【課題】基板の処理速度を向上させることができる基板の処理装置および処理方法を提供すること。
【解決手段】処理装置１は、基板２が槽１１内の液体Ｌに浸漬した状態で、供給口１１１から排出口１１２へ向かって液体を流す際に、鉛直方向上方側から下方側に向かって基板面に沿って流れる流体の流れを乱す手段１８を備える。 （もっと読む）

【課題】適切にマスクを清浄する方法を提供する。
【解決手段】マスクを清浄するための方法および装置が、説明される。一実施形態において、本発明は、マスクを清浄する方法である。その方法は、マスクを清浄溶液の中に配置することを含む。また、この方法は、予め定められた攪拌レベルで予め定められた時間だけ清浄溶液を攪拌することを含む。 （もっと読む）

【課題】高価で寿命の短い剥離液を使用せず、剥離後のエッチングもすることなく、連続して効率良く、ニッケルめっきが施された銅又は銅合金屑からニッケルを剥離し、ニッケルめっきが剥離された銅又は銅合金屑を銅又は銅合金の製造用原料として使用する。
【解決手段】電解反応を起すアノードとカソードを含有する硫酸鉄溶液が入った処理槽中に、表面にニッケルめっきが施された銅又は銅合金屑を浸漬し、２Ｆｅ^３＋＋Ｎｉ→２Ｆｅ^２＋＋Ｎｉ^２＋なる化学反応によりニッケルめっきを剥離すると共に、Ｆｅ^２＋→Ｆｅ^３＋＋ｅ⁻なる電解反応にて、消費されたＦｅ^３＋を再生することにより、連続的にニッケルめっきを剥離し、銅又は銅合金の製造用原料として使用する。硫酸濃度５０〜６００ｇ／ｌ、Ｆｅ濃度１〜５０ｇ／ｌの剥離液を用い、電解再生時のカソード電流が５〜１００Ａ／ｄｍ^２、アノード電流が０．０１〜１０Ａ／ｄｍ^２である時に顕著に効果を発揮する。 （もっと読む）

【課題】スループットを低下させることなく、プリント基板の配線を均一にエッチングして形成するプリント配線基板の製造方法および製造装置を提供する。
【解決手段】複数の成分を混合したエッチング液を用いてプリント基板の配線をエッチング処理して形成する工程において、エッチング処理又は待機時に消費されたエッチング液を補充するための補充薬液に対して、温度調節および攪拌を行う。 （もっと読む）

【課題】エッチング処理における水素の気泡によるエッチングのばらつきを低減させることができる、ウェットエッチング用の治具及びウェットエッチング装置を提供する。
【解決手段】本発明のウェットエッチング用の治具３は、アルカリエッチング液２に浸漬させることでエッチングがなされる基板１１を保持するものである。本発明の治具３は、治具３に保持された基板１１の表面に対して相対的に移動することで基板１１の表面上の気泡１６を除去するワイパー１３を有する。 （もっと読む）

【課題】エッチング液管理装置において、エッチング液の過酸化水素濃度をより一定にすることである。
【解決手段】過酸化水素水と、過酸化水素水より比重が大きく、銅を溶解する銅溶解液と、を含むエッチング液１１を管理するエッチング液管理装置１０は、エッチング液管理槽１２と、エッチング液を搬送するエッチング液配管５２と、エッチング液へ補給される補給用過酸化水素水を溜める過酸化水素水容器４０と、補給用過酸化水素水を搬送する過酸化水素水配管４２とを備え、エッチング液配管が鉛直方向の上端に接続され、エッチング液が流れる内管５８と、内管が挿入され、過酸化水素水配管が外周面に接続され、補給用過酸化水素水が流れる外管６０とを有する２重管５４と、外管の鉛直方向の下端に接続され、内管を流れるエッチング液と、外管を流れる補給用過酸化水素水とが合流した合流液をエッチング液管理槽へ搬送する合流配管５６とを含む。 （もっと読む）

【課題】均一なハーフエッチングが可能で、かつ再生が容易な銅および銅合金用のエッチング液を提供する。
【解決手段】塩化銅（II）を主成分とするエッチング液に、塩化銅（II）の０．５〜１．５倍のモル濃度のＮ−メチル−２−ピロリドンを含有せしめる。 （もっと読む）

【課題】タングステン又はタングステン合金を含む層や窒化チタン層を有する半導体多層積層体においても、これらの層を浸食することなく、形成されているチタン被膜を除去することが可能なチタン除去液、及びそのチタン除去液を用いたチタン被膜の除去方法を提供する。
【解決手段】本発明のチタン除去液は、フッ酸、防食剤、及び水溶性有機溶剤を含有する。防食剤としては、環内に窒素原子を２個有する含窒素５員環化合物が用いられる。 （もっと読む）

【課題】金属めっきを施す銅又は銅合金のめっき前処理として必要十分なレベルの表面状態を、むらなどの発生無く形成できる銅又は銅合金の化学研磨剤と、被めっき物としてその化学研磨剤を用いてめっき前処理を施した銅又は銅合金を用いる金属めっき方法を提供する。
【解決手段】上記課題を解決するために、銅又は銅合金表面のめっきの前処理に用いる化学研磨剤として、硫酸第二鉄、硫酸、非イオン性界面活性剤、ハロゲンイオンの各成分を含み、且つ、硫酸の含有量と硫酸第二鉄の含有量との比［硫酸の含有量］／［硫酸第二鉄の含有量］の値が１〜４である化学研磨剤を用いる。 （もっと読む）

【課題】平版印刷版原版、特に平版印刷版用支持体製造時のアルミニウム合金板表面の表面処理において使用した表面処理水溶液（酸性水溶液またはアルカリ性水溶液）を処理する際に、水酸化アルミニウムの固形分の純度の低下および着色を防止する処理方法およびその処理装置の提供。
【解決手段】マンガンおよび／またはマグネシウムを含有するアルミニウム合金板の表面処理に用いる表面処理水溶液の処理方法であって、
前記表面処理水溶液が、酸性水溶液および／またはアルカリ性水溶液であり、
前記表面処理水溶液を中和処理する中和処理工程と、
前記中和処理によって生成する中和生成物のうち、マンガンの水酸化物および／またはマグネシウムの水酸化物の少なくとも一部を除去する除去工程と、を具備する表面処理水溶液の処理方法。 （もっと読む）

【課題】化学研磨工程を含み、且つ、寸法精度を向上させて、部品の形状によらず、バリ部分を効率的に除去することが可能な金属部品のバリ取り方法、及び該方法に適した金属部品のバリ取り装置を提供する。
【解決手段】バリ取り装置１は、金属を溶解させる化学研磨液を貯留する化学研磨槽１３と、金属部品Ｗを支持し化学研磨液に浸漬させる支持具３０と、支持具３０を回転させる回転装置４０と、化学研磨液に浸漬された金属部品Ｗに向かって、化学研磨液と同一の化学研磨液を噴出させる噴出装置２０とを具備する。 （もっと読む）

【課題】非破壊検査方法等において、標準試料として必要な水素脆化チタン管を容易に作製する方法およびその装置を提供する。
【解決手段】本発明の水素脆化チタン管の作製方法は、チタン管の表面を溶液中で金属に擦り付けることを特徴とし、また作製装置は、溶液を入れる容器、該容器内に配置され、チタン管を挿入する孔を有する金属製バッフル、該金属製バッフルの孔に挿入されたチタン管の一端を保持し、回転させるための回転手段からなり、該金属製バッフルの孔の直径がチタン管外径より０．０４〜２ｍｍ大きいことを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 簡単な構成で、様々な形状および材料からなる被加工物に対して、高精度、低コストに動圧発生溝を形成する。
【解決手段】 中心孔をもつ被加工物１００’を用意し、被加工物１００’の中心孔に型２００を挿入する。空洞２０３に気体もしくは液体によって加圧し、型２００を膨張させて、被加工物１００’の中心孔と型２００を密着させる。エッチャント（図示略）が、図中のＡ方向から図中のＢ方向へ溝２０２を流動し、流出口２０２ｂから流出する。このとき、前記エッチャントは、溝２０２部分において被加工物１００’と接触してエッチングをおこない、溝２０２に沿った形状に動圧発生溝１０２を形成する。ステップＳ３０４では、空洞２０３への加圧を止めて型２００を抜き取る。 （もっと読む）

【課題】超純水中のＯＨ^-濃度を増大させれば、このＯＨ^-を利用して充分に加工することができるとの認識に基づき、超純水中のＯＨ^-を用いて被加工物の加工面に不純物を残さずに清浄な加工が行える全く新しい超純水中の水酸基による加工方法を提供する。
【解決手段】微量の不可避不純物を除き超純水のみを用い、超純水中に間隔を置いて配設した一対又はそれ以上の電極間に電流を流し、超純水を電気分解してイオン積を増大させ、この水酸基又は水酸基イオンの濃度が増大した超純水中に浸漬した被加工物を、水酸基又は水酸基イオンによる化学的溶出反応若しくは酸化反応によって除去加工若しくは酸化被膜形成加工する。被加工物がＳｉであり、その表面にＳｉ酸化膜を形成する。被加工物がＣｕであり、該Ｃｕを除去加工する。 （もっと読む）

【課題】粒子表面の不純物が除去されて滑らかな表面を有し、タップ密度が高いニッケル粒子を提供する。
【解決手段】１）弱酸及び緩衝溶液を混合してｐＨ２〜５の酸溶液を製造する段階と、２）この酸溶液とニッケル粒子とを混合する段階と、３）この混合溶液をろ過、洗浄及び乾燥させる段階と、を含む、酸溶液を用いたニッケル粒子の表面処理方法である。 （もっと読む）

【課題】 エッチング液のエッチング速度をコントロールし、液あたりの悪い部分のエッチング性を向上させ、液あたりの差によるエッチング速度差の少ないエッチング液を提供する。
【解決手段】 ベースのエッチング液と抑制剤とを含む金属のエッチング液であり、エッチング速度がエッチング液の攪拌速度に非依存または逆依存することを特徴とした金属のエッチング液である。 （もっと読む）

【課題】箔厚の肉厚を長手方向に沿って均一に加工することが出来ると共に、座屈強度のバラツキを減少させ、安定した座屈性能を得ることが出来るアルミハニカムコアの製造方法及びその装置、アルミハニカムコアの箔厚制御方法を提供する。
【解決手段】アルミハニカムコアＷの製造装置は、エッチング溶液２に金網状のバケット３内に収容したアルミハニカムコアＷの先端側から基端側に向かって一定時間に連続的に浸漬させながらアルミハニカムコアＷの箔厚ｈを制御するエッチング溶液槽１と、エッチングされたアルミハニカムコアＷを水洗浄する洗浄処理槽４と、洗浄されたアルミハニカムコアＷを水等によりデップ処理するデップ処理槽５とを作業台６上に水平で直列に設置されている。エッチング溶液槽１と洗浄処理槽４とデップ処理槽５との間には、アルミハニカムコアＷを収容した前記バケット３を保持して移送する昇降、かつ移動可能な搬送装置７が設置され、この搬送装置７は、ガイドレール９に沿って昇降するバケット３を保持するクランプ手段１０が取付けられている。 （もっと読む）

【課題】 基板面内において、エッチング量の均一化を図ることのできる基板のエッチング装置を提供する。
【解決手段】 エッチング槽１と、ガラス基板３１を保持するカセット３０と、エッチング槽１内に設けられカセット３０を保持するカセットホルダ２０と、カセット３０を保持し上下に移動してカセット３０を前記エッチング槽１から出し入れするアクチュエータ４０とを備え、カセットホルダ２０をモータ１０によりエッチング槽１内で回転させ、カセット３０をエッチング槽１に入れる姿勢に対して、カセット３０の移動する移動軸に平行に略１８０°回転した姿勢で前記カセット３０をエッチング槽１から取り出すように構成した。 （もっと読む）