【課題】誤った欠陥検知または、検査感度の損失を引き起こすことのない基材支持の装置及び方法を提供する。
【解決手段】ステージミラー１１０に対する基材チャック１０６の変位を感知し、ステージミラーへ結合されているＺステージアクチュエータ１２６及びＸＹステージアクチュエータ１４６、１４８のうちの一方又は両方を有する１つ以上のフィードバックループにおける変位に比例する信号を結合することによって、ステージミラーに対する基材チャックの運動が動的に補償される。これに代えて、基材支持装置は、Ｚステージプレート1１２、ステージミラー１１０、Ｚステージプレートへ取り付けられている１つ以上のアクチュエータ、及びステージミラーへ取り付けられている基材チャックを含み得る。基材チャックは基材チャックの６つの運動自由度に対する拘束を有する。 （もっと読む）

本発明は新規な作動可能容量性変換器を提供するものであり、伝送電子顕微鏡（ＴＥＭ）において初めて定量的インシッツのナノ・インデントを可能とする。定量的インシッツのＴＥＭナノ・インデント技術は、定量的な力／変位曲線を得るために試料をインデントすることと、インデント処理中における試料の変形態様を示す一連のＴＥＭ画像を同時に映像化／記録することを含む。この同時処理能力により、例えば、力／変位曲線の特定の過渡的な特徴と試料の微細構造における突然の変化との直接的な相互関係を得ることができる。
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【課題】本発明の目的は、良品から不良品への経時変化を同一試料、同一視野で追跡し、不良発生のメカニズムを観察することのできる内部構造観察用又は電子顕微鏡用の試料ホルダーを提供することにある。
【解決手段】本発明は、内部構造観察用の試料ホルダーであって、試料ホルダー本体と、複数本の探針と、試料を保持する試料保持台を有し、前記探針及び試料の少なくとも一方を移動可能とする圧電素子と、前記探針に接続され、前記試料に電圧を印加する配線を有することを特徴とする。 （もっと読む）

【目的】本発明は、真空中で試料を搭載して平面内の任意の場所に移動するステージに関し、真空内部にマイクロスイッチなどの汚染物質を放出する部品を設置することなく、かつスイッチがステージに接触時に発塵することを無くし、クリーンなステージを実現することを目的とする。
【構成】ステージを平面内で移動させたときに限界位置内のときに外部から照射された光ビームを反射し、限界位置を超えたときに外部から照射された光ビームを反射しなくなる反射鏡と、真空外部から反射鏡に向けて光ビームを照射し、反射してきた光ビームを検出するセンサと、センサから光ビームを反射鏡に向けて照射させ、反射光が検出されなくなったときに限界位置を超えたと検出する手段とを備える。 （もっと読む）

【目的】本発明は、ステージの座標を変換するステージ座標変換方法、ステージ座標変換装置、およびステージ座標変換プログラムに関し、目的座標を中心に近傍かつ周囲の３点の座標の対を参照して正確に座標変換し所望の座標に極めて精度良好に位置づけることを目的とする。
【構成】 ステージに搭載した測定対象物上の複数の基準点の座標とそのときのステージの座標との対を予め測定して登録したテーブルを参照し、指示された測定対象物上の座標を中心に、近傍かつ周囲の少なくとも３点をもとに、ステージの座標に変換するステップと、変換した後のステージの座標をもとに、当該ステージを指示された測定対象物上の座標の場所に移動するステップとを有する。 （もっと読む）

【課題】 荷電粒子線装置における制御対象デバイスの設定値の変更スピード（単位時間あたりの変更量）を動的に制御することにより、最適な設定値を探索するときの操作性を向上させること。
【解決手段】
グラフィックユーザーインターフェース３２は、ユーザーがその位置を移動操作可能なように設けられたマーカーを有するスライダーを備える。マーカーの基準位置からの変位量に応じてデバイス設定値の変更スピードが変化する。ユーザーがスライダー上のマーカー位置の移動操作をアクティブにすると、取得したマーカーの基準位置からの変位量を変換手段３５により変更スピードの値に換算する。この換算値に基づいたコマンドをタイマー３７で設定した一定時間間隔でデバイス３１に送信する。マーカー位置の移動操作がアクティブな間、再取得されたマーカーの基準位置からの変位量に基づいて更新したコマンドをデバイス３１送信する処理を継続する。 （もっと読む）

【課題】迅速で正確な観察視野内への観察位置の移動を可能とする。
【解決手段】試料ステージ移動後に顕微鏡観察視野内でのチップパターン上での目標位置と視野内所定位置との位置差を検出する手段と、その結果を記憶する手段と、次回の観察から当該位置への移動に際して、先に記憶された位置の差と前回までに採用されていた移動目標位置とを考慮して新たな移動目標位置を決定する手段を備える。先と同じパターンを同じ配列で焼き付けされた別のウェーハ又は先と同じウェーハ上のパターンの観察を行うときに、対応する観察位置に登録された前回までの観察視野位置ずれ量を考慮して前回までの試料ステージへの移動目標指示位置に変更を加え、その指示位置に従い試料ステージを移動させる。 （もっと読む）

【課題】筋引きの少ない良好な観察用断面を作製することができるとともに、スループットを向上させることが可能な集束イオンビーム装置、及び、良好な観察用断面を作製して、正確な観察像を得ることができる試料の断面加工・観察方法を提供する。
【解決手段】集束イオンビーム装置１は、試料Ｓを載置する試料台２と、試料台２を水平面上の二軸及び鉛直軸の三方向に移動させることが可能な三軸ステージ３と、試料Ｓに対して集束イオンビームＩ１、Ｉ２を照射する第一の集束イオンビーム鏡筒１１及び第二の集束イオンビーム鏡筒１２とを備え、第一の集束イオンビーム鏡筒１１及び第二の集束イオンビーム鏡筒１２は、互いの集束イオンビームＩ１、Ｉ２の照射方向が、平面視略対向するとともに、側方視鉛直軸に対して略線対称に傾斜するように配置されている （もっと読む）

【課題】温度変化によって膨張、収縮したとしても保持している試料の位置を変化させること無く、正確に位置決め、保持することが可能な試料保持機構、及び、この試料保持機構を備えた試料加工・観察装置に提供する。
【解決手段】試料加工・加工観察装置１は、試料保持機構２０を備えている。試料保持機構２０は、試料Ｓを保持する試料ホルダ２１と、試料ホルダ２１を着脱可能に支持するベース２２とを備える。これらの間には、回転可能に支持する回転支持部２７と、回転中心２７ａからＸ方向に向って摺動可能に支持するスライド支持部２８と、Ｘ方向及びＹ方向に摺動可能に支持する当接支持部とが、着脱可能に設けられている。上面２１ａには、回転中心２７ａからＹ方向及びＸ方向に沿って配置され、試料Ｓの一辺Ｓ１及び他辺Ｓ２に当接するＸ方向位置決めピン３１及びＹ方向位置決めピン３２が設けられている。 （もっと読む）

【目的】加速度がかかった状態での試料の位置ずれを低減或いは補正した装置を提供することを目的とする。
【構成】本発明の一態様の試料移動機構１７０は、試料１０１を水平方向に加速移動させる試料移動機構であって、水平方向に加速移動する支柱２３２と、支柱２３２上に配置され、略重心高さ位置で支柱２３２に支持された台座２１２と、台座２１２の略重心高さ位置に自己の重心高さ位置が配置されるように台座２１２に接続された、レーザー測長用のレーザーを反射する反射ミラー２１４と、を備えたことを特徴する。本発明によれば、台座２１２と反射ミラー２１４の変形を防止することができるので高精度な試料１０１の位置を測長することができる。 （もっと読む）

【課題】ＦＩＢ加工とＳＥＭ観察の繰返しによる加工断面の奥行き方向のＳＥＭ観察において、加工断面の奥行き方向への移動に伴うＳＥＭ観察の観察視野ずれとフォーカスずれを容易に回避する。
【解決手段】イオンビームを試料の特定箇所に照射して加工・作製し、かつ、イオンビーム軸に対して斜め交差軸方向から電子ビームを照射して走査顕微鏡（ＳＥＭ）画像により試料断面を観察する試料作製・観察方法において、所望の立体加工はステージ移動を利用して行い、所望の観察面はＳＥＭからみて常に一定位置に保持されるようにして、ＳＥＭのフォーカスと観察視野を再調整することなく連続的に（あるいは繰返し）断面を観察し三次元解析する。 （もっと読む）

【課題】装置を大形化すことなく、描画誤差、或いは検査誤差に繋がるステージ反力を除去し、安価で高精度な描画、及びスループットの高い検査が可能となる荷電粒子線装置を実現する。
【解決手段】電子線描画装置のベース３０上にはＸテーブル３１がＸ方向に移動可能に配置され、Ｘテーブル３１上にはＹテーブル３２がＹ方向に移動可能に配置される。ベース３０とＸテーブル３１との間にはマステーブル３３が配置され、Ｘテーブル３１の移動方向とは反対方向に移動される。試料の描画方向であるスキャン方向をＸ方向とし、ステップ移動方向をＹ方向とする。これにより、Ｘテーブル３１の移動による水平方向の振動が抑制され、装置を大形化することなく、描画誤差、或いは検査誤差に繋がるステージ反力が除去される。 （もっと読む）

【課題】 視差を利用した焦点補正システム等、画像ペアの位置ずれを元に補正
値を求めるシステムの性能は位置ずれ解析法に大きく依存する。しかし従来採用
された位置ずれ解析法は解析精度が１画素以下にならない、解析結果の信頼性を
検証する機能が無い、バックグラウンド変化の影響を受け易い等の問題点があっ
た。
【解決手段】 位置ずれ解析法として、画像ペアS1(n,m)とS2(n,m)のフーリエ変
換像間の位相差画像P’(k,l)を計算し、該画像の逆フーリエ変換像上に現れるδ
的なピークの重心位置から求める方法を採用する。
【効果】 位置ずれ解析精度が１画素未満になるので焦点解析精度が向上する。
もしくは同じ解析精度を得るために必要な画素数を削減する事ができる。δ的な
ピークの強度で解析結果の信頼性を評価できる。位相成分を用いるのでバックグ
ラウンド変化の影響を受け難い。以上の性能向上によって未熟練者でも熟練者と
同等の補正が可能となる。 （もっと読む）

【課題】試料がデュアルビーム粒子光学装置においてより均一に処理されることを可能にするステージ組立体を提供する。
【解決手段】ステージ組立体は、第一軸Ａ１に沿う第一照射ビームＥを発生するための第一源と、ビーム交差地点で前記第一軸と交差する第二軸Ａ２に沿う第二照射ビームＩを発生するための第二源と、試料を載置し得る試料テーブル２１と、基準面に対して垂直なＸ軸、基準面と平行なＹ軸、及び、基準面と平行なＺ軸と実質的に平行な方向に沿って前記試料テーブルの平行移動をもたらすために配置された一組のアクチュエータとを備え、該一組のアクチュエータは、Ｚ軸と実質的に平行な回転軸ＲＡについての試料テーブル２１の回転と、Ｚ軸に対して実質的に垂直なフリップ軸ＦＡについての試料テーブルの回転とをもたらすようさらに配置されること。 （もっと読む）

【課題】 振動の影響を受けにくい荷電粒子線装置の試料移動装置を提供する。
【解決手段】対物レンズ４０に剛に固定された試料ホルダ支持体駆動手段により前後に移動させる試料ホルダ支持体１７を、試料ホルダ１１に一定の接触力にて接触させて振動を低減し、高い解像度あるいは高い加工精度が得られるようにする。また、試料ホルダ１１と試料ホルダ支持体１７との間に電圧を印加し、試料ホルダ１１と試料ホルダ支持体１７との間に流れる接触電流Iが一定に維持されるように、試料ホルダ支持体駆動手段を支持体制御部２４により制御する。 （もっと読む）

【課題】試料ステージ停止時における熱ドリフトや振動によるノイズを抑えるとともに、位置決め時間の短縮を行う。
【解決手段】試料ステージ３は、Ｘ滑り案内部材７を備えたベース４と、Ｘ滑り案内部材７に沿って移動するセンターテーブル５と、このセンターテーブル５を駆動するＸロッド９により構成され、センターテーブル５のガイド部１１とＸロッド９との結合部にギャップ１２を設けている。また、制御装置１００は、レーザ干渉計１９等の位置検出器による測定値を監視し、指定した停止位置でセンターテーブル５の駆動を停止させ、次にギャップ１２を用いてテーブル５とＸロッド９との結合を分離させる位置制御を行う。 （もっと読む）

【課題】 大口径ウェハ用の探針移動機構ならびにサイドエントリ型試料ステージを試料作製装置、不良検査装置に適用することで、小型で従来と同等の操作性を有する試料作製装置、評価装置を提供する。
【解決手段】 探針ならびにサイドエントリ型試料ステージを、上記イオンビーム照射光学軸とウェハ面の交点を通る傾斜角を持って真空容器を大気開放することなく真空容器に出し入れ可能とする真空導入手段を配した探針移動機構およびサイドエントリ型試料ステージ微動機構用い、さらにサイドエントリ型試料ステージの試料ホルダの試料片設置部分をウェハ面と平行とする回転自由度を有したサイドエントリ型試料ステージを用いる。
【効果】
真空容器の容積が必要最小限の設置面積の小さい小型で使い勝手の優れた、大口径ウェハ用の試料作製装置、評価装置が実現できる。 （もっと読む）

【課題】薄型化を図ることができるＸＹステージを提供するものである。
【解決手段】ＸＹステージＳは、平坦な面を有し、相対向して設けられる第１、第２のプレート１、２と、第１のプレート１に取り付けられ、第１のプレート１のＸ軸方向に移動させる第１の移動手段３と、第１のプレート１に取り付けられ、第１のプレート１の前記Ｘ軸方向に直交するＹ軸方向に移動させる第２の移動手段５と、第１の移動手段３により移動し、第２のプレート２に取り付けられた第１の移動体４と、第２の移動手段５により移動し、第２のプレート２に取り付けられた第２の移動体６とを備えているものである。 （もっと読む）

【目的】本発明は、サーボ制御により搭載した、荷電粒子線ビームを走査して画像を生成する対象の試料の位置を制御するステージおよびステージ停止位置補正方法に関し、ステージのサーボ制御停止時に微小移動を高精度に検出し、荷電粒子がステージ上の試料を照射する位置をリアルタイムに補正し、画像上でステージの停止位置を応答時間短く、機械的振動や変位等がなく、かつ高精度に補正することを目的とする。
【構成】 サーボ制御の停止時にステージの位置の移動を高精度に検出する検出装置と、検出装置で検出された位置の移動量をもとに、試料に照射する荷電粒子線ビームの位置を補正する補正手段とを備えたステージである。 （もっと読む）

【課題】荷電粒子顕微鏡に用いるステージについて、機械駆動する超音波モータを構成するステータとロータの接触部分の近傍に光を照射して発生した微粉によって散乱したを光をもとに微粉をリアルタイムに検出および警報を発する。
【解決手段】 ステータとロータとの接触部分あるいは近傍に光を照射する光源と、光が接触部分あるいは近傍に発生した微粉によって散乱された光あるいは散乱されない光を検出し、電気信号として検出する受光素子とを有するステージである。 （もっと読む）