【課題】洗浄液として洗浄性の高い炭化水素類等を用いて洗浄した後に、リンス液としてハイドロフルオロカーボン類やハイドロフルオロエーテル類を用いて洗浄液をすすぎ乾燥させる処理を、長時間連続して良好な状態で継続する。
【解決手段】リンス液の一部を被再生液として抜き出して冷却し、冷却後の該被再生液を上層液と下層液に比重分離し、得られる下層液をリンス液として再利用する。 （もっと読む）

【課題】乾燥後に表面汚れや洗浄残渣油の滲み出しがなく、乾燥温度が水系洗浄剤よりも低く、乾燥から部品冷却までを短時間で行うことができる、経済的で、洗浄性に優れ、安全性が高い、焼結部品の洗浄方法を提供する。
【解決手段】本発明の焼結部品の洗浄方法は、（Ａ）焼結部品を炭化水素系洗浄液と接触させて洗浄する洗浄工程、（Ｂ）次いで防錆剤を濃度が１〜１０重量％となるように有機溶剤に均一に溶解して得た防錆剤溶液と接触させて焼結部品表面に防錆皮膜を形成するコーティング工程、及び（Ｃ）次いでハイドロフルオロカーボン及び／又はハイドロフルオロエーテル（ＨＦＣ／ＨＦＥ）と接触させて焼結部品に付着する炭化水素系洗浄液及び／又は有機溶媒を前記ＨＦＣ／ＨＦＥで置換するリンス工程を含む洗浄方法である。 （もっと読む）

【課題】水溶性の付着物を洗浄除去することが可能な洗浄剤組成物を提供すること。
【解決手段】被洗浄物に付着した付着物を洗浄除去するための洗浄剤組成物である。洗浄剤組成物は、炭化水素系の基材と水とアルコールとからなる。水の含有量は、洗浄剤組成物全体において０．０１〜５重量％であり、アルコールの含有量は、重量％で水の１〜２００倍であり、かつ洗浄剤組成物全体において９０重量％以下であり、残部が、基材よりなる。基材は、軽油あるいはガソリンであることが好ましい。基材は、有機溶剤であってもよい。基材は、３０℃における動粘度が０．５〜２０ｍｍ²／ｓであることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】水溶性と非水溶性の付着物が混合した混合性の付着物を洗浄除去することが可能な洗浄剤組成物を提供すること。
【解決手段】被洗浄物に付着した付着物を洗浄除去するための洗浄剤組成物である。洗浄剤組成物は、炭化水素系の基材と界面活性剤と水とからなる。界面活性剤の含有量は、洗浄剤組成物全体において０．１〜５０重量％であり、水の含有量は、０．０１〜５重量％であり、残部が、基材よりなること。基材は、軽油あるいはガソリンであることが好ましい。基材は、有機溶剤であってもよい。基材は、３０℃における動粘度が０．５〜２０ｍｍ²／ｓであることが好ましい。 （もっと読む）

【課題】蒸留操作を繰り返し行っても、組成比や特性がほとんど変化せず、洗浄能力が改善された共沸様洗浄剤組成物を提供すること。
【解決手段】1-デセン２５〜４５質量％と１−ヘキサノール７５〜５５質量％とからなる［両者の合計は１００質量％］洗浄成分を含む共沸様洗浄剤組成物である。 （もっと読む）

【課題】レジスト剥離の性能に優れるレジスト剥離剤及び優れた溶解力を有する溶剤及び洗浄剤を提供する。
【解決手段】下記式で表されるレブリン酸アミド類、又はこのレブリン酸アミド類と水を含むレジスト剥離剤。
ＣＨ_３−ＣＯ−ＣＨ_２ＣＨ_２−ＣＯ−ＮＲ^１Ｒ^２
（式中、Ｒ^１及びＲ^２はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜６の炭化水素基であり、互いに同一であっても異なっていてもよく、さらに互いに結合して環構造を形成してもよい。） （もっと読む）

【課題】グリース除去性能利益を示す液体組成物をグリースに接触させることによって、機械作用を用いずに硬質面をクリーニングする方法を提供すること。
【解決手段】（ｉ）０．００５重量％〜２０重量％のポリマー、及び（ｉｉ）０．００５重量％〜２０重量％の硫酸化またはスルホン化陰イオン界面活性剤と、０．００５重量％〜３０重量％の、アミンオキシド界面活性剤、ベタイン界面活性剤、スルホベタイン界面活性剤及びそれらの混合物から成る群から選択される補助界面活性剤と、０．００５重量％〜３０重量％のアルコキシル化非イオン界面活性剤とを含む界面活性剤系を含む酸性液体組成物を、傾斜しているか又は垂直である硬質面に噴霧する工程を含み、傾斜しているか又は垂直である前記硬質面に機械的作用を加えない硬質面クリーニング方法である。 （もっと読む）

【課題】 貯蔵中において分解、変色することのない貯蔵安定性に優れたヒドロキシイソ酪酸エステルを用いる金属部品及び／または電子部品の洗浄方法を提供する。
【解決手段】 酸成分の含有量が０．５質量％以下、且つ０．００１質量％以上に調整された貯蔵安定性の改善されたα−ヒドロキシイソ酪酸メチル、α−ヒドロキシイソ酪酸エチル、α−ヒドロキシイソ酪酸プロピル、α−ヒドロキシイソ酪酸ブチル、β−ヒドロキシイソ酪酸メチル、β−ヒドロキシイソ酪酸エチル、β−ヒドロキシイソ酪酸プロピルおよびβ−ヒドロキシイソ酪酸ブチルから選ばれたヒドロキシイソ酪酸エステルを用いることを特徴とする金属部品及び／または電子部品の洗浄方法。 （もっと読む）

【課題】水溶性加工油などの水溶性汚れが付着した被洗浄物の洗浄方法において、水溶性汚れに水分が同伴された場合でも、1種類の洗浄剤で洗浄することができかつ排水量を少なくする洗浄方法を提供する。またそれに使用する洗浄剤として、オゾン層破壊等の環境上の問題が無く繰り返し使用できる洗浄剤を提供する。
【解決手段】水溶性汚れが付着した被洗浄物を洗浄するに当たり、被洗浄物を洗浄剤に浸漬して洗浄する工程（Ａ工程）と、Ａ工程で使用した洗浄剤から水溶性汚れに同伴された水分を比重差により分離する工程（Ｂ工程）を含むことを特徴とする洗浄方法。ａ）沸点１３０〜３５０℃の炭化水素が８０〜２０重量％、ｂ）沸点１３０〜３５０℃の水に微溶な極性有機化合物が２０〜８０重量％、ｃ）水分が洗浄剤組成物の飽和水分量の８０〜１００％でありかつ前記ａ）及びｂ）の合計１００重量部に対して０．０５〜３．０重量部である洗浄剤組成物。 （もっと読む）

【課題】脂肪族アルコールにアルキレンオキサイドを付加した非イオン性界面活性剤化合物において、低温流動性、非ゲル性、臭気を改善するとともに、浸透性、表面張力低下能、洗浄力、乳化力、可溶化力といった性能を充分に高く保つことができるものを提供する。
【解決手段】下記一般式（Ｉ）で示される化合物からなることを特徴とする非イオン性界面活性剤である。
Ｒ−Ｏ−（ＡＯ^１）ｐ−（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）ｑ−［（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）ｒ／（ＡＯ^２）ｓ］−Ｈ ・・・（Ｉ）
（式中、Ｒは炭素数８〜２０である脂肪族炭化水素基、ｐ、ｑ、ｒ、ｓは平均付加モル数（ｐ＝１〜５、ｑ＝１〜１５、ｒ＝１〜２０、ｓ＝１〜５）、ＡＯ^１は炭素数３または４のオキシアルキレン基、［（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）ｒ／（ＡＯ^２）ｓ］はオキシエチレン基と炭素数３または４のオキシアルキレン基との、モル比ｒ／ｓのランダム重合鎖である。） （もっと読む）

本発明は、フッ素化オレフィンと、少なくとも１つのアルコール、ハロカーボン、ハイドロフルオロカーボン、またはフルオロエーテルとを含む組成物に関する。一実施形態では、これらの組成物は共沸または共沸様である。別の実施形態では、これらの組成物は、オイルおよび／または他の残渣を表面から除去するための脱脂剤またはフラックス除去剤としてクリーニング用途に有用である。 （もっと読む）

【課題】フッ素を用いることなく、より低温下でアルミニウム系金属材料の表面を清浄化し、均一な化成皮膜を形成することができるアルミニウム系金属材料用酸性洗浄剤及びその洗浄方法を提供することを目的とする。
【解決手段】本発明によれば、特定の構造を有する有機スルホン酸を所定量含有する酸性洗浄剤を用いることにより、フッ素を用いることなく、より低温下でアルミニウム系金属材料の表面を清浄化して均一な化成皮膜を形成することができる。 （もっと読む）

【課題】低抵抗信号線、特にアルミニウム信号線を用いる液晶表示装置の製造方法において、アルミニウムの腐食を生じないとともに、洗浄力に優れている洗浄剤、及びこれを用いた液晶表示装置の製造方法を提供する。
【解決手段】本発明は、基板上に第１薄膜層を積層し、前記第１薄膜層をフォトエッチング工程でパターニングし、前記第１薄膜層が形成されている基板を洗浄し、洗浄された前記基板上に第２薄膜層を積層することを含み、前記洗浄は、超純水と、サイクリックアミンと、ピロガロールと、ベンゾトリアゾールと、メチルグリコールとを含む洗浄剤を用いて行なうことを特徴とする、薄膜トランジスタ表示板の製造方法を提供する。 （もっと読む）

【課題】冷間圧延鋼板等の鋼帯の製造工程における洗浄工程、好ましくはｐＨが５以上、更に好ましくはアルカリ洗浄工程後のリンス工程において、汚れ成分の残留・蓄積を抑止し、低温でもリンス性に優れたリンス剤組成物を提供する。
【解決手段】（ａ）臨界ミセル濃度（２５℃）が０．０７％以下の界面活性剤、（ｂ）アニオン性水溶性高分子及び（ｃ）水とを含有する鋼帯用リンス剤組成物であって、組成物中、（ａ）及び（ｂ）の合計量が特定範囲にあり、（ａ）及び（ｂ）を特定濃度で含有するリンス剤として用いるための鋼帯用リンス剤組成物。 （もっと読む）

【課題】物品を洗浄する工程において、洗浄剤中に汚れ成分の増加により発生する洗浄不良の抑制効果に優れ、洗浄剤の液寿命を飛躍的に改善する洗浄方法および洗浄装置を提供することを課題とする。
【解決手段】物品を洗浄する工程において、洗浄に先立って、汚れに対する溶解能が乏しく比重の大きい（ａ）２０℃における蒸気圧が１．３３×１０³Ｐａ以上の非塩素系フッ素化合物を含有する組成物（ｂ）によりプレ洗浄する。成分（ａ）としては、ハイドロフルオロカーボン（ＨＦＣ）及び／またはハイドロフルオロエーテル（ＨＦＥ）を用い、組成物（ｂ）は成分（ａ）を９０容量％以上１００容量％以下含有する。 （もっと読む）

【課題】酸洗液による鉄鋼材料の酸洗を促進するために実用的に使用しうる酸洗促進剤を提供する。
【解決手段】本発明の酸洗促進剤は炭酸エステル、例えば炭酸アルキレン、炭酸ジアルキルと、２，４−ヒドロキシ安息香酸とからなる群より選ばれる少なくとも１種である。本発明の酸洗促進剤および酸を含む酸洗液に鉄鋼材料を浸漬して酸洗する。例えば酸は無機酸である。酸洗促進剤の濃度は０．１ｇ／Ｌ以上、酸の濃度は１０〜５００ｇ／Ｌである。７０℃以上で酸洗する。 （もっと読む）

【課題】洗浄用溶剤を用いる場合において、その洗浄力の低下を防ぐために酸化防止剤を添加することがあるが、洗浄力の管理が容易となる洗浄用溶剤ないし洗剤を提供し、これら洗浄用溶剤ないし洗剤を用いる場合の管理方法、管理するための指示薬を提供する。
【解決手段】洗浄用溶剤及び／または洗剤にフェノール系酸化防止剤を含有させる。また、洗浄用溶剤の主成分がリモネンであり、フェノール系酸化防止剤が分子構造中に３単位以下のフェノール骨格を有するものを用いる。更に、フェノール系酸化防止剤がジブチルヒドロキシトルエンであるのが良い。管理に当たっては、洗浄作業が洗浄に供する溶液の循環浄化工程を含むもので有り、浄化に当り、活性炭層に通過させた後、さらに吸着剤層を通過させるものである。洗浄用溶剤の酸化の程度を計るためには、その一部を採取し酸化促進剤を指示薬とする滴定を行うものである。 （もっと読む）

本発明は、不飽和フッ素化炭化水素類を含む清浄組成物に関する。本発明はさらに、清浄、脱脂、脱フラックス、脱水、およびフッ素系潤滑剤を被着する方法における前記清浄組成物の使用に関する。本発明はさらに、新規不飽和フッ素化炭化水素類、および上記に列挙する方法における清浄組成物としてのその使用に関する。 （もっと読む）

ポストプラズマエッチング残渣および／またはハードマスク材料を、上記残渣を上に有するマイクロ電子デバイスから洗浄するための、酸化性水性洗浄組成物および方法。本発明の酸化性水性洗浄組成物は、少なくとも１種類の酸化剤と、第１級アミン、第２級アミン、第３級アミン、およびアミン−Ｎ−オキシドからなる群より選択されるアミン種を含む少なくとも１種類の酸化剤安定剤と、必要に応じて少なくとも１種類の共溶媒と、必要に応じて少なくとも１種類の金属キレート剤と、必要に応じて少なくとも１種類の緩衝性化学種と、水とを含む。本発明の組成物は、マイクロ電子デバイスから残渣材料を非常に効果的に洗浄しながら、同時に、同じくデバイス上に存在する層間絶縁および金属相互接続材料は損傷しない。
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少なくとも部分的に半田レジストマスクによって覆われ、かつ、銅構造体上にトップ層を備えられたプリント回路基板上のイオン性汚染物を減少するために、少なくとも一つのエタノールアミン化合物及び／またはその塩、少なくとも一つのアルコール性溶媒、及び、必要に応じて少なくとも一つのグアニジン化合物及び／またはその塩を含む水性洗浄液が用いられる。 （もっと読む）