【課題】
電子、通信機器、電機分野において、はんだペースト印刷後のメタルマスクに付着したはんだペーストに対して、また、プリント配線基板やハイブリッドＩＣのはんだ付け後に残ったフラックス残渣に対して、塩素系または代替フロン系溶剤を含むことなく、優れた洗浄性を有しながら、部材に対する腐食等の影響を与えないフラックス用洗浄剤を提供する。
【解決手段】
１，３−ジオキソランを５０〜９９．９９重量％と、アルコール類を０．０１〜５０重量％含有するフラックス用洗浄剤。 （もっと読む）

【課題】 スカムや鉄粉などの分散性を高めて、生産性を向上させる、金属用洗浄剤組成物の提供。
【解決手段】 （ａ）アルカリ剤、（ｂ）β−ナフタレンスルホン酸のホルマリン縮合物又はその塩、及び（ｃ）非イオン界面活性剤を含有し、（ａ）成分と（ｂ）成分の重量比（ａ）／（ｂ）が、４／１〜１０００／１である、金属用洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】 収納体内に被洗浄物を収納して液洗浄すれば、液洗浄は収納体から少量ずつ排出され、この排出の完了によって浸漬洗浄を完了し収納体から被洗浄物を取り出し可能となる。また、洗浄液を少量ずつ排出させながら清浄化洗浄液を収納体に供給すれば、複数の洗浄槽を順次移動させることなく、一つの収納体内で被洗浄物の高純度の洗浄を可能とする。また、収納体の洗浄液排出と同時にまたは液洗浄の完了後に収納体内に洗浄蒸気を導入すれば、被洗浄物を移動することなく液洗浄と蒸気洗浄とを行うことができる。
【解決手段】 被洗浄物を収納体に収納して洗浄液により液洗浄すると共に、この液洗浄の過程で収納体から洗浄液を少量づつ排出する。また、この排出と並行してまたは排出完了後に洗浄蒸気の供給部から洗浄蒸気を収納体内に導入して被洗浄物の蒸気洗浄を行う。 （もっと読む）

【課題】優れた洗浄力を提供するとともに、洗浄と同時にコーティング処理を行う。
【解決手段】脂肪族チオールを水に乳化して又は有機溶媒に溶かして洗浄及びコーティング剤を作り、その洗浄及びコーティング剤を容器に入れそれに金属を浸漬し、その洗浄及びコーティング剤を金属表面から除去する。金属を浸漬した際に容器に振動を加えてもよい。脂肪族チオールは炭素数が１６のものが最も望ましく、また、脂肪族チオールの含有量は約１．０〜１０重量％である。 （もっと読む）

【課題】 マスクに付着した有機ＥＬ用の有機材料を除去することが可能な洗浄装置を提供する。
【解決手段】 本発明の洗浄装置は、マスク１０を所定の洗浄液により室温で洗浄処理する第１及び第２の洗浄槽２１，２２と、マスク１０を所定のリンス液により室温でリンス処理する第１及び第２のリンス槽５１，５２と、重力を起因とする応力によってマスク１０の金属薄膜に損傷を生じさせないように、水平以外の所定の角度を以って当該マスク１０を保持し、当該所定の角度を以って保持された当該マスク１０を第１及び第２の洗浄槽２１，２２及び第１及び第２のリンス槽５１，５２へ搬送する搬送装置２４０と、を備える。ここで、搬送装置２４０は、最初に水平な状態でマスク１０を保持した後、当該マスク１０を保持したまま、垂直方向に起き上がり、上記所定の角度を以って当該マスク１０を保持する。 （もっと読む）

【課題】 マスクに付着した有機ＥＬ用の有機材料を除去することが可能な洗浄装置を提供する。
【解決手段】 本発明の洗浄装置は、マスク１０を所定の洗浄液により洗浄処理する第１及び第２の洗浄槽２１，２２と、当該洗浄槽２１，２２の洗浄液を真空蒸留する真空蒸留器３０と、真空蒸留された洗浄液を室温に冷却する第１の冷却器３１と、第１の冷却器３１により冷却された洗浄液を第２の洗浄槽２２に還流させる第１の還流管１０１と、マスク１０を所定のリンス液によりリンス処理する第１及び第２のリンス槽５１，５２と、当該リンス槽５１，５２のリンス液を常圧下で蒸留する常圧蒸留器６０と、常圧蒸留されたリンス液を室温に冷却する第２の冷却器６１と、第２の冷却器６１により冷却されたリンス液を第２のリンス槽５２に還流させる第２の還流管１０２と、を備える。 （もっと読む）

【課題】 帯電を確実に防止でき、配線等の腐食を起こすこともない、歩留まりよく電気・電子部品の製造が可能となる洗浄剤。
【解決手段】 （１）炭化水素系溶剤が９３〜１００質量％、オクタノール等の（２）炭化水素系溶剤以外の有機溶剤が０〜７質量％、及びテトラオクチルアンモニウム・２，２，２−トリフルオロ−Ｎ−（トリフルオロメタンスルフォニル）アセタミド等の（３）下記一般式（Ｉ）
【化１】


｛上記式中、ＺはＮ又はＰ、Ｒ^１〜Ｒ^４は炭素数４〜２０の置換されていてもよい炭化水素基を示し、該Ｒ^１〜Ｒ^４のうち最も炭素数の多い基と、最も少ない基との炭素数の比は２以下であり、Ｘ⁻は下記式（II）
【化２】


（上記式中、Ａ^１、Ａ^２はフルオロアシル基等を示す）で示されるアニオンを示す。｝で示される有機オニウム塩が（１）と（２）の合計１００質量部に対して、０．００１〜１０質量部を主成分とする洗浄剤。
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【課題】 真空乾燥工程において、従来よりも乾燥効率を向上させて乾燥時間を短縮することができる部品洗浄乾燥方法、及びその装置を提供する。
【解決手段】 洗浄乾燥槽内に被処理物を収容し、該被処理物を洗浄溶剤に浸漬して超音波振動を与えて洗浄する浸漬洗浄工程と、洗浄溶剤の加熱蒸気を導入して被処理物を蒸気洗浄する蒸気洗浄工程と、蒸気洗浄後の被処理物を減圧状態で乾燥する真空乾燥工程とを行う部品洗浄乾燥方法であって、上記真空乾燥工程において、上記洗浄乾燥槽内を真空ポンプの限界値まで減圧して低圧真空乾燥を行うと共に、該低圧真空乾燥を行った後、真空ポンプの限界値を開放し洗浄溶剤の爆発下限界以下の圧力まで復圧し、所定時間が経過した後に、再び低圧真空乾燥を行う。 （もっと読む）

【課題】 １，１，１，３，３−ペンタフルオロブタンを主成分とする洗浄用溶剤組成物の洗浄能力をアップする。
【解決手段】 洗浄用溶剤組成物は、（ａ）１，１，１，３，３−ペンタフルオロブタンを１０〜８５重量％、（ｂ）１種または２種以上のプロピレングリコール系溶剤を５〜８０重量％、（ｃ）ニトロメタン、ニトロエタン、３−メトキシ・ブチルアセテート、３−メトキシ−１−ブタノールおよびｄ−リモネンの中から選ばれる少なくとも１種の溶剤を１０〜８５重量％、含有する。 （もっと読む）

【課題】 汚れ物質（油脂、グリース、フラックス等）に対する洗浄除去力が向上し、かつ塗料、インキ、接着剤等に使用される樹脂を溶解する際に、少量の使用でこれらを溶解させることのできる溶剤組成物を提供すること。
【解決手段】 常圧における沸点が１５０〜２８０℃の範囲にあるイソパラフィン４０〜６０質量％と下記一般式（Ａ）で表されるプロピレングリコールエーテル系化合物６０〜４０質量％の組み合わせを含む溶剤組成物である。
【化１】


（式中、Ｒは炭素数１〜４のアルキル基を示し、ｎは１〜３の整数である。） （もっと読む）

【課題】油脂類や塵埃の除去に効果があり、アクリル樹脂を含めた幅広い基材への影響がなく、適度な溶解力を有する溶剤組成物を提供する。
【解決手段】（２，２，２−トリフルオロエトキシ）−１，１，２，２−テトラフルオロエタン ６９質量％、（パーフルオロブトキシ）メタン ３１質量％とからなる共沸溶剤組成物。（２，２，２−トリフルオロエトキシ）−１，１，２，２−テトラフルオロエタン ５５〜８５質量％、および（パーフルオロブトキシ）メタン １５〜４５質量％を含有する共沸様溶剤組成物。（２，２，２−トリフルオロエトキシ）−１，１，２，２−テトラフルオロエタン ３０〜９０質量％、および（パーフルオロブトキシ）メタン １０〜７０質量％を含有する混合溶剤組成物。 （もっと読む）

アニオンＮ−置換フッ素化スルホンアミド界面活性剤ならびにクリーニング溶液および酸エッチング溶液中での該界面活性剤の使用が記載されている。クリーニング溶液およびエッチング溶液は、例えば、酸化シリコン含有基材のクリーニングおよびエッチングにおいて多様な基材と合わせて用いられる。 （もっと読む）

２種以上の揮発成分、特に、ＨＦＣ３６５ｍｆｃと、分子内におけるフッ素原子数の水素原子数に対する比が２以上の非塩素系フッ素化合物と、１種以上の高沸点の不揮発性成分からなる非共沸性多成分系組成物であって、洗浄性、乾燥性、安全性、環境保全性に優れ、かつ、長時間の使用わたって成分組成変動を容易に制御できる洗浄剤組成物として好適にもちいることができる組成物。 （もっと読む）

マイクロエレクトロニックデバイス構造およびプロセス装置から望ましくない物質を除去するために、たとえば超臨界二酸化炭素などの超臨界流体を用いる組成物および方法。フラックスおよびはんだプリフォーム表面膜を除去するための有用性を有する、このようなタイプの一組成物には、たとえば超臨界ＣＯ_２などの超臨界流体、およびたとえばキシレンなどの有機共溶媒が含まれる。半導体基板から金属、金属酸化物、金属含有エッチング後残渣およびＣＭＰ粒子を除去するための有用性を有する、このようなタイプの別の組成物には、超臨界流体および少なくとも１つのβ−ジケトンが含まれる。

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