【課題】過大なクラックの発生を防止しつつ、十分な効果が得られる緻密化層を形成し、それ共にコストアップを招かない溶射皮膜における緻密化層の形成方法、及び溶射皮膜被覆部材を提供する。
【解決手段】Ａｌ_２Ｏ_３溶射皮膜５の表層６の皮膜組成物を再溶融、再凝固させる高エネルギービームを、Ａｌ_２Ｏ_３溶射皮膜５の表面５ａへ走査する際に、走査方向へ向けて先行して走査させる先行レーザービーム２０と、この先行レーザービーム２０と同一軌跡上で追従して走査させる追従レーザービーム２１とで構成し、先行レーザービーム２０をＡｌ_２Ｏ_３溶射皮膜５の表面５ａへ走査させながら照射すると共に、追従レーザービーム２１を当該先行レーザービーム２０で走査した被照射領域２２へ走査させながら重ねて照射し、当該被照射領域２２の表層６を緻密化する。 （もっと読む）

【課題】多様な用途に対応するために、層状被膜を形成するために逐次的に又は複合被膜若しくは連続傾斜被膜を形成するために同時にナノ構造層及びミクロ構造層を堆積させる被膜組成及びミクロ構造の制御を可能にする方法を提供する。
【解決手段】ａ）ミクロサイズ粒子を含む粉末原料をプラズマ溶射プルーム中に噴射する工程；及びｂ）液体前駆体溶液を含む液体原料を該プラズマ溶射プルーム中に噴射する工程を含み、該粉末原料の噴射及び該液体原料の噴射は独立に制御可能である、プラズマ溶射銃における粉末原料及び溶液前駆体原料の同時供給を用いて複合プラズマ溶射被膜を生成する方法が開示される。この新規方法を使用して生成される熱遮蔽被膜は、従来の空気プラズマ溶射被膜と比較して２倍の寿命を実証した。 （もっと読む）

【課題】比重の異なる酸化物系セラミックと重金属の粉末を物理的に混合してなるサーメット溶射用粉末材料を用いて溶射皮膜を形成すると、セラミックと金属とが不均等な状態で溶射皮膜中に分布するため、サーメット溶射皮膜としての機能を十分発揮することができない。
【解決手段】酸化物系セラミック粒子の表面に、無電解めっき法によってＮｉまたはＮｉ−Ｐ、Ｎｉ−Ｂ合金のめっき膜を０．３〜５μｍの厚さで被覆した非混合形サーメット粉末をつくり、このサーメット溶射用粉末材料を用いて溶射皮膜を形成することによって、該溶射皮膜を被成してなる部材の緻密性、密着性、耐摩耗性、耐プラズマ・エロージョン性などを向上させる。 （もっと読む）

【課題】ＦＰＤ用の基板をプラズマ処理する際に異常放電やパーティクルの問題が生じ難いプラズマ生成用電極を提供すること。
【解決手段】プラズマ生成用電極２０は、チャンバ２内に配置されたフラットパネルディスプレイ用の基板Ｇとの対向面Ｆを有し、アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる基材２０ａの表面に陽極酸化処理されて陽極酸化皮膜２０ｂを有する本体と、本体の対向面Ｆに開口した複数のガス吐出孔２２と、対向面Ｆにおいて、少なくともガス吐出孔２２の開口部２２ｃに形成されたセラミックス溶射皮膜２３とを有し、対向面Ｆにおいてセラミックス溶射皮膜２３の間の部分は、本体の面が露出している。 （もっと読む）

【課題】耐焼付性に優れた転動体、その製造方法及び耐焼付性に優れた転動体を備えた動力伝達装置を提供する。
【解決手段】転動体は、基材と、該基材の表面に形成される皮膜とを備える。この転動体における皮膜は、上記基材の硬度より高い硬度及び上記基材の融点より高い融点を有する少なくとも１種の硬質粒子と金属単体及び合金の少なくとも一方からなる金属材とを少なくとも表面構成要素として含む。
転動体の製造方法は、上記転動体を製造する方法であって、基材の表面への皮膜の形成を、溶射材を用いた溶射法によって行う方法である。この転動体の製造方法における溶射材は、上記基材の硬度より高い硬度及び上記基材の融点より高い融点を有する少なくとも１種の硬質粒子と金属単体及び合金の少なくとも一方からなる金属材とを含む。 （もっと読む）

【課題】溶射性に優れ、かつ、特異な形状を持つスピネル粉末およびその簡便な製造方法を提供し、ガスセンサ素子の保護皮膜形成用の溶射粉末等として、センサの特性バラツキ低減に寄与する製造方法を提供する。
【解決手段】粒状のスピネル粒子で覆われていることを特徴とするスピネル粉末。電融アルミナにマグネシア原料を混合後、焼成することにより得られる。 （もっと読む）

【課題】ロール周面の溝底の表面粗度の評価指標として適切な指標を用いることで、溝底に対する異物の付着を低減する方法を提供する。
【解決手段】ロール周面に複数の溝１０が形成され、前記溝１０の底部１２の表面粗度の評価指標として、従来一般的なＲａやＲｚではなく、粗さ曲線のスキューネスＲｓｋを用いる。Ｒｓｋは、溝底１２の粗さの評価指標として適切であり、Ｒｓｋで０未満である溶融金属めっき浴中ロールとすることにより、溝底１２に対する異物の付着を低減できる。 （もっと読む）

【解決手段】基材に希土類含有酸化物を５ｍｍ以下の厚さで溶射した後、基材から該溶射膜を剥離させることを特徴とする厚さ５ｍｍ以下の希土類酸化物含有溶射基板の製造方法。
【効果】本発明によれば、成形、焼成、焼結工程なしで、所定寸法の基材に溶射することで希土類含有酸化物セラミックスの薄板を容易に作製することができる。また、基材形状の選択により、多角形状、円盤形状、リング形状、三角形状などさまざまな形状の薄板を容易に作製することが可能である。更に、穴の複数個開いた基材に溶射することで、複数個の穴の開いた溶射薄板を作製することも可能である。 （もっと読む）

【課題】脱ガス量の低減を図りうる耐食性部材およびこれを製造する方法を提供する。
【解決手段】基材に対して原料粉末が溶射される際、セラミックス原料粉末の加速エネルギーｘ［ｇ／ｍｉｎ／ｍｍ^２］および熱エネルギーｙ［ｋＪ／ｋｇ］の組み合わせが、ｘ−ｙ平面において所定領域に収まるように調節される。これにより、同素材の焼結体に対するビッカース硬度の比が０．５２以上であり、相対密度が９０〜９７［％］であり、表面粗さＲａが３．０〜７．０［μｍ］であり、かつ、脱ガス量が１０００［ｐｐｂ／ｃｍ^３］以下であるセラミックス膜を有する耐食性部材が得られる。 （もっと読む）

【課題】スパッタリングによる透明電極膜の安定な形成等の観点から品質の確実な向上を図りながらスパッタリングターゲットを製造する方法等を提供する。
【解決手段】ターゲットホルダーに対して酸化亜鉛を主成分とする粉末原料が溶射されることにより、ターゲット材が形成される。この際、加速エネルギーｘ［ｇ／ｍｉｎ／ｍｍ^２］および熱エネルギーｙ［ｋＪ／ｋｇ］の組み合わせが、ｘ−ｙ平面において所定の領域に収まるように調節される。 （もっと読む）

【課題】熱遮蔽コーティング構造を形成するための時間及び費用を低減することを可能にし、それによって全体的熱遮蔽コーティングシステムの熱サイクル耐性を損なうことなしに基材表面上に熱遮蔽コーティング構造を形成する方法を利用可能にする。
【解決手段】該熱遮蔽コーティング構造は、異なる方法で作り出される少なくとも２つの熱遮蔽コーティング２．１、２．２を含む。一方の熱遮蔽コーティング２．１を形成するには、コーティング材料を、大気圧でのプラズマ溶射（大気プラズマ溶射又は略してＡＰＳ）によって粉末ジェットの形態で基材表面上に溶射し、もう一方の熱遮蔽コーティング２．２を形成するには、コーティング材料を、異方性ミクロ構造を形成し且つ基材表面に対して本質的に垂直に整列される長く伸びた微粒子を有する層が基材表面上に発現するようにプラズマ溶射−物理蒸着又は略してＰＳ−ＰＶＤによって基材表面に塗布する。 （もっと読む）

【課題】基材に溶射皮膜を設けた真空装置用部品において、膜剥がれ、微小パーティクルの発生を低減した真空装置用部品を溶射皮膜溶射皮膜提供する。
【解決手段】基材１と前記基材の上に設けられた溶射皮膜３とを有する真空装置用部品において、前記溶射皮膜は、高融点金属粒子またはセラミック粒子の少なくとも一種と、アルミニウム粒子を用いて形成し、前記溶射皮膜が、金属溶融膜膜片５と、粒子６と、空隙７とを有し、空隙率が１２％以上４０％以下である。 （もっと読む）

【課題】
本発明の目的は、少ないエネルギー消費・熱負荷で、緻密でバッキングチューブへの密着性が良好な長尺のセラミック溶射円筒ターゲットを製造する方法を提供することにある。
【解決手段】
長尺バッキングチューブを複数の溶射領域に分割して溶射する。 （もっと読む）

【課題】
上記のような課題を解決するためになされたものであり、比較的コストを低く抑えて溶射することが可能であり、金属の酸化や金属酸化物の変質を抑え、基材との密着性に優れた、緻密な溶射皮膜を形成することができるＨＶＡＦ溶射装置を提供することを目的とする。
【解決手段】
金属、セラミックス又は樹脂が不活性ガス及び圧縮空気とともに粉末供給路に供給されると、ラバルノズルを通過する燃焼ガスの流路の略中心軸上に排出される。金属、セラミックス又は樹脂は比較的低温で、超音速でバレルを通過することにより、酸化や変質が抑えられ、緻密な溶射皮膜が形成される。 （もっと読む）

【課題】基板表面に熱遮蔽被覆構造体１０を製造する。
【解決手段】プラズマ・トーチ４を有する作業室２を準備し、プラズマ・ガスをプラズマ・トーチ４を介して導入し加熱によりプラズマ・ジェット５を形成し、プラズマ・ジェット５を作業室内に導入された基板３の表面に方向付ける。熱遮蔽被覆を製造するために、プラズマ・トーチ４と基板３との間に電圧を印加してアークを発生させ、基板表面をアークによって清浄化し、アークによる清浄化の後で基板３を作業室内に留め、０．０２μｍ〜２μｍの厚さを有する酸化物層１１を清浄化された基板表面上に形成し、熱遮蔽被覆１２をプラズマ溶射プロセスによって付着させる。 （もっと読む）

【課題】基材表面に、耐プラズマエロージョン性に優れたサーメット皮膜を形成する方法と、この方法によって得られるサーメット皮膜被覆部材とを提案すること。
【解決手段】導電性基材の表面に形成した非導電性セラミック溶射皮膜を、電気ニッケルめっき液中に浸漬して、電気ニッケルめっき処理を行うことによって、前記セラミック溶射皮膜の気孔中にめっき析出ニッケルを充填することにより、めっき析出ニッケルを充填したサーメット皮膜を形成し、次いで、高エネルギー照射処理を施して、皮膜表面を再溶融して緻密表面層を生成させる方法と、このようにして得られる皮膜被覆部材。 （もっと読む）

【課題】基材表面に、耐食性と耐摩耗性に優れた緻密表面層をもつサーメット皮膜を形成する方法と、この方法によって得られるサーメット皮膜被覆部材とを提案すること。
【解決手段】導電性基材の表面に形成した非導電性セラミック溶射皮膜を電気亜鉛めっき液中に浸漬して、電気亜鉛めっき処理を行うことによって、前記セラミック溶射皮膜の気孔中にめっき析出亜鉛を充填することにより、めっき析出亜鉛を充填したサーメット皮膜を形成し、次いで、高エネルギー照射処理を施して、皮膜表面を再溶融して緻密表面層を生成させる方法と、このようにして得られる皮膜被覆部材。 （もっと読む）

【課題】従来よりも容易に製造でき、かつ、従来よりも耐久性に優れた熱遮蔽コーティング膜及びその製造方法、並びにそれを用いた耐熱合金部材を提供する。
【解決手段】基材３上に形成される熱遮蔽コーティング膜１０であって、金属からなる金属粒子１１を複数含み、複数の金属粒子１１間に金属の酸化物（金属酸化物）１１ａが連続的に接合して形成されているボンドコート１と、金属の酸化物を含む酸化物層２とを有することを特徴とする、熱遮蔽コーティング膜。 （もっと読む）

【課題】処理容器内壁の腐食の問題が生じ難い処理装置を提供すること。また、耐プラズマ性および耐腐食ガス性に優れた、処理装置に用いられる耐食性部材およびその製造方法を提供すること。
【解決手段】被処理基板を収容する処理容器と、処理容器内の被処理基板に処理を施す処理機構とを具備する処理装置であって、処理容器は、基材と、その内壁に溶射により形成された周期律表第３ａ族素化合物を含む膜とを具備し、その溶射により形成された周期律表第３ａ族元素化合物を含む膜の表面が研磨されている。 （もっと読む）

【課題】セラミックスと金属マトリックスとの重量割合を所定の範囲内で制御した耐摩耗性、耐食性、耐熱性、及び親水性に優れたセラミックス粒子分散型金属基複合（MMC）皮膜を簡便かつ低コストに作製する溶射材料、並びに当該皮膜を提供する。
【解決手段】予め成形したパイプ状成形体、あるいは帯状フ−プ材をワイヤ状に成形する過程において、内部にセラミックス粒子を所定の重量割合で充填した溶射用ワイヤ１（溶射材料）を用いるガスフレ−ム溶射及びア−ク溶射によって、耐摩耗性、耐食性、耐熱性、及び親水性に優れたセラミックス粒子３分散型MMC皮膜を簡便かつ低コストに作製する。溶射用ワイヤ１がパイプ状成形体の場合には塑性加工の不可能な鋳鋼や鋳鉄を使用でき、一方、フ−プ材の場合には塑性加工の可能な金属材料２であれば、そのほとんどを使用することができる。 （もっと読む）