【課題】回路面積を低減させることのできる電圧生成回路を提供する。
【解決手段】一の実施の形態に係る電圧生成回路は、第１の電圧値の第１電圧を発生させる第１の昇圧回路と、第２の電圧値の第２電圧を発生させる複数の第２の昇圧回路を含む第２昇圧回路群とを有する。複数の第２の昇圧回路は、第１の状態から第２の状態に移行する際に互いに直列に接続され第１昇圧回路とともに第１電圧を発生可能に構成されている。 （もっと読む）

【課題】微細化に対して有利な半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、半導体記憶装置は、複数のメモリセルが配置されるメモリセルアレイ１１と、前記複数のメモリセルのデータをラッチし、前記メモリセルアレイのデータの入力または出力（Ｉ／Ｏ）ごとに分割して配置される複数のアドレス領域（ＩＯ＜０＞領域〜ＩＯ＜７＞領域）と、前記複数のアドレス領域に対応して配置され、それぞれが前記複数のアドレス領域と電気的に直列に接続される内部バス配線２０と、前記内部バス配線のデータ転送を制御する制御回路１５とを具備する。 （もっと読む）

【課題】フローティングゲートへの電荷の蓄積と消去を容易に行え、またフローティングゲートの電荷を消去する場合にメモリセルの閾値を容易に制御できる、不揮発性半導体メモリ素子を提供する。
【解決手段】フローティングゲートへの電荷の蓄積時に、フローティングゲートとドレイン（またはソース）間に電圧を印加し、バンド・バンド間によるホットエレクトロンを半導体基板中に発生させ、フローティングゲートに電荷を注入する。また、フローティングゲートの電荷の消去時には、フローティングゲートとドレイン（またはソース）間に電圧を印加し、バンド・バンド間によるホットホールを発生させ、該ホットホールにより蓄積された電荷を消去する。また、フローティングゲートの電荷の消去時には、メモリセルのコントロールゲートとソース間の閾値が所望の値になるように制御しながら、電荷を消去する。 （もっと読む）

【課題】メモリ動作を可能にするために、低いまたはより低い電圧入力をより高い電圧に変換することは、変換器効率を低下させ、チャージポンプ回路のサイズおよび複雑さを増加させる。
【解決手段】メモリデバイスはデータを記憶するためのフラッシュメモリなどのコアメモリを含む。メモリデバイスは、フラッシュメモリに電力を供給するのに使用される第1の電圧を受け取るために第1の電力入力部を含む。さらに、メモリデバイスは、第2の電圧を受け取るために第2の電力入力部を含む。第2の電圧を受け取り、1つまたは複数の内部電圧を引き出すように構成された電力管理回路をメモリデバイスは含む。電力管理回路は内部電圧をフラッシュメモリに供給または伝達する。電力管理回路(例えば電圧変換器回路)によって発生され、コアメモリに供給される様々な内部電圧は、コアメモリ中のセルに関する読出し/プログラム/消去などの動作を可能にする。 （もっと読む）

【課題】 メモリアレイ上のワード線に印加される電界を低減し、チップ面積を低減可能な半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】 フラッシュメモリ１００は、メモリアレイ１１０と、メモリアレイ１１０の行方向の端部に配置され、アドレス信号に基づきメモリアレイ内の特定のメモリブロックを選択し、選択されたメモリブロックに選択信号を出力するワード線デコーダ１２０と、
メモリアレイ１１０Ａと１１０Ｂの間に配置され、選択信号に基づきメモリセルに供給される動作電圧のスイッチングを行うスイッチ回路、および選択信号を昇圧する昇圧回路を含むワード線駆動回路１３０とを有する。ワード線デコーダ１２０は、選択信号を搬送する配線WR(i)を有し、配線WR(i)は、ワード線駆動回路１３０のスイッチ回路に接続される。 （もっと読む）

【課題】ゲート面積に依存するトランジスタばらつきを抑制し、読み出し動作を高速化した半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】半導体記憶装置は、ロウ方向に延びるワード線ＷＬ、カラム方向に延びる複数のビット線ＢＬ０，ＢＬ１，ＢＬ２で構成されたビット線グループ、並びに、トランジスタからなりワード線及びビット線グループの交差部に設けられたメモリセル、を有するメモリセルアレイと、ビット線を介してメモリセルからデータを読む読み出し回路とを備え、メモリセルは、トランジスタのソース又はドレインを、ビット線グループに属する複数のビット線ＢＬ０，ＢＬ１，ＢＬ２のいずれとも接続しないか又はいずれか１本とだけ接続するかの異なる接続状態を有し、トランジスタのゲートとなるアクティブ領域ＡＡは、ビット線グループの複数のビット線ＢＬ０，ＢＬ１，ＢＬ２の配置領域及び各ビット線間のスペースに連続的に形成されている （もっと読む）

【課題】レイアウト面積の増大を抑制することができる半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】半導体記憶装置１は、２つのメモリセルアレイ１０Ｕ，１０Ｄと、それら２つのメモリセルアレイ１０Ｕ，１０Ｄで共有されるセンスアンプ３０と、メモリセルアレイ１０Ｕ，１０Ｄからのデータ読み出しを制御する制御回路５０とを有している。メモリセルアレイ１０Ｕは、ｍ本のワード線ＷＬ０Ｕ〜ＷＬｍＵと、ｎ本のビット線ＢＬ０Ｕ〜ＢＬ１５Ｕと、これらワード線ＷＬ０Ｕ〜ＷＬｍＵとビット線ＢＬ０Ｕ〜ＢＬ１５Ｕの交差点に設けられたメモリセルＭＣと、ビット線ＢＬ０Ｕ〜ＢＬ１５Ｕとダミーワード線ＤＷＬＵとの交差点に設けられたダミーセルＤＭＣとを有している。制御回路５０は、一方のメモリセルアレイからデータを読み出す場合に、他方のメモリセルアレイのダミーワード線を活性化してダミーセルによりセンスアンプ３０のリファレンスレベルを生成する。 （もっと読む）

【課題】周辺回路の面積を縮小する。
【解決手段】
複数のメモリブロックの各々には、基板に対し垂直な方向に延びるように複数のメモリストリングが配列される。各メモリストリングは、複数のメモリトランジスタ及びダミートランジスタを直列接続してなる。ドレイン側選択ゲート線及びソース側選択ゲート線は、メモリブロックが選択されるときには転送トランジスタが導通することにより電圧を制御回路から供給される一方、メモリブロックが非選択とされるときは転送トランジスタが非導通状態となることによりフローティング状態とされる。ダミーワード線は、メモリブロックが選択されるときには第１の転送トランジスタが導通することにより制御回路から電圧を供給される一方、メモリブロックが非選択とされるときは第１の転送トランジスタとは別の第２の転送トランジスタにより電圧を供給される。 （もっと読む）

【課題】容量素子が占有する回路面積の増大を抑制する。
【解決手段】メモリストリングは、複数の第１導電層、メモリゲート絶縁層、及び半導体層を有する。複数の第１導電層は、半導体基板に対して実質的に垂直方向に所定ピッチをもって配列され、メモリトランジスタのゲートとして機能する。半導体層は、複数の第１導電層と共にメモリゲート絶縁層を一方の側面で挟み、半導体基板に対して実質的に垂直方向に延び、メモリトランジスタのボディとして機能する。第１キャパシタは、複数の第２導電層を有する。複数の第２導電層は、半導体基板に対して実質的に垂直方向に所定ピッチをもって配列され、第１キャパシタの電極として機能する。制御回路は、複数の第１導電層に印加される電圧に応じて、複数の第２導電層の各々に印加する電圧を制御し、これにより第１キャパシタの容量を変化させる。 （もっと読む）

【課題】信頼性を向上することが出来る半導体記憶装置を提供すること。
【解決手段】第１メモリセルＭＣと、第１ワード線ＷＬと、第１ビット線ＢＬに流れる第１電流を検知する第１センスアンプ１２と、を具備し前記第１センスアンプ１２は、第１供給部と、検出器と、前記検出器からの出力をカウントするカウンタと、を含み、前記カウンタは、第２供給部（２２、３１、３３）と、第２蓄積部と、検知部とを具備する。 （もっと読む）

【課題】メモリセル３１が劣化した場合にも、誤り訂正回路２０の回路面積を増大させることなく誤り訂正を行うことができるメモリ装置２を提供する。
【解決手段】実施の形態のメモリ装置２は、メモリ部３０と、制御部１１と、補正部４１と、誤り検出訂正部４０とを具備する。メモリ部３０は、データを記憶する複数のメモリセル３１からなる。制御部１１は、電荷量に対応した閾値電圧を読み出すためにメモリセル３１にＨＢ読出電圧ＨＶと、補間読出電圧ＡＶと、を印加する制御を行う。補正部４１は読み出された、閾値電圧Ｖｔｈから決定されたビットデータを反転する。誤り検出訂正部４０は、補正部４１で反転されたビットデータを含めた所定長のデータ列を、硬判定復号符号により復号処理を行う。 （もっと読む）

【課題】高集積化を図ることができる不揮発性半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】実施形態に係る不揮発性半導体記憶装置は、セルの書き込みにおいて、制御装置は複数の第２の選択ゲートトランジスタに第１電位を与えた後、第１電位よりも低い第２電位を与える。複数のビット線のうち、書き込み不十分のセルに第３電位を与え、書き込み終了に間近のセルに第３電位より高い第４電位を与え、書き込みが終わったセルに第４電位より高い第５電位を与える。制御装置は、第２電位を与えた後、複数のワード線のうち選択されたワード線に書き込み電位を与え、第１電位は、第２の選択ゲートトランジスタをオンすることにより第３電位をＮＡＮＤストリングに転送する電位であり、第２電位は、第３電位をＮＡＮＤストリングに転送した後、前記第２の選択ゲートトランジスタをオフする電位である。 （もっと読む）

【課題】 不揮発性半導体記憶装置の信頼性を、より向上させる技術が望まれている。
【解決手段】 閾値レベルの相違によって少なくとも４つのデータ状態が定義され、複数のデータ状態の各々に、複数ビットで構成される値が割り当てられるメモルセルがメモリ部に複数配置される。コントローラが、メモリセルの各々が記憶する複数ビットのうち、少なくとも１つのビットを、「正常」及び「異常」のいずれかの状態を表すエラー訂正ビットとし、他のビットを、データを記憶するためのデータビットとする。複数のデータ状態を、閾値レベルの大きさの順番に並べたとき、連続する４つのデータ状態のうち、閾値レベルが最小及び最大のデータ状態のエラー訂正ビットに「正常」を割り当て、閾値レベルが中間の２つのデータ状態のエラー訂正ビットに「異常」を割り当てる。周期的にメモリセルのエラー訂正ビットのデータを読み出し、読み出された値が「異常」である場合には、当該メモリセルのエラー訂正ビットを「正常」に再設定する。 （もっと読む）

【課題】製造コストの低減に対して有利な情報処理装置及び半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】実施形態によれば、ホスト装置と、前記ホスト装置にバスを介して接続された半導体記憶装置とを備える情報処理装置であって、前記ホスト装置は、メインメモリを備え、前記半導体記憶装置は、第１の論物変換テーブル及びデータを格納する不揮発性半導体メモリと、前記第１の論物変換テーブルの一部である第２の論物変換テーブルを格納する記憶部と、前記第２の論物変換テーブルを参照し前記不揮発性半導体メモリにアクセスする制御部とを備え、前記第１の論物変換テーブルの少なくとも一部が前記メインメモリ上にコピーされ、前記第２の論物変換テーブルに前記制御部がアクセスする論理アドレス又は物理アドレスが登録されていない場合、前記メインメモリ上の第３の論物変換テーブルの一部が前記第２の論物変換テーブルにコピーされる。 （もっと読む）

【課題】正確に書き込み動作を行うことができる不揮発性半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】
複数の素子分離絶縁膜は、半導体層中に形成され、第１方向を長手方向とする。複数の素子形成領域は、素子分離絶縁膜により分離して形成される。素子形成領域にはメモリストリングが形成される。複数の素子形成領域群が素子形成領域により構成される。メモリセルアレイは、第１方向と直交する第２方向において、前記素子形成領域群の間隔が前記素子形成領域群の中の前記素子形成領域の間隔より大きくされている。制御回路は、前記メモリセルアレイに対する書き込み動作を、前記素子形成領域群ごとに実行する。 （もっと読む）

【課題】誤読み出しを抑制し、かつ高速性の向上を図る。
【解決手段】不揮発性半導体記憶装置は、２値または多値で書き込み可能なメモリセルを有する第１および第２メモリブロックＢＬＫと外部からのコマンドに応じてデータの書き込みおよび読み出しを行う制御回路８とを具備する。制御回路は、読み出し対象ブロックが第１メモリブロックである場合、第１フラグに応じて第１メモリブロックが２値であるか多値であるかを判定してその第１判定結果を記憶し、第１判定結果によって第１メモリブロックを２値または多値で読み出し、読み出し対象ブロックが第１メモリブロックから第２ブロックに変更された場合、第１判定結果を消去し、第２フラグに応じて第２メモリブロックが２値であるか多値であるかを判定してその第２判定結果を記憶し、第２判定結果によって第２メモリブロックを２値または多値で読み出す。 （もっと読む）

【課題】 ビット線選択回路の小型化を図るとともにビット線の駆動時間を高速に行うことができる半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】 フラッシュメモリ１０は、セルユニットＮＵが行列状に複数配置されたメモリアレイ１００と、セルユニットＮＵに接続されたビット線を選択するビット線選択回路２００とを有する。ビット線選択回路２００は、偶数ビット線GBL_e、奇数ビット線GBL_oをセンス回路に選択的に接続するための選択トランジスタSEL_e、SEL_o、BLSを含む第１の選択部２１０と、偶数ビット線GBL_eおよび奇数ビット線GBL_oに選択的にバイアス電圧を印加するためのバイアストランジスタYSEL_e、YSEL_oとを含む第２の選択部２２０とを有する。第２の選択部２２０のバイアストランジスタYSEL_e、YSEL_oは、記憶素子と共通のウエル内に形成される。 （もっと読む）

【課題】信頼でき、非常に小型の３次元集積回路メモリ用の構造を低い製造コストで提供する。
【解決手段】３次元アレイは第１の端部と第２の端部を含む２つの端部を有し、第１の端部と第２の端部の一方はビット線ＢＬに接続され、第１の端部と第２の端部の他方はソース線ＣＳＬに接続される不揮発性メモリセルのＮＡＮＤストリングのスタック１４１２、１４１３、１４１４と、ビット線ＢＬ及びソース線ＳＬの一方をメモリセルのストリング１４１２、１４１３、１４１４に接続させるダイオード１４９２を有する。 （もっと読む）

【課題】半導体装置の制御に好適な制御信号発生回路を提供する。
【解決手段】ジョンソンカウンタ３１は、フリップフロップＦＦ１〜ＦＦ４およびゲート回路４１〜４４を含み、順次入力されるスタート信号ＳＴ１〜ＳＴ４に応答してそれぞれ制御信号Ｃ１〜Ｃ４を「Ｈ」レベルにした後、順次入力されるストップ信号ＳＰ１〜ＳＰ４に応答してそれぞれ制御信号Ｃ１〜Ｃ４を「Ｌ」レベルにする。したがって、多数のフリップフロップを用いることなく、所望の時間間隔で制御信号Ｃ１〜Ｃ４を順次「Ｈ」レベルにし、順次「Ｌ」レベルにすることができる。 （もっと読む）

【課題】消去動作の実行単位を小さくすると共に正確な読出動作を実現可能な不揮発性半導体記憶装置を提供する。
【解決手段】一態様に係る不揮発性半導体記憶装置は、複数のメモリストリング、複数のメモリブロック、複数のソース線、及び制御回路を有する。複数のメモリストリングは、積層された複数のメモリトランジスタを含む。複数のメモリブロックは、複数のメモリストリングを含む。複数のソース線は、複数のメモリストリングそれぞれに接続される。制御回路は、複数のソース線に供給する信号を制御する。複数のメモリストリングは、各々、半導体層、電荷蓄積層、及び導電層を有する。制御回路は、メモリトランジスタに対する動作の種類に基づいて、複数のソース線を電気的に共通接続するか否かを切り替える。 （もっと読む）