【課題】光学顕微鏡による観察面の直接観察では発見しにくい、平坦で特徴の少ない面内の極小領域に規則性を持って点在する試料であった場合に、アライメントを容易にする。
【解決手段】走査電子顕微鏡の試料室外もしくは試料室内に、走査電子顕微鏡の観察面に対して斜め方向に光を照射して反射光を検出する光学顕微鏡ユニット２４を設ける。アライメントの際には、複数ある観察対象部位から任意に選択した観察対象部位で、電子顕微鏡の観察面とは異なる端面を斜めから観察した光顕画像を撮影する。撮影した画像をテンプレートマッチングの手法を用いて解析し、実画像上における観察位置の座標情報を推定する。 （もっと読む）

基板のイオン注入用のメカニカルスキャナであって、該メカニカルスキャナは、該基板を保持するための可動プラットフォームを具備する六脚を備えており、該六脚は、所定の経路に沿ってイオンビームに対して該可動プラットフォームが横断されるようにする６つの自由度を有するように配列されている。 （もっと読む）

Ｓ／ＴＥＭ分析のためにサンプルを抽出および取り扱うための改善された方法および装置。本発明の好適な実施形態は、マイクロマニピュレータと、真空圧を用いてマイクロプローブ先端をサンプルに付着させる中空マイクロプローブとを使用する。小さな真空圧をマイクロプローブ先端を通してラメラに印加することによって、ラメラをより確実に保持することができ、静電力だけを用いるよりも、ラメラの配置をより正確に制御することができる。勾配の付いた先端を有し、その長手軸線周囲に回転させることも可能なプローブを用いることによって、抽出されたサンプルをサンプル・ホルダ上に平坦に置くことができる。これによってサンプルの配置および配向を正確に制御することが可能になるので、分析の予測可能性および処理能力が大幅に増大される。
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本発明は、注入を行うべき半導体ウエハ又は他の基板の多方向機械的走査のための走査アームアセンブリに係る。本発明は、四辺形を形成するように２つのリンクアームにより接続された１対の駆動アームを備える走査アームアセンブリを提供する。隣接アームを一緒に接合するため回転接合部が設けられ、一方のリンクアームに、それが他方のリンクアームと接合するところで、基板ホルダーが設けられる。従って、それら駆動アームを回転することにより、基板ホルダーが移動させられる。それら駆動アームを適当に制御することにより、基板ホルダーがイオンビームを通して移動させられ、多くの異なるパス、ひいては、注入パターンを辿るようにすることができる。 （もっと読む）

【課題】
電子ビーム描画装置において、試料ステージの案内および駆動機構に永久磁石を用いた場合における上記永久磁石からの漏洩磁場により電子ビーム軌道が影響を受けるのを防止すること。
【解決手段】
試料ステージ１６の案内機構にエアベアリングガイド等を用い、定盤１８上に浮上したステージ１６を永久磁石１７で定盤１８側に引き付けてステージ姿勢を保持する。永久磁石１７からの漏洩磁場が試料７上への電子ビーム４の照射位置に影響を及ぼすのを避けるために、永久磁石１７をシールド部材２１で磁気シールドする。また、電子レンズ５からの漏洩磁場中をシールド部材２１が移動することによって生じる試料７上方での磁場変動を小さく抑えるために電子レンズの下方にもシールド部材２２を設ける。 （もっと読む）

【課題】微小ピクセルによる高感度検査を、ステージをスキャン移動させながら効率的に行える電子線検査装置及び方法を提供する。
【解決手段】本発明による電子線検査装置では、ステージをスキャン移動させる方向と同一の方向（水平方向）にて電子線を走査させることで、電子線の偏向周波数の限界に関係なく走査数によりステージ移動速度が調整可能となる。ステージ移動方向に帯状のエリアの画像を連続取得するときの画像取得幅は、走査ピッチ、すなわちピクセルサイズと走査数により決まるが、例えば走査数を１／２とすることによりステージ速度を２倍とすることが可能である。 （もっと読む）

【課題】本発明の目的は、試料のマスク面側と搭載面とが非平行の場合に、平行に加工する必要が無く試料作製を容易に行うことができるイオンミリング装置及びその方法を提供することにある。
【解決手段】本発明は、平面を有する試料を真空チャンバ内で試料ホルダユニットに固定してイオンビーム照射しミリング加工するイオンミリング装置において、前記試料ホルダユニットは、前記試料を前記イオンビームから遮蔽するマスクに接する前記平面に対してその裏面側の傾斜に沿って固定できる固定構造を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】集束イオンビームなどによるナノピンセットのチャージアップを防ぐ。
【解決手段】ナノピンセットホルダ１１のナノピンセット１にシールドカバー３００を被せる。これにより、ＦＩＢ装置使用時における装置から放射される集束イオンビーム、試料から放射される反射電子や二次電子によるナノピンセット１のチャージアップを防止する。シールドカバー３００は、表カバー３１０と裏カバー３２０とからなる。表カバー３１０および裏カバー３２０は、りん青銅などの金属材料からなる。 （もっと読む）

【課題】 モータ駆動によるステージ制御を行う装置において、ステージ停止後のドリフト発生を抑制する。
【解決手段】 （ａ）ステージを左から右方向に移動して停止した時、押圧部材３６は張出部２０ａの左側面３８ａに接している。（ｂ）バックラッシュ範囲を超えない範囲内で押圧部材３６が左方向に移動するようにモータを回転させる。（ｃ）次に、押圧部材３６がバックラッシュ範囲を超えない範囲内で右方向に移動するようにモータを回転させる。（ｄ）次に、押圧部材３６がバックラッシュ範囲を超えない範囲内で左方向に移動するようにモータ２８を回転させる。（ｃ）と（ｄ）の動作を数回繰り返す。 （もっと読む）

【課題】 従来の手法において、ステージ上に設置された基板に振動が伝播し、現状の半導体パターン形成装置では、基板上でサブナノメートルオーダの微少な振動が発生し、これがパターン位置精度を劣化させてしまうという難点があった。
本発明は，従来の問題に対処し、粒子線ビーム描画装置などにおいて基板上にパターンを描画するにあたり，ステージの振動低減による位置決め精度の向上を図ることにより、基板のパターン描画位置精度を向上させるようにしたものである。
【解決手段】 本発明の荷電ビーム描画装置用ステージ駆動装置は、基板の表面に半導体装置の回路パターンを形成に荷電ビーム描画装置を用い、前記回路パターン形成時に前記基板が設置されるステージの位置決めを行う荷電ビーム描画装置用ステージ駆動装置において、前記ステージ１０５の駆動が摩擦駆動で、且つ、ステージとの動力伝達部３０４を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、基板の表面に半導体装置の回路パターンを形成する手段とパターン形成時に前記基板を保持する手段とを有する半導体回路パターン形成装置において、保持基板の微少な振動を抑制し、高精度なパターン位置精度を実現した新規な半導体回路パターン形成装置にある。
【解決手段】 本発明は、基板１０１を保持する複数の保持部３０２の上部が連結され、且つ、その連結部材３０３が、基板保持部全体を支持するベース（可動ステージ上）に固定されていることを特徴とする半導体回路パターン形成装置である。 （もっと読む）

【課題】複雑な水冷配管を敷設することなく、ステージの移動方向に対向する試料室の内周面の温度をほぼ等しくして、ステージや試料の温度変動を小さくすることができる電子線を用いた装置を提供する。
【解決手段】試料室１内にはステージ１０とステージベース９が内置され、冷却手段として冷却板５０や水冷配管を備える。試料室内面の囲枠板２０は金属板で形成され、囲枠ヒーターと囲枠温度センサーを裏面側に備えて、試料室の内周面をほぼ等しい温度に制御する。 （もっと読む）

【課題】 ステージ移動機構の動作異常を検出する。
【解決手段】 電子銃１からのビームが照射される試料４を載置したステージ６、ステージ６を移動させるステージ移動機構、高さ検出器２１、ステージ駆動装置１０によりステージ６を移動させた時に高さ検出器２１が検出した試料表面の異なった箇所の高さ間の差分を算出する差分算出回路３３、基準値設定器３４からの基準値と差分算出回路３３からの各差分を順次比較し、基準値を越えた時にステージ移動機構の動作異常信号を発生する比較回路３５を備えた。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子ビームが走査する範囲とステージ移動で定まるパスの範囲を一致させて、荷電粒子ビームの照射位置の位置ずれを防ぎ、ＴＦＴ素子（ピクセル）内の荷電粒子ビームの位置精度を高める。
【解決手段】荷電粒子ビームの照射対象をマトリックス状に配置してなる試料上で荷電粒子ビームを二次元的に走査する走査ビーム装置において、照射対象のピッチサイズに応じて、荷電粒子ビームを走査する走査領域のピッチサイズを可変とする。走査状態では、走査領域のピッチサイズの可変状態と同期してステージの送りピッチおよび送り速度を可変とする。これによって、荷電粒子ビームの照射位置の位置ずれが解消され、ＴＦＴ素子（ピクセル）内の荷電粒子ビームの位置精度を高める。 （もっと読む）

【目的】本発明は、試料の画像を生成する超小型ＳＥＭに関し、中学生などの生徒さんが光学顕微鏡を使用して拡大画像を観察する場合と同様の手軽さで、試料の電子線ビームによる高倍率かつ高分解能の画像を観察することを目的とする。
【構成】筒状のカップの中に配置した電子光学系と、電子光学系によって生成して細く絞った電子線ビームを、筒状のカップの一方の部分に配置した試料上に照射しつつ平面走査し、そのときに放出あるいは反射された荷電粒子あるいは光を検出する検出器と、筒状のカップ内を真空排気する排気口とを備える。 （もっと読む）

【課題】 イオンビームと遮蔽材を用いる断面試料作製装置において、断面加工の進行状態を素早く簡単に判断し、断面作製位置の変更や修正を短時間に行えると共に、試料の内部構造を知ることができるようにする。
【解決手段】 イオンビームによって加工される試料６の断面を観察するための光学観察装置４０（断面観察手段）備え、イオンビームを照射中若しくは照射を中断した時にシャッタ４１を開けて、加工室１８内の真空を保持したまま試料６の断面を観察できる。また、試料６と遮蔽材１２の相対位置変更するための調整手段を備え、一回の断面加工が終了する毎に断面画像の取り込みと断面位置の微小移動を繰り返し、得られた複数の画像から試料６の立体画像を構成する。 （もっと読む）

【課題】既存のリターディング機能を備えた荷電粒子線装置の大幅な構造変更を極力抑えた経済的かつシンプルな構成及びシステムで、観察試料が試料室内の構造部に接触して観察試料又は試料室内の構造部が破損してしまうのを防止する。
【解決手段】リターディング機能のための直流電圧に対し、観察試料５０の試料室内の構成部に対する接触検知のためには交流電圧を用い、この観察試料５０の接触検知のための交流電圧をリターディング機能のための直流電圧に重畳して、試料室５内の試料台８に載置された観察試料５０に一緒に印加する一方、試料室内の構成部に対する観察試料５０の接触検知のためには、試料台８に印加されている印加電圧から直流電圧成分を取り除いた交流電圧成分を取り出して監視する。 （もっと読む）

【課題】 本発明は、たとえばTEMで利用される試料キャリア20及び試料ホルダ30の複合構造に関する。当該試料キャリアは、本明細書では当該試料ホルダとは別個に実施されている。たとえそのような複合体がすでに知られているとしても、その既知の複合体は非常に壊れやすい構造である。
【解決手段】 本発明に従った試料キャリアは金属細片から形成されて良い。当該試料キャリアは単純でかつ安価な素子である。弾性力を利用することによって、当該試料キャリアは当該試料ホルダに固定される。当該試料キャリアが結合する当該試料ホルダの一部もまた単純な形状を有する。当該試料キャリアは、結合ツールを用いることにより、当該試料ホルダと真空中で結合して良い。 （もっと読む）

【課題】ステージを高速移動しても低振動であり、ステージ停止時のドリフトが小さく、高精度の位置決めを行える電子顕微鏡装置およびブレーキ機構に関する。
【解決手段】ステージ１１０をブレーキングするブレーキ機構は、電子顕微鏡装置１に具備される。ブレーキレール１０２は、ステージ１１０が移動可能な方向に沿って敷設されている。２つのピエゾ素子１０４，１０４は、ブレーキレール１０２の両側に位置するようにステージ１１０に備えられている。ステージ駆動装置５０は、これらのピエゾ素子１０４，１０４への印加電圧を変化させ、ステージ１１０の停止時、これらのピエゾ素子１０４，１０４が伸長し、ブレーキレール１０２を押圧するようにする。 （もっと読む）

【課題】高精度の位置決めを短時間で行え、測定対象物の像逃げが発生しないステージを提供する。
【解決手段】案内部２６を備えたベース２５と、案内部２６に沿った移動方向３８に移動するテーブル２７と、テーブル２７を移動させるために移動方向３８に運動をする運動部２９と、この運動をテーブル２７に伝達させる伝達部３１とを有する試料載置用のステージにおいて、伝達部３１は、テーブル２７に固定されたテーブルブロック３３と、運動部２９に固定された運動ブロック３２とを有し、テーブルブロック３３と運動ブロック３２とは、運動をする際には移動方向３８の前後２箇所で接し、運動をしない際には離れている。 （もっと読む）