【課題】 希土類安定化ジルコニアよりも熱伝導率が低い遮熱コーティング材料を提供する。
【解決手段】 組成式（１）：
Ｌｎ_３ＮｂＯ_７
（ただし、ＬｎはＳｃ、Ｙ及びランタノイド元素からなる群より選ばれる１種類又は２種類以上の元素を表す）
で表されるフルオライト構造を有する立方晶の化合物を主体として含む遮熱コーティング材料。 （もっと読む）

本発明は、合計１００％の質量パーセントで、酸化物ベースで、次の組成、０≦ＢａＯ≦４０．８％、０≦ＳｒＯ≦３１．８％、２７．２％≦Ａｌ_２Ｏ_３≦３１．３％、３２％≦ＳｉＯ_２≦３６．９％、他の化学種≦１％、を有する溶融グレインを、個数で少なくとも９５％含み、ＢａＯおよびＳｒＯ酸化物の少なくとも一方の含量が０．３％より大きく、前記グレインの大きさが５から１５０ミクロンの範囲にある粉末に関する。 （もっと読む）

【課題】半導体加工装置の反応容器等に好適な優れた外観を有する溶射皮膜被覆部材、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基材の表面がＲＥＭ酸化物の溶射皮膜で被覆され、溶射皮膜の外表面から深さ50μｍ以下の領域に形成される緻密な組織の気孔率が１％以下であり、かつ緻密な組織が透明または白色を呈するとともに、溶射皮膜の外表面の粗さがＲa１〜３μｍの範囲内を満足する優れた外観を有する溶射皮膜被覆部材。 （もっと読む）

【課題】
異物の発生を抑制して処理の歩留まりを向上したエッチング処理装置を提供する。
【解決手段】
真空容器内部の処理室内に配置された試料をプラズマを用いてエッチング処理するエッチング処理装置であって、前記処理室の内側に配置された部材と、所定の材料が溶射されて形成され前記部材の表面を覆って前記プラズマに面する被膜であって、その表面が前記材料と同じ材料を用いて封孔された被膜を備えた。 （もっと読む）

【解決手段】基材表面にセラミックス溶射膜が形成され、かつこの溶射膜表面のスプラットが除去されてなることを特徴とするセラミックス溶射部材。
【効果】本発明は、耐プラズマ性を高めるために溶射した部材からのウエハへのパーティクル汚染レベルを低減するとともに半導体製造等のハロゲンプラズマを使ったプロセスでの安定した生産を可能にする。 （もっと読む）

【課題】長期間の使用においてもロール表面へドロスが付着せず、鋼板品質を維持することができる溶融金属めっきライン、特に溶融亜鉛めっきラインにて使用する浴中ロールを提供する。
【解決手段】ロール母材表面に連続する凹凸を設けた溶融金属めっき用浴中ロールにおいて、前記凹凸のピッチＰが１ｍｍ以上１０ｍｍ以下、かつ前記凹凸の底部の深さｔがピッチＰの１／２以下で０．２ｍｍ以上５ｍｍ以下、断面視で頂部の曲率半径Ｒが０．１ｍｍ以上、底部の曲率半径Ｒ’が下式（ａ）を満たし、かつ前記頂部の曲線部と前記底部の曲線部とを接続する隣り合う直線部のなす角度θが９０°以上であることを特徴とする溶融金属めっき用浴中ロール。
１．５Ｒ≦Ｒ’≦Ｐ²／（８ｔ）−Ｒ＋ｔ／２ （ａ） （もっと読む）

【課題】酸化ガドニウム粉末とアナターゼ型チタニア粉末を使用して溶射によりセラミックス皮膜を製造する場合、プラズマ溶射を用いた場合は、フレーム温度が15000℃から30000℃にもなる。また従来のフレーム溶射はフレーム温度が2200℃から3400℃になり粉末が容易に溶融し、また昇華、分解することにより、溶射粉末と異なる変態した皮膜、組成が変わる皮膜となる。低温で溶射することにより要求を満足する蛍光性と光触媒によう洗浄性を有する優れた溶射皮膜を得る安価な方法を提供する。
【解決手段】 従来のフレーム溶射と異なり、ガンの燃焼室の後に、溶射粉末と燃焼ガスを供給ノズルからフレームの軸に向けて燃焼ガスとスラリー状溶射微粉末を噴射し、燃焼室に導入の酸素量と供給ノズルから導入する燃焼ガスとの容量を調整してフレーム中に存在するセラミックス微粉末の温度を制御し、また燃焼生成ガスにより加速して、要求蛍光性と高温での密着性、および光触媒による洗浄性を有する溶射皮膜を形成したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 大気プラズマ溶射法で、Ｙ_２Ｏ_３の溶射膜を備えたプラズマエロージョンに強いプラズマ処理容器内部材の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明のプラズマ処理容器内部材の製造方法は、１組のアノード１１とカソード１２を有するプラズマ溶射装置を用いて従来と同じ方法で気孔率５％以上のＹ_２Ｏ_３の溶射膜２１を形成する。その後、この溶射膜２１の上に、気孔率が５％未満のＹ_２Ｏ_３の溶射膜２２を形成する。気孔率が５％未満の溶射膜の形成方法は、つぎの通りである。１組のアノードとカソード間で放電し、作動ガスを供給して発生するプラズマに、粒径が１０〜４５μｍのＹ_２Ｏ_３の粉末状素材を供給する。粒径を通常のプラズマ溶射の場合より小さくすることで、気孔率が５％未満のＹ_２Ｏ_３の溶射膜２２を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】 大気プラズマ溶射法で、Ｙ_２Ｏ_３の溶射膜を備えたプラズマエロージョンに強いプラズマ処理容器内部材の製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明のプラズマ処理容器内部材の製造方法は、１組のアノード１１とカソード１２を有するプラズマ溶射装置を用いて従来と同じ方法で気孔率５％以上のＹ_２Ｏ_３の溶射膜２１を形成する。その後、この溶射膜２１の上に、気孔率が５％未満のＹ_２Ｏ_３の溶射膜２２を形成する。気孔率が５％未満の溶射膜の形成方法は、つぎの通りである。１組のアノードとカソード間で放電し、作動ガスを供給して発生するプラズマに、粒径が１０〜４５μｍのＹ_２Ｏ_３の粉末状素材を供給する。粒径を通常のプラズマ溶射の場合より小さくすることで、気孔率が５％未満のＹ_２Ｏ_３の溶射膜２２を形成することができる。 （もっと読む）

ガスタービンエンジンのホットセクション部品のために、ＣＭＡＳ浸透耐性を向上させる方法。例示的な方法は、ボンドコート被覆基材上に、イットリア安定化ジルコニアのような遮熱材料からなる内部遮熱層を設けることによって、基材を遮熱コーティング系で被覆することを含む。希土類アルミン酸塩を含む最上層は、内側層の少なくとも一部分を覆うように堆積される。堆積プロセス及び被覆厚さは、被覆すべき部品の種類に応じて調整できる。 （もっと読む）

基材の被覆方法は、１４〜２０重量％のＣｒ、５〜８重量％のＡｌ、８〜１２重量％のＣｏ、３〜７重量％のＴａ、０．１〜０．６重量％のＨｆ、０．１〜０．５重量％のＹ、約１重量％以下のＳｉ、０．００５〜０．０２０重量％のＺｒ、０．０４〜０．０８重量％のＣ、０．０１〜０．０２重量％のＢを含み、残部はニッケル（Ｎｉ）及び不可避不純物である、レニウムを実質的に含まないボンドコート組成物の内側ボンドコート層を、基材上に堆積させる工程と、内側ボンドコート層を覆うアルミニウム含有層を形成する工程と、適宜、アルミニウム含有層を覆う遮熱コーティング組成物を堆積させる工程とを含む。 （もっと読む）

金属基材用のコーティング系は、ボンドコート内側層と、ボンドコート内側層を覆うアルミニウム含有層とを含む、強化ボンドコートを含む。ボンドコート内側層は、１４〜２０重量％のＣｒ、５〜８重量％のＡｌ、８〜１２重量％のＣｏ、３〜７重量％のＴａ、０．１〜０．６重量％のＨｆ、０．１〜０．５重量％のＹ、約１重量％以下のＳｉ、０．００５〜０．０２０重量％のＺｒ、０．０４〜０．０８重量％のＣ、０．０１〜０．０２重量％のＢを含み、残部はＮｉ及び不可避不純物である、レニウムを実質的に含まないボンドコート組成物を堆積させることによって形成される。このコーティング系は、イットリア安定化ジルコニアとすることができる任意選択の遮熱コーティングを含む。 （もっと読む）

【課題】鋳型本体の内側表面に、優れた耐食性、耐溶着性、及び耐摩耗性を有する溶射皮膜が形成された連続鋳造用鋳型を提供する。
【解決手段】鋳型本体１０の内側表面に溶射皮膜１１が形成された連続鋳造用鋳型において、溶射皮膜１１を形成する微粉末Ａは、Ｗ：１５質量％以上３０質量％以下、Ｂ：２質量％以上４質量％以下、Ｓｉ：２．５質量％以上４．５質量％以下、Ｃｒ：０又は０を超え８質量％以下、熱伝導率の低下防止材：０又は０を超え１０質量％以下、及び残部ＮｉからなるＷ系自溶性合金の金属マトリックスを含む。 （もっと読む）

【課題】白色のＹ_２Ｏ_３溶射粉末材料を用いて、黒色の酸化イットリウム溶射皮膜を形成するための技術を提案する。
【解決手段】白色の溶射用Ｙ_２Ｏ_３粉末材料を用い、プラズマ・ジェット発生用作動ガスとして、Ａｒ、Ｈｅなどの不活性ガス中に水素ガスを添加した混合ガスによるプラズマ溶射法によって、プラズマ熱源中に含まれる原子状の水素が有する強い還元作用で、Ｙ_２Ｏ_３粉末の酸素の一部が消失したＹ_２Ｏ_３−ｘの黒色粒子に変化させて、基材表面に、黒色酸化イットリウム溶射皮膜を形成する。 （もっと読む）

【課題】大気中かつ常温で簡単に施工でき、大面積で複雑形状の基材表面にも耐久性のある皮膜を形成可能で、しかも光触媒機能を十分に発揮可能な光触媒機能皮膜の形成方法を提供する。
【解決手段】原料粉であるアナターゼ型の二酸化チタンの粒子１１がルチル型に変態するのを制御しながら、低温度の溶射フレーム２９を用いて、基材１２上に二酸化チタンの粒子１１の高速溶射を行い、前記二酸化チタンの粒子のアナターゼ型を維持しながら積層する光触媒機能皮膜の形成方法において、原料粉であるアナターゼ型の二酸化チタンの粒子を、水及び有機系溶液のいずれか一方又は双方中に混入し、この混合液を溶射フレーム２９の投入前に霧化して、この霧状粒子を溶射する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、大気プラズマ溶射法で、気孔率が５％未満のＹ_２Ｏ_３の溶射膜を備えたプラズマ処理容器内部材と、その製造方法を提供する。
【解決手段】 本発明のプラズマ処理容器内部材の製造方法は、複数組のアノード１０１とカソード１０２を溶射方向に延びる中心軸ａの周囲に配置し、各アノード１０１とカソード１０２間に発生するプラズマ流を収束器１１０で合流させて前記中心軸上の先端に開口する１のノズル１２０から大気中に放射するプラズマ溶射装置１００を用い、該プラズマ溶射装置１００の前記中心軸ａ上で粉末投入パイプ１１５からＹ_２Ｏ_３の粉末状素材を供給する。複数のアノードとカソードにより高温のプラズマを生成し、中心軸後方からＹ_２Ｏ_３の粉末状素材を供給するため、高温で低粘性の溶融粒子となり、基材の表面に気孔率５％未満の溶射皮膜を形成することができる。 （もっと読む）

【解決手段】基板の最表層に希土類酸化物溶射膜を有することを特徴とするウエハの提供。
【効果】プラズマエッチング装置、プラズマ成膜装置のクリーニング、安定化時に半導体ウエハの減肉を防ぐことができ、膜硬度が高いため、ダミーウエハとして用いた場合、その寿命を向上させることができるウエハ。 （もっと読む）

【課題】第３元素を平衡状態では不可能なほど大量にドープすることにより性能を向上させたセラミックス系電気・電子材料の膜又はバルク体を十分に速い速度で製造できる方法を提供する。
【解決手段】溶射法を用いた急冷凝固により第３元素を強制固溶させる方法により、従来技術では第２相の析出により不可能とされていた多量の第３元素をドープした機能性セラミックス材料の膜およびバルク体を、十分に速い速度で形成することができ、得られる機能性セラミックスは、第３元素の大量ドープによる導電率の向上や熱伝導率の低減が容易に達成できる。 （もっと読む）

【課題】遮熱コーティング用のアルミナ保護皮膜、特にガスタービン部品の種々の表面に使用する遮熱コーティング用の溶射アルミナ系保護皮膜を提供する。
【解決手段】溶射アルミナ系皮膜１８を遮熱コーティング１６上に堆積して、タービンエンジン部品などの物品１０にＣＭＡＳ抑制と耐汚損性の両方を付与する。アルミナ系皮膜はＣＭＡＳの融点をタービンエンジン部品の運転温度を超える温度に上昇させる。溶射アルミナ系皮膜の表面粗さは４．０μｍ未満〜０．７５μｍである。アルミナ系皮膜は、その総重量に基づいて６０重量％以上のアルミナを含有する。 （もっと読む）

【課題】透過率の大幅な低減を容易にするセラミック電解質の加工法を提供する。
【解決手段】複数の微小亀裂１２を有するセラミック層１０を用意する工程と、上記複数の微小亀裂の少なくとも一部に１種以上の被酸化性金属イオンを含有する液体前駆体を浸透させる工程と、セラミック層をｐＨ値が約９以上の塩基に暴露し、被酸化性金属イオンを酸化物に化学転化して、セラミック層のポロシティを減少させる工程とを含む。また、固体酸化物型燃料電池は、アノード、カソード及びアノードとカソードの間に配置されたセラミック電解質を備え、セラミック電解質の微小亀裂の少なくとも一部に１種以上の被酸化性金属イオンを含有する液体前駆体を浸透させ、セラミック電解質をｐＨ値が約９以上の塩基に暴露し、被酸化性金属イオンを酸化物に化学転化して、セラミック電解質のポロシティを減少させる工程を含む方法で加工される。 （もっと読む）