【課題】 プローブ先端の３次元的座標を迅速に把握する。
【解決手段】 第１の荷電粒子顕微鏡による顕微鏡画像３５及び第２の荷電粒子顕微鏡による顕微鏡画像３６を同時に又は切り替えて表示する画像表示手段と、第１の荷電粒子顕微鏡、第２の荷電粒子顕微鏡、ステージ制御系及びプローブ駆動機構を制御する計算処理部とを有し、計算処理部は、試料上の目標位置２３とプローブ６の先端とが入った第１の荷電粒子顕微鏡の顕微鏡画像と、試料上の目標位置とプローブの先端とが入った第２の荷電粒子顕微鏡の顕微鏡画像とから、目標位置に対するプローブの先端の３次元的な相対位置を求める。 （もっと読む）

【課題】 試料の検査効率を向上することのできる荷電粒子ビーム装置及び荷電粒子ビーム装置の制御方法を提供する。
【解決手段】 試料室８と、ビーム照射手段６ａと、回転ステージ１２を有するステージ機構１３と、制御部２３とを備えた荷電粒子ビーム装置において、回転ステージ１２により試料９を回転させたときに、試料９又は試料保持具の端部と試料室内側面とが接触することのない回転ステージ１２の回転中心の位置範囲を求める演算部２４と、回転ステージ１２の回転中心位置が前記位置範囲内にあるか否かを判定する判定部２７とを有し、ステージ機構１３の駆動により回転ステージ１２の回転を行う際に、当該回転中心位置が当該位置範囲の外のあると判定部２７が判定したときには、当該回転中心位置が当該位置範囲内に位置するように回転ステージ１２を移動させる。 （もっと読む）

【課題】イオンビームで研磨された試料を固定した試料ホルダはSEM試料台支持部に取り付けるに際して試料ホルダとＳＥＭ試料台支持部との間に取り付けのために用いられて来た中間材を設けることなく取り付けることができ、以って両者間の距離を短くし、試料ホルダをＳＥＭ試料台支持部に近接配置できるようにする。
【解決手段】試料ホルダ２３に試料３の研磨されて観察される面の裏側の面に、ＳＥＭ試料台支持部に設けたおねじ部５３に直接ねじ挿入されるめねじ穴５２を設け、当該おねじ部を当該めねじ部に直接ねじ挿入することによって、試料を固定した前記試料ホルダをSEM試料台を介さずに直接ＳＥＭ試料台支持部に固定される。 （もっと読む）

【課題】 ステージ動作中の試料の位置ずれに対処して、高い検査精度を得る検査装置を提供する
【解決手段】 本発明の検査装置は、試料表面に設けられた複数のパターンを電子ビームを利用して検査する検査装置であって、一次コラム、二次コラム、および検出器を備える。一次コラムは、試料表面に一次ビームを照射する電子銃を有する。二次コラムは、試料表面から発生する二次電子を捕獲する。検出器は、二次電子を検出する。以上の構成において、二次コラムは、二次電子の回転角度を調整するための偏向器を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【課題】 観察像から測定点を選択し、接近した少なくとも２点間の電気抵抗の測定が行える電子顕微鏡の試料ホルダを提供する。
【解決手段】 ２つの電流測定用のプローブ１ａ、１ｂを搭載したレバー２ａ、２ｂが、支点となる球体３にＶ溝11ａ、11ｂで接している。マイクロメータヘッド13ａ、13ｂでレバー２ａ、２ｂを押すとプローブ１ａ、１ｂはＸ方向に移動し、引くとばね16ａ、16ｂにより押し戻されて−Ｘ方向に移動する。マイクロメータヘッド14ａでレバー２ａを押すと、プローブ１ａは球体３を支点とする回転運動によりＹ方向に移動し、引くとばね16ａにより押し戻されて−Ｙ方向に移動する。プローブ１ｂのＹ軸方向移動はマイクロメータヘッド14ｂを同様に操作して行う。プローブ１ａ、１ｂのＺ軸方向の移動も、マイクロメータヘッド1５ａ、15ｂを同様に操作して行うことができる。 （もっと読む）

【課題】 表面観察分析装置において、目的とする観察・分析部位の位置決めを簡単且つ正確に行えるようにする。
【解決手段】 スキャナ16等の画像取込手段から、試料表面の全体又は一部について種類の異なる少なくとも二つの画像を画像読込手段17により読み込み、読み込まれた画像の座標系と試料ステージ10の座標系を座標演算手段18によって対応させる。種類の異なる少なくとも二つの画像は、切替え表示または並べて表示または重ね合わせ表示が行える。座標指定手段19により表示されている画像上の所望の座標位置を指定すると、試料ステージ10の対応する座標位置に試料上の観察・分析位置が移動する。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子線の光学系の光軸に垂直な平面内、もしくは少し傾斜した平面内における回転機構をもった装置の回転操作に伴って発生する観察・加工位置の移動の補正を簡便かつ高精度に実現すること。
【解決手段】荷電粒子線装置における試料ホルダー、絞り装置、バイプリズムなどの、当該回転機構の２次元位置検出器とコンピュータ制御による駆動機構を利用し、さらにコンピュータの演算能力を利用することによって該平面内の回転に伴う移動量を演算によって求め、これを相殺させる様に駆動、制御を行なう。また、ひとつの入力によって複数の回転機構を互いに関連をもって操作させる。 （もっと読む）

【課題】 イオンビームにより試料体が切除されて観察断面が更新された際に、観察断面に対する電子ビームの焦点を合わせるようにする。
【解決手段】 試料体２００にイオンビームＩＢを照射して観察断面２０２を形成するイオン銃１０２と、イオン銃１０２により形成された観察断面２０２に電子ビームＥＢを照射する電子銃１０４と、観察断面２０２と電子ビームＥＢの焦点との関係を調整する焦点調整部１０６と、イオン銃１０２のイオンビームＩＢの照射による試料体２００の切除量に基づいて、焦点調整部１０６を制御する焦点制御部１０８と、を備えた。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子ビーム走査手段を備えた複数種類の真空チャンバ装置に対応した静電潜像形成装置、静電潜像測定装置を提供し、静電潜像のビームプロファイルの定量化および再現性を評価可能とする。
【解決手段】複数種類の真空チャンバ装置に対応する、一個の共通真空ステージ取り付け部５４を設け、共通真空ステージ取り付け部５４の一方面にステージ移動手段を設け、反対面に真空装置取り付け中間部材５２を当接させ、複数種類の真空チャンバ装置に取り付け可能とした。複数種類の真空チャンバ装置に対応する真空チャンバ装置取り付け中間部材５２の一方面は共通真空ステージ取り付け部５４と当接し、他方の面には駆動手段６４および構造体７０が配置され、共通真空ステージ取り付け部５４よりも外形が大きく、真空チャンバ装置取り付け基準面が略同一となるように、２重構造となっている。 （もっと読む）

【課題】 本発明はステージ位置補正方法及び装置に関し、動的システムとして信号出力の定常特性だけでなく、過渡特性に関する時間応答において、ディジタル演算の空間分解能を達成することができるステージ位置補正方法及び装置を提供することを目的としている。
【解決手段】 ステージ位置情報に基づいて作成したステージ位置補正信号を、鏡筒の電子偏向系に出力指令値として伝達する場合において、電気信号伝播に伴う時間遅延をディジタル演算にて補正する遅延遅れフィルタと、該遅延時間遅れフィルタを用いて、ＬＢＣ出力指令値と実際に必要なＬＢＣ補正値との時間的なずれを改善する改善手段とを設けて構成される。このように構成すれば、過渡特性に関する時間応答において、ディジタル演算の空間分解能を達成することができる。 （もっと読む）

【課題】 位置決め精度が向上し、寿命も長くなり、スムーズな作動が得られ、振動や騒音が発生しないステージ傾斜機構を提供することを課題とする。
【解決手段】
対物レンズ１０５の光軸Ｏと直交し、回転可能に支持された軸１１５、１１７と、試料１０７が載置され、軸１１５、１１７に設けられた試料ステージ１１２と、軸１１５、１１７に設けられたウォームホイール１３１と、ウォームホイール１３１に噛合するウォーム１４１と、ウォーム１４１を回転駆動するモータ（駆動源）１３５とを有する試料ステージ傾斜機構において、試料ステージ１１２が水平な状態から試料ステージ１１２が一番傾いた状態までの間、ウォーム１４１の歯には常に同じ方向の力が作用するにように軸１１５、１１７に対して試料ステージ１１２を設け、ウォーム１４１の歯面に作用する力が減少する方向に、ウォームホイール１３１を押すエアシリンダ（押し手段）１５１を設ける。 （もっと読む）

【課題】 イオンミリングは、試料断面の鏡面研磨に有効な方法であるが、マスクと試料の位置あわせが、イオンミリング装置の試料ホルダ固定具の上では構造上の制約で容易でなかった。
【解決手段】 試料３を固定した試料ホルダ２３とその回転機構およびマスク２とその微調整機構とが一体になった試料マスクユニット本体２１を備え、この試料マスクユニット本体２１を試料ホルダ固定具５に取り付け、取り外し可能、且つ、真空チャンバの外部へ取り出し可能にした。これにより、試料マスクユニット本体を別の高性能の顕微鏡下に設置して、試料の鏡面研磨したい部位とマスクの位置関係を精度良く設定することができる。 （もっと読む）

【課題】 被加工物を外部に出さずに、容易に移し変えて効率良く加工を行うこと。
【解決手段】 予め決められた範囲の観察領域Ｗ内で被加工物Ｄ、Ｌを観察しながら集束ビームＢを照射して被加工物Ｄ、Ｌを加工する際に用いられるものであって、被加工物Ｄ、Ｌを上面２ａ、３ａにそれぞれ載置可能な載置台２、３を複数有するテーブル１０と、載置台２、３をそれぞれ上面２ａ、３ａに垂直なＺ軸回りに回転させると共に、上面２ａ、３ａを任意の角度に傾斜させる回転傾斜手段１１とを備え、テーブル１０が、観察領域Ｗ内に、複数の載置台２、３をそれぞれ配置させるように移動可能とされている加工用ステージ４を提供する。 （もっと読む）

【課題】ピッチが異なる複数セル領域を有するウエハに関して、そのパターン検査を効率よく実施する手段の提供。
【解決手段】セルピッチの異なる複数のセル領域Ａ及びＢそれぞれの左上と右下座標並びにセルピッチをレシピ情報として設定し、この設定に従って取得した両領域の画像データを記憶手段４５に記憶しておき、演算部４８がこれらのデータを、(1)位置ずれ検出部(2)欠陥判定部(3)欠陥解析部からなる画像処理回路４６に入力対して処理結果を欠陥データバッファ４７に出力するという一連の制御を全体制御部４９によって行う検査システムを構築する。 （もっと読む）

【目的】本発明は、台を一定方向に移動させるステージに関し、ステージを駆動する超音波モータの部分を別空間にして当該空間内で発生した微粉を集塵し、微粉のステージ上の試料への付着を完全に防止することを目的とする。
【構成】 ステージを構成する台を一定方向に移動させる、超音波電圧を印加した圧電素子で移動させると共に摩擦力で固定するステータとロータとから構成される駆動ユニットと、駆動ユニットを構成するステータとロータとの接触部の全体を閉空間で囲み、発生した微粉の飛散を当該閉空間内に閉じ込めるケースとを備えたステージである。 （もっと読む）

【課題】 面内均一性に優れたプラズマドーピング装置及びプラズマドーピング方法を提供する。
【解決手段】 プラズマ形成空間ＰとウェーハＷとの間にマスク部材５を介在させ、このマスク部材５に形成されているドーピング用開口５Ａを介してイオンをウェーハＷへ導入する。マスク部材５のドーピング用開口５Ａは、ウェーハＷの被処理面の一部の領域をプラズマ形成空間Ｐに露出させ、当該領域にのみプラズマ中のイオンを注入させる。ウェーハＷを支持するステージ４は、ステージ移動機構６，７によってマスク部材５に対して平行移動するよう構成され、これにより、ウェーハＷの全面に対してイオンを均一に導入することができるようになる。 （もっと読む）

【課題】
大気環境と、大気とは異なる環境とを隔てるハウジングの剛性に関わらず、高精度な移動を実現できる駆動装置を提供する。
【解決手段】
連結部材１２が、フレーム１の上板１ｂと、真空チャンバＣの頂板下面Ｃ２とを連結するが、フレーム１と真空チャンバＣの側面とを連結しないので、真空チャンバＣの内外で生じる差圧に従い、比較的大きな変形が、真空チャンバＣの側面で生じた場合でも、かかる差圧がフレーム１に与える影響を低く抑えることができる。又、真空チャンバＣの側面で変形が生じた場合、真空チャンバＣの底面Ｃ１と頂板下面Ｃ２との距離が変化することになるが、連結部材１２の薄板部材１２ｃがたわむことによって、底面Ｃ１と頂板下面Ｃ２との距離の変化に対応できるようにしている。 （もっと読む）

【課題】
大気環境と、大気とは異なる環境とを隔てるハウジングの剛性に関わらず、高精度な移動を実現できる駆動装置を提供する。
【解決手段】
モータ９を真空チャンバＣの外側即ち大気環境側に取り付けることによって、真空チャンバＣの内部においてアウトガスが発生することを抑制でき、更に、真空チャンバＣを間に介在させることなく、フレーム１にモータ９を取り付けているので、大気圧との差圧に基づいて真空チャンバＣが変形した場合でも、その影響を回避して高精度の位置決めを実現できる。 （もっと読む）

【課題】
試料から分析や観察に必要な部分のみの試料片を短時間に摘出でき、かつ安定した試料像の観察または精度の高い試料の加工ができる試料作製装置を提供する。
【解決手段】
試料室と、該試料室内に設置される試料ステージと、該試料ステージにセットされた試料から摘出した試料を載置する、該試料ステージに載置された試料ホルダと、前記試料ステージにセットされた試料に集束イオンビームを照射する集束イオンビーム照射光学系と、を備えた試料作製装置であって、前記試料ホルダを前記試料ステージと独立して移動させる試料ホルダ移動機構を備えた試料作製装置。 （もっと読む）

【課題】
真空装置内でプローブを操作するマニピュレータにおいて、小型で広範囲に移動でき精度が高く、かつマニピュレータの駆動手段（アクチュエータ）の長寿命化が期待できる試料観察装置，集束イオンビーム装置を提供すること。
【解決手段】
試料を載置する真空室と、該真空室内で移動可能なプローブと、該プローブを移動させるプローブ駆動手段と、該プローブ駆動手段の負荷を軽減する負荷軽減手段と、を備え、かつ該負荷軽減手段の軽減力を前記プローブの位置の情報に基づいて変化させる制御手段を備えた試料観察装置。 （もっと読む）