【課題】副トーチの部品点数を少なくし、副トーチ全体の簡素化、小型化を図るとともに、プラズマ及びプラズマ炎の直進性、安定性を向上させ、プラズマ出力を増加させる。
【解決手段】陰極及び陽極並びにプラズマガス供給手段を有する主トーチ１と副トーチ２からなる複合トーチ型プラズマ発生装置において、副トーチ２、３９が、主トーチ軸芯を中心として放射線上に複数個設けられ、各副トーチ２，３９の陽極１０Ａ、４０は、外套１１、４１により囲まれており、外套１１，４１の内壁には、陰極が設けられている。 （もっと読む）

【課題】
本発明は、このような実情に鑑み、被膜硬度を緩和する被膜構造とその製造方法並びにそれに用いる飛翔粒子を提供することを目的とする。
【解決手段】
発明１のコーティング部材は、無機繊維が無配向状態で相互に交差してなるコンポジット組織が被膜中に存在することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】ローラーの寿命を延ばし、その表面に高精度の模様を形成する。
【解決手段】精密な模様を有するローラーの製造方法は、ローラー表面上にセラミック層を鋳造するステップと、前記ローラーの表面を研削及び研磨するステップと、レーザーでローラー表面に模様を形成するステップと、ローラー表面を洗浄するステップとを含む。したがって、このようにして製造されたローラーは、従来の鋳造方法よりも精密な模様を有する。このロ−ラーの表面はスチールよりも優れた耐浸食性を有するので、前記ローラーは、より長い寿命を有する。 （もっと読む）

【課題】ハロゲンガスに対する耐食性に優れ、かつ体積抵抗率が制御された半導体製造装置等の部材として好適なセラミックス溶射膜を提供する。
【解決手段】主成分がＭｇＯとＡｌ_２Ｏ_３から成るスピネル質のセラミックス溶射膜であって、ＭｇＯとＡｌ_２Ｏ_３の質量比（ＭｇＯ／Ａｌ_２Ｏ_３）が０．２５〜１．５であり、体積抵抗率が１×１０^８〜１×１０^１４Ωｃｍ、スピネル結晶の格子定数がａ＝８．０８４Å以上であることを特徴とするセラミックス溶射膜。 （もっと読む）

【課題】優れたバリア性能を有するＥＢＣ膜を形成することができるアルミナ薄膜形成用材料、及びこの材料を用いてなる環境バリアコーティング膜を備える耐熱部材、並びにバリア性能の簡便な評価方法及びそれに用いる簡易な構造の評価装置を提供する。
【解決手段】本発明のアルミナ薄膜形成用材料は、アルミナ粉末と、希土類化合物粉末とを含有し、環境バリアコーティング膜の形成に用いられる。また、本発明の耐熱部材は、耐熱基材と、その表面に、本発明のアルミナ薄膜形成用材料を用いて設けられた環境バリアコーティング膜と、を備える。更に、本発明のバリア性能評価方法及びバリア性能評価装置は、本発明のアルミナ基焼結材料を用いてなるＥＢＣ膜のバリア性能を、容易に、且つ効率よく、評価することができる方法及び装置である。 （もっと読む）

【課題】合金元素として多量のマンガン（Ｍｎ）を含有する高張力鋼板を搬送する場合であっても、ハースロールのロール周面に形成されたジルコニア皮膜が破壊されないようにする。
【解決手段】酸化イットリウム（Ｙ₂ Ｏ₃ ）で安定化された又は部分安定化されたジルコニア（ＺｒＯ₂ ）粉末を溶射することにより、酸素含有率〔Ｏ〕（単位：質量％）とイットリウム含有率〔Ｙ〕（単位：質量％）との関係が下記の（１）式を満たす皮膜を形成する。
〔Ｏ〕≧−０．０６〔Ｙ〕＋２６‥‥（１） （もっと読む）

【課題】運転温度の非常に高いガスタービン、或いは航空機エンジン等の耐熱部材に使用可能な耐久性に優れた遮熱被覆を備えた耐熱部材を提供する。
【解決手段】ＮｉとＣｏの少なくとも１つを主成分とする耐熱合金基材１の表面上に、実質的にＮｉとＣｏの少なくとも１つとＣｒとＡｌからなる合金の結合層２を介してセラミックスからなる遮熱層３を設けた。結合層の合金中にはＴａ，Ｗ，Ｓｉ，Ｐｔ，Ｍｎ及びＢからなるグループから選ばれた少なくとも１種を０〜２０重量％の範囲内で含有することができる。本発明の耐熱部材は遮熱セラミックス層の耐久性が非常に優れており、剥離損傷が生じにくい。 （もっと読む）

【課題】合金元素として多量のマンガン（Ｍｎ）を含有する高張力鋼板を搬送する場合であっても、ハースロールのロール周面に形成されたジルコニア皮膜が破壊されないようにする。
【解決手段】主成分である安定化ジルコニアまたは部分安定化ジルコニアからなるジルコニア（ＺｒＯ₂ ）粉末と、添加剤である酸化マンガン（ＭｎＯ₂ ）粉末と、の混合粉末を、ロール周面に溶射することで、ハースロールを得る。混合粉末の酸化マンガン含有率は２質量％以上１０質量％以下とする。 （もっと読む）

【課題】セラミックス粉末を使用して衝撃焼結被覆によりセラミックス皮膜を製造する場合、プラズマ溶射は、フレーム温度が15000℃から30000℃にもなる。また従来のフレーム溶射はフレーム温度が2200℃から3400℃になり粉末が容易に溶融し、また昇華、分解することにより、溶射粉末と異なる変態した皮膜、組成が変わる皮膜となる。低温で衝撃焼結被覆をすることにより要求を満足する機能性を有する優れた皮膜を得る安価な方法を提供する。
【解決手段】 従来のフレーム溶射と異なり、ガンの燃焼室の後に、粉末と燃焼ガスを供給ノズルからフレームの軸に向けて燃焼ガスとスラリー状微粉末を噴射し、燃焼室に導入の酸素量と供給ノズルから導入する燃焼ガスとの容量を調整してフレーム中に存在するセラミックス微粉末の温度を制御し、また燃焼生成ガスにより加速して、衝撃焼結被覆をし、要求機能特性と密着性を有する皮膜を形成したことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】絶縁性能の確保と、耐久性の確保と、低コスト化とを高次元で並立させる事ができ、しかも、クリープ防止も図れる構造を実現する。
【解決手段】外輪の３の外周面８に全周に亙って１対の凹溝１１、１１を設けると共に、所定のセラミックス製の絶縁層７ａを形成する。そして、これら１対の凹溝１１、１１に、ゴムの如きエラストマー等の弾性を有する材料により造られた弾性リング１２、１２を装着する。 （もっと読む）

【課題】簡単且つ経済的な工程で、品質の向上を図るとともに、コーティング層とセパレータとの密着性を向上させて耐久性を良好に確保することを可能にする。
【解決手段】セパレータ表面処理方法は、金属セパレータ２８のカソード電極２２に対向するカソード面６６ｂに、クロム飛散防止層１３０を被覆する第１工程と、前記第１工程により前記金属セパレータ２８のアノード電極２４に対向するアノード面６６ａに付着した前記クロム飛散防止層１３０を除去するとともに、前記アノード面６６ａを粗面化する第２工程と、前記第２工程の後、前記金属セパレータ２８の前記アノード面６６ａに、酸化防止層１３２を被覆する第３工程とを有している。 （もっと読む）

【課題】高い耐久性を有し、平面、曲面を問わず製作可能であり、Ｂ５サイズ以上の面積の大きな面積であっても作製可能な入れ子を備え、しかも、成形品の離型性に問題を生じ難い構造を有する金型組立体を提供する。
【解決手段】金型組立体10は、（Ａ）第１金型部11、第２金型部12、溶融樹脂射出部14、キャビティ13を備えた金型、（Ｂ）入れ子20A, 20B、並びに、（Ｃ）表面に凹凸部を有し、入れ子20A, 20B上に配設された厚さ０．０３ｍｍ乃至０．５ｍｍの金属膜40A, 4Bを備えており、入れ子20A, 20Bは、金属製ブロック31A, 31B、厚さ０．０３ｍｍ乃至１ｍｍの金属下地層32A, 32B、及び、金属下地層32A, 32B上に形成された、セラミックスから成る溶射皮膜33A, 33Bから構成されており、金属膜40A, 40Bの表面には、１０原子％乃至４５原子％の水素原子を含有する炭素水素固形物から成る炭素水素固形物被膜が形成されている。 （もっと読む）

【課題】プラズマビームにより基体を被覆及び表面処理する。
【解決手段】プラズマトーチ（４）を具えた加工室（２）を利用できるようにし、プラズマガスを前記プラズマトーチ（４）を通って送り、その中で電気ガス放電、電磁気誘導又はマイクロ波により加熱して、プラズマビーム（５）を生成させ、前記プラズマビーム（５）を、加工室中に導入した基体（３）上に送り、前記利用できるようにしたプラズマトーチ（４）が固体材料粒子をプラズマ溶射するための電力を有し、前記被覆及び／又は表面処理の間、前記加工室（２）中の圧力が０．０１〜１０ｍｂになり、液状又はガス状の少なくとも一種類の反応性成分を前記プラズマビーム（５）中に注入し、前記基体（３）の表面を被覆し又はそれを処理する。 （もっと読む）

【課題】基材に溶射皮膜が形成された溶射部材の製造に際し、密着性に優れた溶射皮膜を形成することができる溶射部材の製造方法を提供する。
【解決手段】基材に溶射皮膜が形成された溶射部材の製造に際し、主粉末２１の表面に硬質材料からなるラミネート層２４を形成した第１の溶射粉末２５と、前記ラミネート層の融点を低下させる材料からなる第２の溶射粉末２７とを同時に溶射し、前記第２の溶射粉末を前記第１の溶射粉末に付着させることにより、前記第１の溶射粉末の前記第２の溶射粉末との付着部において前記主粉末を露出させ、前記主粉末の露出した露出部を介して前記第１の溶射粉末と前記基材側とを結合させる、及び／又は、前記主粉末の露出した露出部を介して前記第１の溶射粉末どうしを結合させるようにする。 （もっと読む）

【課題】
ガスタービン等の高温シール用コーティングとして、優れた被削性と遮熱性を有し、アブレイダブルコーティングとＴＢＣの機能を併せ持つコーティングを提供する。
【解決手段】
高温シール用アブレイダブルコーティングとして、部分安定化ジルコニアとＮｉまたはＣｏ基合金の混合コーティングを用いる。混合コーティング中のＮｉまたはＣｏ基合金の比率は、コーティング断面組織における面積率で、１０〜５０％とする。さらに、前記ＮｉまたはＣｏ基合金の組成は、ＮｉとＣｏの少なくとも１つ、または、ＮｉとＣｏの合計：５０〜７５重量％、Ｃｒ：５〜４０重量％及びＡｌ：１〜３０重量％とする。 （もっと読む）

【課題】導電体層とこれを挟み込む絶縁体層とで構成される積層構造を有する静電チャックの周囲に形成されたセラミックス溶射膜と基材との密着性がよく、かつハンドリングの際に外部衝撃力が作用しても、容易に溶射膜が破損しない静電チャックを提供する。
【解決手段】絶縁体層に挟み込まれた金属層を含む積層構造の静電チャックであって、前記金属層の周縁の露出部分に形成された凹部が絶縁性の溶射膜によって被覆されている。この静電チャックの溶射膜は、少なくとも前記凹部の内側に露出する前記金属層を被覆し、かつ前記凹部より突出しないよう被覆されていることが好適である。これにより、金属層からの漏電や、金属層の腐食を防止できるとともに、ハンドリングの際に溶射膜に外部衝撃力が作用しても、溶射膜の破損を防止することができる。 （もっと読む）

【課題】半導体等の製造における静電チャック、ヒーター、プラズマ処理チャンバーなどの部材やパワーデバイスの放熱絶縁基板に使用する部材に優れた熱伝導率と絶縁性持つ窒化アルミニウムの溶射膜を形成することが望まれているため、気孔率が低く、窒化アルミニウムの含有量の高い溶射膜を提供する。
【解決手段】基材上の少なくとも一部が溶射膜を形成してなり、当該溶射膜を構成する粒子は平均的な直径が１μｍ以上１０μｍ以下の略球状をした窒化アルミニウム微粒子から構成されており、また、窒化アルミニウム粒子の隙間がＩＩＩＡ族及び／又はＩＩＡ族化合物で埋められて、気孔率が１５％以下であることを特徴とする窒化アルミニウム溶射部材に関し、このような部材は平均粒径が１〜１０μｍの窒化アルミニウム粉末、または同様の窒化アルミニウム粉末にＩＩＩＡ族及び／又はＩＩＡ族化合物を含有させた混合粉末を用いて溶射を行うことにより製造することができる。 （もっと読む）

【課題】Ｎａ成分を含有することによって溶射対象にした熱膨張係数の設計を容易とし、溶射後のガラス質表面を平滑にできるガラス質被膜形成ロール体の製造方法及びこれに用いるガラス質溶射材料、さらに当該製造方法により製造したオゾン発生装置の無声放電用電極を提供する。
【解決手段】主成分：｛ＳｉＯ₂，Ｂ₂Ｏ₃，Ｌｉ₂Ｏ，Ｎａ₂Ｏ，ＢａＯ，ＺｎＯ，ＴｉＯ₂，Ａｌ₂Ｏ₃の全て｝及び補助成分を含む粒状のガラス質溶射材料を用い、被塗物表面にブラスト処理で表面の算術平均粗さを２〜７μｍとする表面粗し工程、この表面を２００〜１０００℃に加熱する加熱工程、表面から４〜８ｃｍの距離よりガラス質溶射材料をプラズマ溶射して少なくとも３層以上からなるガラス質被膜を形成すると共にプラズマ溶射後に形成されるガラス質被膜表面の算術平均粗さを０．２〜３．０μｍとするガラス質被膜を得るプラズマ溶射工程を含む。 （もっと読む）

【課題】希土類安定化ジルコニアよりも熱伝導率が低い遮熱コーティング材料を提供する。
【解決手段】組成式（１）：
Ｌｎ_１-xＴａ_ｘＯ_１.５+x
（ただし、０．１３≦ｘ≦０．２４、ＬｎはＳｃ、Ｙ及びランタノイド元素からなる群より選択される１種類または２種類以上の元素を表す）
で表される化合物を主体として含む遮熱コーティング材料。及び、組成式（２）：
Ｌｎ_１-xＮｂ_ｘＯ_１.５+x
（ただし、０．１３≦ｘ≦０．２４、ＬｎはＳｃ、Ｙ及びランタノイド元素からなる群より選択される１種類または２種類以上の元素を表す）
で表される化合物を主体として含む遮熱コーティング材料。 （もっと読む）

微粒子発生は、腐食性の高いプラズマ環境における半導体デバイス処理において問題であった。この問題は、プラズマが還元プラズマの場合に深刻なものとなる。実験データは、酸化イットリウム、Ｙ_２Ｏ_３−ＺｒＯ_２固溶体、ＹＡＧ及びＹＦ_３等のプラズマ溶射被覆されたイットリウム含有セラミックの形成によって、約２２μｍ〜約０．１μｍの平均有効粒径を有する粉末原料からこのようなセラミックを溶射被覆すると、滑らかで緻密な表面を備えた低多孔率のコーティングが得られることを示した。これらの溶射被覆された材料によって、腐食性の還元プラズマ環境における微粒子の発生が減少する。
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