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Fターム[4M118FA33]の内容

固体撮像素子 (108,909) | CCD、MOS型固体撮像素子の細部 (13,257) | 受光部から転送部への電荷移送 (3,593) | 素子形態 (3,076) | MOSゲート (3,041)

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【課題】チップ内の熱勾配を緩和することが可能で、ひいてはダークシェーディングを緩和することが可能な固体撮像素子およびカメラシステムを提供する。
【解決手段】第1チップは画素アレイ部が配置され、第2チップはロジック部およびレギュレータが配置され、レギュレータは、基準電圧を生成する基準電圧生成部と、複数の出力段トランジスタと、基準電圧と複数の出力段トランジスタの共通化された出力電圧を比較する演算増幅器とを含み、演算増幅器の出力は複数の出力段トランジスタのゲートに接続され、出力段トランジスタの出力経路は一つのノードに接続され、演算増幅器にフィードバックされ、複数の出力トランジスタの電源側端子は外部電源電圧が供給される供給電源端子に接続され、演算増幅器は、基準電圧と複数の出力段トランジスタのノードで共通化された出力電圧を比較して複数の出力段トランジスタのゲート電圧を制御する。 (もっと読む)


【課題】撮像画像の高画質化を実現することが可能な撮像装置、およびそのような撮像装置を備えた撮像表示システムを提供する。
【解決手段】撮像装置は、各々が光電変換素子を含む複数の画素を有する撮像部と、画素内に蓄積された信号電荷の読み出し駆動を行うと共に、画素内に蓄積された信号電荷のリセット駆動を行う駆動部(システム制御部,列走査部,行走査部)と、撮像部から出力される画像において残像が低減されるように、リセット駆動を行うタイミングを補正する補正部(リセットタイミング補正部)とを備える。撮像部の各画素において入射光に基づく光電変換がなされ、信号電荷の読み出し動作およびリセット動作がなされ、入射光に基づく撮像画像が得られる。補正部によりリセットタイミングが補正され、この補正されたリセットタイミングを用いてリセット駆動が行われることにより、残留電荷に起因する残像の発生が抑制される。 (もっと読む)


【課題】感度差の低減に有利な技術を提供する。
【解決手段】複数の画素ユニットを有する固体撮像装置において、各画素ユニットは、複数の画素と、前記複数の画素によって共用される電荷電圧変換部とを含み、各画素は、半導体基板に形成された光電変換素子を含む。前記固体撮像装置は、複数の配線層と、層間絶縁膜と、前記層間絶縁膜の屈折率よりも高い屈折率を有する材料を前記層間絶縁膜における各光電変換素子の上方に埋め込んで構成された光導波路とを含む構造部を前記半導体基板の上に有し、各画素ユニットの前記複数の画素は、第1画素と第2画素とを含み、前記第1画素の前記光電変換素子の上方に配置された前記光導波路の周辺の構造と前記第2画素の前記光電変換素子の上方に配置された前記光導波路の周辺の構造との相違による前記第1画素の感度と前記第2画素の感度との差を低減するようにダミーパターンが前記構造部に設けられている。 (もっと読む)


【課題】ランダムノイズを低減する。
【解決手段】固体撮像装置は、基板上に形成され、光電変換部(PD)と複数の画素内トランジスタとからなる画素が2次元配列された画素アレイを備え、複数の画素内トランジスタのうちの所定の画素内トランジスタの電極、具体的には、増幅トランジスタのゲート電極のみに接続されるコンタクトの基板に平行な面の形状は、略長方形または略楕円形に形成される。本技術は、CMOSイメージセンサに適用することができる。 (もっと読む)


【課題】撮像画像の高画質化を実現することが可能な撮像装置、およびそのような撮像装置を備えた撮像表示システムを提供する。
【解決手段】撮像装置は、各々が光電変換素子と電界効果型のトランジスタとを含む複数の画素を有する撮像部と、トランジスタのオン動作およびオフ動作を切り替えることにより、画素内に蓄積された信号電荷の読み出し駆動およびリセット駆動を行う駆動部とを備える。リセット駆動を1フレーム期間内で間欠的に複数回行い、トランジスタのゲートに対し、1フレーム期間の1回目のリセット駆動時には第1の電圧、他の回のリセット駆動時には、第1の電圧よりも低い第2の電圧を印加してトランジスタのオン動作を行う。各画素において光電変換がなされ、信号電荷の読み出し駆動およびリセット駆動がなされ、入射光に基づく撮像画像が得られる。リセット駆動時に生じるチャージインジェクションを低減する。 (もっと読む)


【課題】MOS型固体撮像素子において、チップ面積に対して画素領域の占める面積比率をより高めることができる。
【解決手段】第1の基板10から第n(nは2以上の整数)の基板が接続部を介して電気的に接続され、かつ段積みされた固体撮像装置であって、第m(mは1以上n以下の整数)の基板は、光電変換素子を含む画素を有する画素領域50を備え、第mの基板以外の他の基板は、画素の駆動の用に供する回路要素を有する第一垂直走査回路160と第二垂直走査回路161とを備え、他の基板の領域のうち、画素領域と垂直方向に重なる重複領域51内に、第一垂直走査回路160と第二垂直走査回路161との少なくとも一部分が配置されている。 (もっと読む)


【課題】裏面照射型の固体撮像素子の表面側のフォトダイオードと裏面側のマイクロレンズおよびカラーフィルタとのアライメント精度を向上させる。
【解決手段】裏面照射型の固体撮像素子1において、半導体基板としてのシリコン基板2の表面側に、被写体からの画像光を光電変換して撮像する複数の受光部(複数のフォトダイオード3)と、この受光部の形成時に用いた第1アライメントマークを基準にして所定位置に、シリコン基板2上の一または複数の層間膜(層間絶縁膜)を貫通してシリコン基板2に形成されたトレンチ構造の第2アライメントマーク18とを有し、シリコン基板2の裏面側に、第2アライメントマーク18を基準にして、複数の受光部のそれぞれに対応するように所定色配列のカラーフィルタ21およびその上のマイクロレンズ22がそれぞれ形成されている。 (もっと読む)


【課題】裏面照射型の固体撮像素子を備えたチップ領域が複数配列された固体撮像素子ウエハにおいて、個片化されるチップ領域のサイズを縮小し、これにより固体撮像素子の小型化を図る。
【解決手段】複数のチップ領域200と、チップ領域200を囲んで配置された分割領域300と、各チップ領域200に設けられた光電変換部20と、各チップ領域200において光電変換部20に対する受光面Aとは逆の表面側に設けられた駆動回路と、駆動回路に接続され各チップ領域200において表面側に引き出されたデバイス用端子33と、駆動回路に接続され分割領域300において受光面A側に露出された検査用端子400とを備えた固体撮像素子ウエハ100−1である。 (もっと読む)


【課題】センス回路の高速化や消費電力の増加を伴うことなく、低照度時と高照度時においてノイズの少ない高精度な撮像が可能な撮像素子およびカメラシステムを提供する。
【解決手段】光電変換素子と蓄積部と、蓄積電荷を電気信号として出力するアンプ素子とを有し、光子入射に応じて電気信号を出力信号線に出力する画素が、複数アレイ状に配置された画素アレイ部と、画素からの電気信号を受けて、所定期間における画素への光子入射の有無を判定するセンス回路を含むセンス回路部と、を有し、センス回路は、出力信号線に接続されたAD変換装置を含み、AD変換装置は、少なくともバイナリ判定である1ビット出力と多ビット解像度による階調出力の2モードで動作可能であり、少なくとも1ビット出力モードの選択時は、画素ごとに複数回の露光における出力結果が集積されて、各画素に入射した光の強度が算出される。 (もっと読む)


【課題】 BPDに濃度勾配を設ける特別なウェハプロセスを用いることなく、感度が高く規定の時間内にBPD内の信号電荷がFDに転送される光電変換回路を得る。
【解決手段】 受光領域への入射光により電荷が生成され蓄積される複数のBPDと、一方の端子に少なくとも2つの前記BPDが接続され、オン状態/オフ状態に切り替える制御信号が入力される制御端子が共通接続された少なくとも1つのTGと、各々の前記TGの他方の端子が接続され、各々の前記TGが同時にオン状態に切り替わることにより、各々の前記BPDの前記電荷が同時に転送され集約するFDとを備え、前記FDから各々の前記BPDの前記受光領域の最遠部の間の最大距離が、規定の時間内で各々の前記BPDの前記電荷の全てが各々の前記BPDから前記FDに転送される距離である。 (もっと読む)


【課題】 良好な性能を有する光電変換装置を提供する
【解決手段】 光電変換部110を覆うとともに、転送ゲート120の転送ゲート電極121の光電変換部110側の側面に沿って延在して転送ゲート電極121の上面1210を覆う第1保護膜220を備え、第1保護膜220と光電変換部110との間に、第1保護膜220の屈折率及び光電変換部110の屈折率よりも低い屈折率を有し、第1保護膜220と界面を成す第1領域11が設けられ、第1保護膜220と転送ゲート電極121の上面1210との間に、転送ゲート電極121の屈折率及び第1保護膜220の屈折率よりも低い屈折率を有し、第1保護膜220と界面を成す第2領域22が設けられており、第1領域11の光学膜厚をT、第2領域22の光学膜厚をT、光電変換部110へ入射する光の波長をλとして、T<T<λ/2−Tを満たす。 (もっと読む)


【課題】光学的な干渉を抑制することが可能な固体撮像素子を提供する。
【解決手段】半導体基体31と、半導体基体31の第1主面上に形成された、Geを含む第1半導体層32とを備える固体撮像素子30を構成する。この固体撮像素子30は、半導体基体31の第2主面に形成された転送トランジスタTr1と、第1半導体層32を含む領域に形成されたフォトダイオード33とを備える。 (もっと読む)


【課題】裏面照射型の固体撮像装置において、受光面と遮光膜との距離を小さくすることにより、光電変換部での受光特性の向上を図る。
【解決手段】光電変換部が配列形成された画素領域を有するセンサ基板と、センサ基板において光電変換部に対する受光面とは逆の表面側に設けられた駆動回路と、画素領域における受光面上に設けられた遮光膜と、遮光膜を覆って設けられた保護絶縁膜と、画素領域の外側の周辺領域において、保護絶縁膜からセンサ基板にかけて埋め込まれ駆動回路に接続された複数の貫通ビアを備えた固体撮像装置。 (もっと読む)


【課題】半導体基板の複数の異なる領域に異なる条件でイオンを注入するために必要な工程を低減する技術を提供する。
【解決手段】形成工程で形成されるレジストパターンRPは、半導体基板101を第1方向から見た場合に、隣接する蓄積領域の間に位置する分離領域を開口から露出し、半導体基板を第1方向とは異なる方向から見た場合に、1つ以上のMOSトランジスタのチャネル領域を開口から露出するとともに、分離領域を遮蔽部SDにより遮る。注入工程では、第1方向に沿って照射されたイオンが分離領域に注入され、異なる方向に沿って照射されたイオンが1つ以上のMOSトランジスタのチャネル領域に注入される。 (もっと読む)


【課題】フォトダイオードに入射する光の多様な入射角に対する対応能力を提供する。
【解決手段】3次元構造を持つイメージセンサの分離型単位画素は、半導体物質の導電型とは反対の不純物を含有しているフォトダイオード14および、前記フォトダイオードの光電荷量を外部に転送するためのパッド17を備える第1のウエハ10と、前記フォトダイオードを除いたトランジスタ構成の規則的な配列を持つ画素アレイ領域、前記画素アレイ以外のイメージセンサの構造を持つ周辺回路領域、及び前記各画素を接続するためのパッド21を備える第2のウエハ20と、前記第1のウエハのパッドと前記第2のウエハのパッドとを接続する連結手段30と、を含む。 (もっと読む)


【課題】 光電変換素子間の分離構造を適切なものとすることにより、複数の光電変換素子の信号を用いて1つの信号とする場合に所望の信号を得ることを目的とする。
【解決手段】 光電変換ユニットに含まれる光電変換素子の信号を加算する光電変換装置において、光電変換素子のそれぞれは信号電荷を収集する第1導電型の第1半導体領域を含み、光電変換ユニットに含まれ、互いに隣接して配置された光電変換素子の間には第2導電型の第2半導体領域が配され、隣接して配置された異なる光電変換ユニットに含まれる複数の光電変換素子のうち互いに隣接して配された光電変換素子の間には第2導電型の第3半導体領域が配され、第2半導体領域の不純物濃度は、前記第3半導体領域の不純物濃度よりも低い。 (もっと読む)


【課題】 生成する画像中のノイズを抑制するとともに容易に製造することが可能な固体撮像素子やその製造方法を提供する。
【解決手段】 転送トランジスタ3は、p型の基板10と、基板10中に形成され光電変換によって生じた電子を蓄積するn型の受光部21と、基板10中に形成される受光部21よりもn型不純物の濃度が高いn型の浮遊拡散領域4と、基板10上に設けられる絶縁層31と、絶縁層31上かつ少なくとも受光部21及び浮遊拡散領域4の間に設けられるn型のゲート電極32と、を備える。ゲート電極32は、浮遊拡散領域4側ほどn型不純物の濃度が高く、受光部21側ほどn型不純物の濃度が低い。 (もっと読む)


【課題】色分離が良好であり、かつ、高い感度を有する固体撮像装置を提供する。
【解決手段】表面側が回路形成面とされた半導体層11と、半導体層11内に積層されて形成された2層以上の光電変換部PD1,PD2と、ゲート電極21が半導体層11の表面15から内部に埋め込まれて形成された、縦型トランジスタTr1とを含み、2層以上のうちの1層の光電変換部PD1は、縦型トランジスタTr1のゲート電極21の半導体層11に埋め込まれた部分21Aにまでわたって形成され、縦型トランジスタTr1によって形成されるチャネルに接続されている固体撮像装置を構成する。 (もっと読む)


【課題】各撮像素子で特性が異なることを抑制することができると共に、ノイズが導入されることを抑制することができる撮像素子を提供する。
【解決手段】単結晶基板10と、当該単結晶基板10に形成された回路部20と、回路部20の一部と直接接触する状態で単結晶基板10の一面に配置された単結晶第1導電型層31と、単結晶第1導電型層31上に配置された単結晶第2導電型層33とを有するフォトダイオード30と、単結晶第2導電型層33と電気的に接続される電極35と、を備える。これによれば、単結晶基板10上に単結晶材料を用いて構成されたフォトダイオード30が形成されているため、撮像素子毎に特性が異なることを抑制することができる。 また、フォトダイオード30における単結晶第1導電型層31と回路部20の一部とを配線を介さずに直接電気的に接続しているため、ノイズが導入されることを抑制することができる。 (もっと読む)


【課題】ランプ信号の生成に容量帰還型アンプを用いても、良好なAD変換精度でAD変換を行うことができる固体撮像装置を提供することを課題とする。
【解決手段】2次元状に配列された複数の画素と、列毎に配置され画素からの信号を増幅する増幅回路と、ランプ信号を生成する参照信号発生回路と、ランプ信号及び増幅回路からの出力を用いて、画素からの信号をAD変換するAD変換回路とを備え、増幅回路が有する容量帰還型アンプ及び参照信号発生回路が有する容量帰還型アンプにて同じ構造の帰還容量を用い、かつ帰還容量と増幅器との接続関係を同じにするようにして、増幅回路及び参照信号発生回路のそれぞれの帰還容量のキャパシタンスの電圧依存性を等しくし、AD変換精度を向上させる。 (もっと読む)


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