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Fターム[4M112CA26]の内容

圧力センサ (26,807) | 素子の構造 (8,535) | ビーム(梁)型、重錘型素子 (4,892) | 複数個のビーム(梁)、重錘を備えるもの (184)

Fターム[4M112CA26]に分類される特許

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【課題】高感度を維持しつつエアダンピング効果を低減することのできる物理量センサを提供する。
【解決手段】加速度センサは、外部から与えられた物理量に応じて可動する可動電極4と、可動電極4の上面に対向して配置された上部固定板2aと、可動電極4の下面に対向して配置された下部固定板2bとを備え、可動電極4の上面のエアダンピング効果が高い領域4a,4bに掘り込みを形成したことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】検出精度をより向上させることのできる静電容量式センサを得る。
【解決手段】可動電極4の中央部に、一対のビーム6a、6bを結ぶ境界線Bに対して対称に窪み50を設けることで、可動電極4と固定電極20a、20bとの相対的なアライメントがmだけずれた場合であっても、それら可動電極4と固定電極20a、20bとの対向面積が変化するのを抑制できるようにした。 (もっと読む)


【課題】高感度を維持しつつエアダンピング効果を低減することのできる物理量センサを提供する。
【解決手段】加速度センサは、外部から与えられた物理量に応じて可動する可動電極4と、可動電極4の上面に対向して配置された上部固定板2aと、可動電極4の下面に対向して配置された下部固定板2bとを備え、可動電極4の下面に形成された凹部11b,11d,12を塞いだことを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】ヒンジが熱応力の影響を受けないようにし、温度特性の向上を図る。
【解決手段】方形状の縁部24を有する可動部21が、可動部21の内側に位置して可動部21と同一材料で形成されたヒンジ22により支持され、入力加速度に応じて可動部21が変位する加速度センサにおいて、ヒンジ22は縁部24の一辺24aと平行に延伸されて一直線上に位置された一対のヒンジ22よりなり、一対のヒンジ22の各一端は縁部の対向二辺24b,24cにそれぞれ連結され、一対のヒンジ22の各他端はヒンジ22と同一材料で形成された枠部31及び接続部32を介して固定部23に支持される。枠部31は固定部23のまわりに位置し、接続部32によって固定部23と連結され、接続部32はヒンジ22の延伸方向と直交する方向に設けられる。 (もっと読む)


【課題】 特に、従来に比べてスティッキング抑制効果の高いストッパ構造を有する物理量センサ及びその製造方法を提供することを目的としている。
【解決手段】 高さ方向に変位可能に支持された可動部2を有する機能層9と、前記機能層と高さ方向に間隔を空けて対向配置された対向部材30と、を有し、前記対向部材30には前記可動部と対向する位置に、前記可動部の高さ方向への変位を規制するストッパ部46,47が設けられており、前記ストッパ部は、突起基部42,43、前記突起基部の表面に形成された金属下地層44、及び前記金属下地層の表面に形成された絶縁層45の積層構造により形成されている。 (もっと読む)


【課題】レーザ光の照射を利用したエッチング加工による半導体装置の製造方法であって、複雑形状や深くて大きい除去領域等のエッチング加工が必要な広範囲の半導体装置の製造に適用可能で、高いエッチング速度が得られる半導体装置の製造方法を提供する。
【解決手段】単結晶シリコンからなる基板10に対して、焦点位置を移動させてレーザ光Lをパルス照射し、前記単結晶シリコンを部分的に多結晶化して、前記単結晶シリコン中に連続した改質層11を形成する改質層形成工程と、前記改質層11をエッチングして除去するエッチング工程と、を備える半導体装置の製造方法とする。 (もっと読む)


【課題】本発明は、X軸周り、Y軸周りおよびZ軸周りの3軸方向の角速度を検出することが出来る3軸検出角速度センサを提供することを目的とするものである。
【解決手段】この目的を達成するために、本発明の3軸検出角速度センサは、Y軸およびZ軸検出用角速度センサ素子20と別体に設けられるとともにX軸方向に延出された音叉型のX軸検出用角速度センサ素子70とを設けたため、X軸周り、Y軸周りおよびZ軸周りの3軸方向の角速度を検出することができる。 (もっと読む)


【課題】本発明は、MEMS素子をパッケージ化する際、パッケージ全体の厚さを小さくし、MEMS素子に及ぼされる基板とICとの熱膨張係数の違いによる反りによって生じる応力の影響を緩和するMEMSデバイス及びその製造方法を提供する。
【手段】本発明のMEMSデバイスは、開口を有する配線基板と、配線基板の前記開口内に配置された制御素子と、制御素子の一方の面上に配置された少なくとも1つのMEMS素子と、を具備し、制御素子は、他方の面が露出するとともに、樹脂を介して配線基板に固定されていることを特徴とする。 (もっと読む)


【課題】Q値が高く、高い検出感度を有する小型の物理量センサーおよびこれを備える電子機器を提供すること。
【解決手段】物理量センサー1は、4つの振動部51〜54と、4つの振動部51〜54の集合体の中心Oからの動径方向がX軸およびY軸の両軸に対して45度の角度を為す方向にある4つの基板固定部61〜64と、基板固定部61〜64の各々からZ軸まわりに隣接する2つの振動部へ延びた2つのバネ機構711〜742と、第1振動部51、52をX方向に逆位相で振動させつつ、第2振動部53、54をY方向に互いに逆位相で振動させる振動手段4とを有している。また、2つのバネ機構は、振動部51〜54の振動に応じて、XY平面内で音叉振動する。 (もっと読む)


【課題】簡単な構造で、かつ検出感度に優れる静電容量型加速度センサを提供すること。
【解決手段】内部に空洞10を有する半導体基板2の表面部(上壁11)に、互いに間隔を空けて噛み合うZ固定電極61とZ可動電極62とを形成する。そして、各Z可動電極62の電極部66において、半導体基板2の表面から空洞10へ向かう厚さ方向途中部まで、誘電層70を埋め込む。これにより、Z固定電極61の電極部64とZ可動電極62の電極部66とが対向することによって構成されるキャパシタに、電極間距離d1に基づく容量と、電極間距離d2に基づく容量とを付与することによって、同一キャパシタ内において、静電容量の差を設けることができる。 (もっと読む)


【課題】Q値が高く、高い検出感度を有する小型の物理量センサーおよびそれを用いた電子機器を提供すること。
【解決手段】物理量センサー1は、円環振動可能なリング部31と、4つの支持部61〜64と、支持部61〜64とリング部31の円環振動の節となる部位とを連結する4つの梁71〜72と、可動部を有しリング部31を介してX1軸向に対向配置された一対の第1質量部51、52と、可動部を有しリング部31を介してY軸方向に対向配置された一対の第2質量部53、54と、一対の第1質量部51、52および一対の第2質量部53、54のうちの少なくとも一方を第1の周波数で互いに逆位相となるように振動させる振動手段4とを有し、リング部31は、前記第1の周波数に応じて、X軸方向およびY軸方向に対して円環振動する。 (もっと読む)


【課題】MEMS素子への応力を緩和しながらMEMSデバイスのパッケージ全体の厚さを低背化できるMEMSデバイス、その製造方法、及びそれを有する半導体装置を提供する。
【解決手段】少なくとも一方の面側に第1電極部を有する基板102と、基板の第1電極部108aが配置された側に配置された制御素子であるIC110と、可動部133と、基板の第1電極部に対向し、可動部の変位を検出又は制御するための電極パッド136とを備え、電極パッドを露出させて制御素子上に配置されたMEMS素子と、基板の第1電極部とMEMS素子の電極パッドとを電気的に接続する接続部材142と、を具備し、可動部は、制御素子に覆われたMEMSデバイス。 (もっと読む)


【課題】優れた検出感度を有する物理量センサー素子および物理量センサー、および、この物理量センサーを備える電子機器を提供すること。
【解決手段】本発明の物理量センサー素子1は、基部31と、基部31からY軸方向に延出し、Z軸方向を法線とする板面を有する梁部34と、梁部34の先端部に設けられた質量部35と、梁部34の板面上に第1電極層421、圧電体層422および第2電極層423がこの順で積層され、梁部34のZ軸方向での曲げ変形を検出する検出素子42とを有し、梁部34は、Z軸方向からみたときに、基端側から先端側に向けて幅が漸減する形状をなす。 (もっと読む)


【課題】測定圧に対する感度を落とすことなく、高静圧下においても座屈せずに機能できる振動式圧力センサを実現する。
【解決手段】シリコン基板に設けられた板状のダイアフラムと、このダイアフラムに設けられた振動梁とを具備する振動式圧力センサにおいて、前記ダイアフラムの少なくとも一方の面に一方の面が接し前記ダイアフラムの周縁に沿って配置されリング状をなし前記シリコン基板よりヤング率が大で高静圧下での前記振動梁の座屈を防止する座屈防止部材を具備したことを特徴とする振動式圧力センサである。 (もっと読む)


【課題】 特に、高さ方向(Z軸方向)への検出レンジを広げることができ、さらに安定したセンサ感度を得ることが可能な薄型の物理量センサを提供することを目的としている。
【解決手段】 固定支持されるアンカ部と、高さ方向に変位する可動部2と、弾性変形可能な連結部を介して回動自在に連結された支持部3,4と、可動部2の変位を検知するための検知部36とを有している。支持部には、可動部2が高さ方向に変位したときに可動部2の変位方向に対し逆方向に変位する脚部3b,4bが設けられている。脚部3b,4bが前記可動部と高さ方向にて対向する対向部30の表面30aに当接した状態から撓んで、可動部2が対向部の表面から更に離れる方向に変位可能なように、脚部3b,4bが弾性変形可能に形成されている。 (もっと読む)


【課題】従来に比べて出力精度の向上を図ることのできる加速度センサ、及び該加速度センサを備えた加速度センサシステムを提供する。
【解決手段】MEMS技術で形成される静電容量型の加速度センサであって、基板1と、基板に対向して配置された検出フレーム21,22と、基板に対向して配置された慣性質量体5と、検出フレームに対向し基板に配置される検出電極41、42とを備え、さらに、検出電極に隣接して基板上に設けられ検出電極の出力値を補正するための補正電極101,102を備えた。 (もっと読む)


【課題】導通不良を起こしてしまうのを抑制することのできる静電容量式センサを得る。
【解決手段】静電容量式センサは、固定板2と半導体基板とを接合した際に、固定電極に形成された固定電極側金属接触部25と、半導体基板に形成された半導体基板側金属接触部13とが接触するようになっている。そして、固定電極側金属接触部25および半導体基板側金属接触部13の少なくとも互いに接触する部位をバリアメタル14で被覆するようにした。 (もっと読む)


【課題】耐荷重性をより一層向上させることのできる静電容量式センサを得る。
【解決手段】静電容量式センサ1は、絶縁基板2、3と、この絶縁基板2,3に接合されたシリコン基板と、を備えている。このシリコン基板には、絶縁基板2,3に接合されるフレーム部40と、一面に可動電極5a,6aが形成された錘部5,6と、当該錘部5,6を回動自在に支持する1対のビーム部7a,7b、8a,8bと、が形成されている。そして、1対のビーム部7a,7b、8a,8bのうちいずれか一方のビーム部7b,8bが他方のビーム部7a,8aよりも太さが太く長さが長くなるように形成されている。 (もっと読む)


【課題】 電極を保護しながら、可動部の形状精度を向上することができる製造方法を提供する。
【解決手段】 本願の半導体装置の製造方法は、まず、第3層16の一部を除去して可動部16bを形成し、次いで、可動部16bを形成するために除去された部位の下方に位置する第2層と、形成された可動部16bの下方に位置する第2層14を除去する。次いで、可動部16bを形成する際に除去された部位に充填材24を埋め込む。次いで、充填材24を埋め込んだ状態で、半導体装置の表面に電極18を形成する。電極18を形成した後、埋め込んだ充填材24を除去する。 (もっと読む)


【課題】簡易な製造方法により製造することができ、MEMS素子の特性への影響を低減できるMEMSデバイス及びMEMSデバイスの製造方法を提供すること。
【解決手段】基板と、前記基板上に配置されたMEMS素子と、前記MEMS素子を覆い、前記MEMS素子との間に空間を確保するケースと、前記基板と前記ケースとが接触又は近接する位置に前記ケースの上面の少なくとも一部を露出させて配置される封止材と、を含むことを特徴とするMEMSデバイスを提供する。また、MEMS素子を基板上に配置し、ケースにより前記MEMS素子を覆い、前記MEMS素子と前記ケースとの間に空間を確保し、前記基板と前記ケースとが接触又は近接する位置に、前記ケースの上面の少なくとも一部を露出させて封止材を形成することを特徴とするMEMSデバイスの製造方法が提供される。 (もっと読む)


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