 (8,522) | 溶射材料−粉末材料 (3,144) | 粒子の材質 (2,634) | セラミック質 (970) | 酸化物又はそれを主成分とする (558)

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【課題】半導体・液晶製造用等のプラズマ処理装置部材に用いられるイットリアセラミックス系溶射膜であって、塩素系プラズマに対する耐食性の向上が図られ、ハロゲン、特に、塩素系プラズマプロセスにおいて、該セラミックスの構成原料に起因する不純物金属汚染を抑制することができる耐プラズマ性セラミックス溶射膜を提供する。
【解決手段】イットリアに、ジルコニアがイットリアに対して0.5重量%以上50重量%以下、アルミナがイットリアに対して3重量%以上30重量%以下分散されてなり、開気孔率が2%以下であるセラミックス溶射膜を形成する。 (もっと読む)


【課題】半導体・液晶製造用等のプラズマ処理装置部材に用いられるイットリアセラミックス系溶射膜であって、ハロゲンプラズマプロセスにおいて、該セラミックスの構成原料に起因する不純物金属汚染を抑制することができる耐プラズマ性セラミックス溶射膜を提供する。
【解決手段】ジルコニアが0.5mol%以上18mol%以下と、アルミナ、マグネシア、シリカ、カルシアおよびチタニアのうちの少なくともいずれか1種が3mol%以上30mol%以下分散され、かつ、これらの分散された添加物の総量が、3.5mol%以上30mol%以下であるセラミックス溶射膜を形成する。 (もっと読む)


【課題】溶射前に基材表面を特定の処理手段を組み合わせた粗面化と清浄化により、基材と得られる溶射皮膜とが過酷な条件下であっても密着可能な密着性を有する溶射方法を提供する。
【解決手段】金属基材表面をブラスト処理し、次いで該金属基材表面に法線方向から外力を作用させた状態で減圧アーククリーニング処理を行った後、溶射処理をする金属基材表面に密着性に優れた溶射皮膜を形成する溶射方法。 (もっと読む)


【課題】タービン部品を減衰するための構造を提供する。
【解決手段】 本願では、ガスタービン部品用の皮膜であって、振動減衰特性を有する1種以上の材料を含む皮膜について開示する。さらに、翼形基板と該翼形基板に設けられた皮膜とを含む振動減衰特性を有するガスタービン翼形部であって、上記皮膜が振動減衰特性を有する1種以上の材料を含む翼形部についても開示する。ガスタービン部品の振動減衰方法は、減衰特性を有する1種以上の材料を含む皮膜をガスタービン部品に施工することを含む。 (もっと読む)


【課題】基体上に、異方性柱状微細構造をもち、腐食に対し大きな抵抗性を示す熱絶縁層、機能性層を製造する方法、及び製造された部品を提供する。
【解決手段】第一工程で10000Pa未満の低い圧力でプラズマ溶射法により粉末ジェットの形態で基体(2)の表面に被覆材料を溶射し、細長い微粒子(10)が基体(2)の表面に対しほぼ垂直に立って並んでいる異方性微細構造を有する機能性層(1)を形成し、第二工程で前記層の毛細管状の空間(11、12)を、補強用媒体(6)として用いられる液体であって、熱により金属酸化物へ転化することができる前記層に含まれる金属(Me)の少なくとも一種類の塩を含む液体で満たし、前記補強用媒体を前記層の表面に塗布して毛細管状空間内へ浸透するのを待った後、熱を導入して酸化物の形成を行わせることにより、前記層を強化する。 (もっと読む)


【課題】
本発明は、600〜800℃の高温下において、飛来粒子による厳しい摩耗環境で使用される部材(タービン動・静翼,シュラウドセグメントなどのガスタービン高温部材)に適した耐摩耗コーティング部材およびその製造方法を提供することを目的とする。
【解決手段】
母材表面に高速フレーム溶射(以下、HVOF)によってクロムカーバイドコーティングを施した後、皮膜密着性を高めるため、MCrAlYコーティング(M:NiCoあるいはCoNi)を施し、その上に気孔率8%以下となるように緻密化したイットリア部分安定化ジルコニアコーティングを施し、更にその上に気孔率5%以下となるように緻密化したアルミナコーティングを直接施工する。 (もっと読む)


【課題】水蒸気等の有害な環境派生種に対してバリアとなる優れた能力を有する頑強な皮膜系により保護された物品を経済的、再現性のある態様で製造する方法を提供する。
【解決手段】基材202及びボンドコート204上に配置された自己封止性の実質的に気密なシール層210に希土類アミノケイ酸塩を含む混合物を適用する。基材は、ケイ素含有セラミックス及びセラミック母材複合材料などの耐熱性材料とする。基材上に自己封止性シール層を配置し、シール層をシール層の少なくとも一部が流れる封止温度に加熱する工程を採用する。 (もっと読む)


半導体処理装置に特殊セラミック材料を適用する方法であり、この特殊セラミック材料はハロゲン含有プラズマに耐性である。特殊セラミック材料は、少なくとも1種の酸化イットリウム含有固溶体を含有する。特殊セラミック材料の一部の実施形態は、半導体処理チャンバ内でのアーク放電の可能性を低下させる抵抗率を付与するように改質されている。
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【解決手段】基材上にエンボス模様又はスリット模様を有する被膜層が形成されていることを特徴とする被覆部材。
【効果】本発明の耐熱性被覆部材は、表面をエンボス又はスリット模様にすることで、製品焼結時の固着が防止でき、熱サイクルによる被膜の剥がれが起りにくく、耐久性に優れ、真空、酸化雰囲気、不活性雰囲気又は還元雰囲気下でのセラミックス、粉末冶金金属、特にサーメット、超硬材料を焼結又は熱処理するのに有効に用いられるものである。 (もっと読む)


【課題】 遮熱コーティング(TBC)系(110)を提供する。
【解決手段】 系は、基板表面領域(108)上に形成された1以上の遮熱コーティング(TBC)ボンドコート層(112)を備える。TBCボンドコート層は、1以上のTBCボンドコート材料を含む。TBCボンドコート材料は、ケイ素(Si)、ハフニウム(Hf)及び10重量%(wt%)未満のコバルト(Co)をも含む、ニッケル−クロム−アルミニウム−イットリウム(NiCrAlY)組成物である。TBC系は、TBCボンドコート層上に形成された1以上のトップコート層(120)をさらに備える。 (もっと読む)


無機多孔質基材、及びベース基板に堆積させたナノ粒子を用いた無機多孔質基材の製造方法である。無機多孔質基材は生物学的応用、例えば、DNA、RNA、蛋白質等の生体分子の固定に有益である。また、無機多孔質基材は細胞増殖の分野でも有益である。
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本発明は、金属製管状ワークを熱間鍛造するための鍛造芯金であって、芯金本体と芯金棒とから成り、前記芯金本体が高温素材から成るものに関する。
鍛造中前記芯金本体への排熱を減らしかつ前記芯金本体(1)にしっかり付着する層(5)を前記芯金本体(1)が少なくとも作業領域に備えており、前記層(5)が前記芯金本体(1)の素材よりも低い熱伝導率と少なくとも50μmの厚さとを有するように、本発明に係る鍛造芯金は形成されている。 (もっと読む)


【解決手段】カーボン基材上に、(ii)W金属の中間被覆層、又は(iii)W金属と、ZrO2,Y23,Al23もしくはランタノイド酸化物とを含有する中間被覆層が形成され、この中間被覆層上に、上層被覆層として、
(iv)ランタノイド元素と3B族元素との複合酸化物を含む被覆層、
(v)Y元素と3B族元素との複合酸化物を含む被覆層、
(vi)Y元素とランタノイド元素と3B族元素との複合酸化物を含む被覆層、
(vii)Al酸化物又はランタノイド酸化物被覆層、又は
(viii)Y酸化物とランタノイド酸化物の混合被覆層
が形成されてなる耐熱性被覆部材。
【効果】本発明の耐熱性被覆部材は、耐熱性、耐蝕性、非反応性が良好で、熱サイクルによる皮膜の剥がれが起りにくく、耐久性の優れた、真空、不活性雰囲気又は還元雰囲気下での金属又はセラミックスを焼結又は熱処理するのに有効に用いられるものである。 (もっと読む)


【課題】高温においても基礎材の腐食防止を達成する、特にFe、Ni、Al、Mg、および/またはTiに基づいた金属製の基礎材のための前記の種類の溶射された気密な保護層ならびにその製造方法を提供する。
【解決手段】特にFe、Ni、Al,Mg、および/またはTiに基づいた金属製の基礎材のための溶射された気密な保護層であり、そのため噴射粉末が少なくとも2つの成分を有し、そのうち第1のものが珪酸塩鉱物あるいは鉱石であり、第2のものは金属粉および/またはさらに別の珪酸塩鉱物あるいは鉱石である保護層において、噴射粉末中の珪酸塩鉱物あるいは鉱石の成分が6重量%未満のアルカリ含有量を有する。 (もっと読む)


本発明は、第1の要素と第2の要素の間(第1の要素が特にアルミニウム合金で構成され、第2の要素が特に炭素繊維強化プラスチック材料で構成される)の接続1に関する。
第1の要素は、特にリブ6であり、第2の要素は、望ましくは、リブ6が胴体補強構造内の胴体スキン2に接続される、アングルブラケット7である。
要素の間の接続は、本発明によれば、要素の間の少なくとも接触面積9の範囲内での腐食に対する保護のために適用されるセラミックコーティング16を含み、要素は、リベットで接続され及び/又は接着接合される。
セラミックコーティング16は、0.1mm未満の厚さであり、例えば、アルミニウム酸化物(Al23)とTiO2の混合物で構成され得る。 (もっと読む)


【解決手段】基材に希土類含有酸化物を5mm以下の厚さで溶射した後、基材から該溶射膜を剥離させることを特徴とする厚さ5mm以下の希土類酸化物含有溶射基板の製造方法。
【効果】本発明によれば、成形、焼成、焼結工程なしで、所定寸法の基材に溶射することで希土類含有酸化物セラミックスの薄板を容易に作製することができる。また、基材形状の選択により、多角形状、円盤形状、リング形状、三角形状などさまざまな形状の薄板を容易に作製することが可能である。更に、穴の複数個開いた基材に溶射することで、複数個の穴の開いた溶射薄板を作製することも可能である。 (もっと読む)


【課題】内周面以外の領域に対して溶射を実施するに際し、被覆材のコストの上昇を抑制しつつ、マスキング部材等で覆われた内周面の温度上昇を抑えることが可能な環状部材の冷却装置を提供する。
【解決手段】冷却装置1は、環状部材としての外輪90の内周面92に囲まれる領域である非溶射領域を覆う一対のマスキング部材10と、一方のマスキング部材10Aに接続され、非溶射領域に供給される冷却媒体が通過する冷却媒体供給路21と、他方のマスキング部材10Bに接続され、非溶射領域から排出される冷却媒体が通過する冷却媒体排出路22とを備えている。 (もっと読む)


【課題】内周面以外の領域に対して溶射を実施するに際し、被覆材のコストの上昇を抑制しつつ、マスキング部材等で覆われた内周面の温度上昇を抑えるとともに、皮膜の厚さを十分に確保しながら、被溶射物の皮膜が形成される領域と形成されない領域との境界付近における溶射時のバリの発生を抑制することが可能な環状部材の冷却装置を提供する。
【解決手段】冷却装置1は、環状部材としての外輪90の内周面92に囲まれる領域である非溶射領域を覆い、外輪90との間に隙間40が形成されるように配置される一対のマスキング部材10と、一方のマスキング部材10Aに接続され、非溶射領域に供給される冷却媒体が通過する冷却媒体供給部材20と、外輪90を支持することにより、マスキング部材10と外輪90との間に隙間40を形成する支持部材とを備えている。 (もっと読む)


【課題】希土類窒化物は、イットリア以上の耐蝕性を持つ半導体製造装置用部材を作製できると期待されるが、希土類窒化物単体では酸化しやすい性質であり、例えば大気中では希土類酸化物に変化してしまう問題があった。
【解決手段】希土類窒化物からなるプラズマ耐蝕性材料であって、金属元素としてTi、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Co、Rh、Ir、Ni、Pd、Pt、Au、Al、Ga、Inの中から少なくとも1種類の元素を金属元素の割合として0.1〜20原子%含有することを特徴とするプラズマ耐蝕性材料は、プラズマに対する耐性が高く、このようなプラズマ耐蝕性材料は、希土類窒化物粉末に金属を混合した粉末を使用して溶射膜を形成することで製造することが出来る。 (もっと読む)


【課題】
運転温度の非常に高いガスタービン、或いは航空機エンジン等の耐熱部材に使用可能な耐久性,信頼性に優れた遮熱被覆を備えた耐熱部材を提供する。
【解決手段】
Niを主成分とする耐熱合金基材の表面上に、実質的にNiを主成分として、Cr及びAlを含む合金の結合層を介してセラミックスからなる遮熱層を設け、結合層の合金中にはSiを0〜10重量%の範囲内で含有することができる。これにより、長期間の運転において、遮熱セラミックス層の剥離損傷が生じにくいと同時に、基材の機械的特性の低下も少ない。 (もっと読む)


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